公开(公告)号：CN109860313A

公开(公告)日：2019-06-07

申请号：CN201910132185.4

申请日：2019-02-22

Applicant: 中国科学院半导体研究所

Inventor： 马静 ,  刘雯 ,  马哲 ,  宋培帅 ,  赵永强 ,  杨富华 ,  王晓东

IPC: H01L31/0216 ,  B82Y30/00

Abstract: 一种基于纳米锥团簇结构的太阳电池减反射膜及其制备方法，所述太阳电池减反射膜所述表面为纳米锥团簇结构，纳米锥在单位平方微米面积内的数量为5至7个，纳米锥的高度为800至1000nm；其厚度在200μm-500μm之间；其制备方法，包括：步骤A：制备含有V型槽的模板；步骤B：配制PDMS溶液；步骤C：在步骤A所制备的模板上旋涂脱模剂；步骤D：将配置好的PDMS溶液倾倒于步骤C旋涂脱模剂后的模板上，并完全没过模板；步骤E：将覆有PDMS溶液的模板放入真空容器中进行抽气；去除模板上PDMS溶液中的气泡；步骤F：将去除了气泡的PDMS溶液的模板放入烘箱中进行退火；以及步骤G：将退火之后固化的PDMS从模板上揭下，完成基于纳米锥团簇结构的太阳电池减反射膜的制备。