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公开(公告)号：CN101055249A
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：CN200710099494.3
申请日：2007-05-23
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 单面刻槽表面等离子体生化传感器，由照明器、传光光纤、传感检测箱、照明光束整理系统、被测样品、纳米光栅基片、检测光学系统、单色仪、光电倍增管、数码转换器和计算机等部分组成，被测样品涂放于纳米光栅基片上，由照明器传光光纤射入传感检测箱的照明光，经照明光束整理系统整理照明被测样品，涂放有被测样品的纳米光栅基片产生了表面等离子体共振和局域化表面等离子体共振(LSPR)，其反射光通过检测光学系统和单色仪检测由光电倍增管接收转换为放大的电信号，再转换为数字信号后送入计算机，检测出生化样品的种类。该传感器传感灵感度高，结构简单、调整使用方便，易于应用推广。
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公开(公告)号：CN1916747A
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN200610113049.3
申请日：2006-09-08
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 非线性光学器件损伤检测装置，由激光器、入射光滤光片、样品承片台、被测样品、样品多自由度调整台、出射光滤光片、遮挡罩、激光功率计和信号探头组成，激光器射出的激光通过入射光滤光片滤光，射到被测样品的入射面上，经被测样品倍频后的倍频光，从样品的射出面射出，再经倍频光滤光片滤光，垂直射入激光功率计探头，被激光功率计接收并测量显示出倍频光的光强值，再与未放置被测样品和出射光滤光片时检测的光强值相比，可求得倍频转换效率，测得被测样品在使用前后的转换效率变化，则可判断被测样品的损伤或损坏情况。本发明的被测样品的位置由多自由度调整台准确迅速调整，调整结构简单方便，检测装置对环境条件要求低，而测量精度高，易于广泛应用。
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公开(公告)号：CN1651962A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN200510011330.1
申请日：2005-02-07
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 深紫外投影光刻物镜，包括外层的恒温密封外套、中间层和内层结构，中间层为镜筒，由第一镜筒和第二镜筒用连接件连接而成，内层为十个光学透镜元件及十个分隔固定光学透镜元件的透镜框组件，十个光学透镜元件组成的光学系统为双远心系统，在内层的十个光学透镜元件之间设有分辨力增强组件，分辨力增强组件将十个光学透镜元件分为前后二组物镜，前组物镜由第一至第四透镜组成，后组物镜由第五至第十透镜组成，分辨力增强组件的光栏面既是前组物镜的像方焦面，也是后组物镜的物方焦面，同时也是光学系统的光瞳面。本发明具有分辨力增强能力，克服了现有投影光刻物镜光刻分辨力只能实现传统光学极限分辨力的不足，同时还具有结构简单、成本低、光学缩小倍率大、大幅降低制作超微细掩模难度的特点，使之能制作更高分辨力微细图形。
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公开(公告)号：CN1506761A
公开(公告)日：2004-06-23
申请号：CN02153955.3
申请日：2002-12-09
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20 , G03F7/30 , H01L21/027
Abstract: 一种无掩模纳米图形制作方法及其制作装置，由真空室、亚稳态原子发生器、漏勺、平板电极、光阑、激光束、平面反射镜和工件台等构成，它利用带有小孔的光阑对亚稳态原子流进行准直，形成平行原子束，利用激光驻波场使亚稳态原子束形成横向空间周期分布，亚稳态原子在沉积时会破坏吸附在基底表面的自组装单分子膜，结合湿法刻蚀技术可制作不同材料的纳米图形。本发明不需要掩模与曝光系统，可以节约大量设备和仪器，成本相对低廉，可广泛应用于纳米图形制作、纳米材料和纳米器件等的研究和开发。
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公开(公告)号：CN1117270C
公开(公告)日：2003-08-06
申请号：CN99117304.X
申请日：1999-10-14
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01M11/00
Abstract: 本发明公开了一种光刻物镜分辨力与传函测试装置，它克服了现有物镜测试仪器只能测试尺寸重量小、测试时可卧倒放置、精度较低的常规小型物镜的缺点。它由减振基板、大支架、照明系统、测试板、显微物镜和CCD接收器连接而成的图象接收器、显示器和存储示波器组成，被测光刻物镜竖直放置在支架水平台上，通过更换装置的垫块和照明系统，方便地测试各种共轭距、尺寸重量、工作波长的需要竖直测试的高分辨力光刻物镜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101295031B
公开(公告)日：2010-11-24
申请号：CN200810115461.8
申请日：2008-06-24
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 双频磁响应负磁导率金属复合结构材料由第一金属复合结构组或第二金属复合结构组在基底上按周期T排列或多组交错排列构成，金属复合结构组包含L形悬臂、金属条、支撑臂、空气层或介质层；其中一种双频磁响应负磁导率金属复合结构材料的制作方法包括以下步骤：(1)用微细加工工艺技术制作出金属条；(2)用台阶阴影法进行定向蒸发，制作出牺牲层；(3)用上述相同的定向蒸发制作出L形悬臂和支撑臂；(4)最后用湿法腐蚀或者等离子体灰化技术除去牺牲层。本发明所述材料不仅实现了可见光和近红外波段双频磁响应负磁导率，而且特征尺寸也足够大，用30纳米-百纳米级微细加工工艺即可实现制作。
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公开(公告)号：CN101566721A
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：CN200910009369.8
申请日：2005-02-07
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 深紫外投影光刻物镜，包括外层的恒温密封外套、中间层和内层结构，中间层为镜筒，由第一镜筒和第二镜筒用连接件连接而成，内层为十个光学透镜元件及十个分隔固定光学透镜元件的透镜框组件，十个光学透镜元件组成的光学系统为双远心系统，在内层的十个光学透镜元件之间设有分辨力增强组件，分辨力增强组件将十个光学透镜元件分为前后二组物镜，前组物镜由第一至第四透镜组成，后组物镜由第五至第十透镜组成，分辨力增强组件的光栏面既是前组物镜的像方焦面，也是后组物镜的物方焦面，同时也是光学系统的光瞳面。本发明具有分辨力增强能力，克服了现有投影光刻物镜光刻分辨力只能实现传统光学极限分辨力的不足，同时还具有结构简单、成本低、光学缩小倍率大、大幅降低制作超微细掩模难度的特点，使之能制作更高分辨力微细图形。
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公开(公告)号：CN100549819C
公开(公告)日：2009-10-14
申请号：CN03123573.5
申请日：2003-05-29
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明是金属掩模板，它由基板加上表面或下表面或上下表面图形相同的铬和金或铜或银或铝金属薄层图形构成，借助光照射具有微细图形结构金属掩模板产生波长很短的等离子波，穿过纳米图形孔和缝传播性质，使一般波长或长波长光穿过纳米金属掩模进行光刻。克服了现有铬掩模版的纳米图形制作技术复杂，同时又由于受衍射极限的限制，不能被一般波长或长波长光穿过，无法进行光刻的缺点。用193—1000nm波长激光照明，也可光刻制作出纳米量级的图形。
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公开(公告)号：CN100498526C
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN200510130612.3
申请日：2005-12-15
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 多铰链纳米压印压模倾斜校正机构，由上连接套(1)、上铰链(2)、下铰链(3)、压模(5)和压模卡盘(4)组成，上连接套(1)与上铰链(2)的铰链座连接，下铰链(3)的铰链座与上铰链(2)的上中间框连接，下铰链(3)的下中间框与压模卡盘(4)连接，下压力通过上连接套、上下铰链和压模卡盘作用在压模上，压模(5)向下与基片压紧时，上下铰链产生微转动，自动调整压模(5)和基片(6)两者的不平行，由于x、y两方向倾斜校正旋转中心都位于压模的下表面中心，压模下压转动而带来横向移动很小，使纳米压印套准精度大幅提高，制作出复杂多层的纳米图形结构和器件。
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公开(公告)号：CN101295031A
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：CN200810115461.8
申请日：2008-06-24
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 双频磁响应负磁导率金属复合结构材料由第一金属复合结构组或第二金属复合结构组在基底上按周期T排列或多组交错排列构成，金属复合结构组包含L形悬臂、金属条、支撑臂、空气层或介质层；双频磁响应负磁导率金属复合结构材料的制作方法包括以下步骤：(1)用微细加工工艺技术制作出金属条；(2)用台阶阴影法进行定向蒸发，制作出牺牲层或介质层；(3)用上述相同的定向蒸发制作出L形悬臂和支撑臂；(4)最后用湿法腐蚀或者等离子体灰化技术除去牺牲层。本发明所述材料不仅实现了可见光和近红外波段双频磁响应负磁导率，而且特征尺寸也足够大，用30纳米－百纳米级微细加工工艺即可实现制作。
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