GaN基HEMT器件潜径迹表征用测试结构及表征方法

    公开(公告)号:CN111722075A

    公开(公告)日:2020-09-29

    申请号:CN202010611079.7

    申请日:2020-06-30

    Abstract: 本发明涉及半导体技术领域,具体公开了一种GaN基HEMT器件潜径迹表征用测试结构及表征方法,结构包括底座、导电连接层及扫描探针。底座用于放置GaN基异质结构,GaN基异质结构包括沿远离底座方向依次层叠设置的GaN缓冲层、势垒层以及欧姆接触层,其中,GaN缓冲层和势垒层之间形成有二维电子气,欧姆接触层与二维电子气连通;导电连接层连接底座与欧姆接触层;扫描探针由底座引出,并连接势垒层,以在扫描探针与底座之间形成电回路,扫描探针用于沿势垒层表面扫描并在预设的偏压条件下获取势垒层中潜径迹的表征结果。通过上述测试结构能够快速准确地验证GaN基异质结构的势垒层中是否存在潜径迹,当存在潜径迹,可获取其表征结果,实现对潜径迹的有效表征。

    α粒子发射率测试方法
    17.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113568031B

    公开(公告)日:2023-11-03

    申请号:CN202110654904.6

    申请日:2021-06-11

    Abstract: 本发明涉及电子器件可靠性技术领域,公开了一种α粒子发射率测试方法,包括获取测试样品;对测试设备的背底噪声进行调试,使得测试设备的α粒子发射率小于设定值;利用完成调试的测试设备对测试样品进行α粒子发射率测试,并对测试到的α粒子进行计数;当α粒子的计数达到目标计数时结束测试,并获取测试数据;对测试数据进行分析和处理。通过在对测试过程前通过背底噪声调试来降低环境噪声和设备自身发射α粒子本底对测试结果的影响,在测试完成后通过数据分析来进一步确定超低本底电子材料的测试样品的实际α粒子发射率。利用上述α粒子发射率测试方法可以实现对超低本底电子材料的测试样品α粒子发射率、能谱的准确测量,提高试验准确度。

    半导体器件总剂量辐射试验装置与方法

    公开(公告)号:CN114994483A

    公开(公告)日:2022-09-02

    申请号:CN202210379063.7

    申请日:2022-04-12

    Abstract: 本申请涉及一种半导体器件总剂量辐射试验装置与方法,包括与控制模块连接的真空试验箱、辐射应力模块与温度应力模块,被试验器件设置于真空试验箱;控制模块根据被试验器件的器件类型获取被试验器件所需的预设总剂量辐射应力与预设温度应力,并根据预设总剂量辐射应力输出辐射试验指令至辐射应力模块,根据预设温度应力输出温度试验指令至温度应力模块;辐射应力模块根据辐射试验指令对被试验器件进行总剂量辐射试验;温度应力模块根据温度试验指令对被试验器件进行高低温试验,为复杂辐射环境下的半导体器件提供更准确的地面模拟评估试验环境,避免过高估计其在复杂辐射环境下的寿命而导致使用时提前进入磨损期,发生性能参数异常与失效。

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