一种采用微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的方法

    公开(公告)号:CN107164740B

    公开(公告)日:2019-05-07

    申请号:CN201710334072.3

    申请日:2017-05-12

    Abstract: 本发明公开一种采用微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的方法,属于晶体合成技术领域。该方法中,基片台置于微波等离子体化学气相沉积金刚石膜装置反应腔体内的水冷台上,其结构包含用于放置沉积基底的中心凹槽、环形外凸出部、环形内凸出部、介于内外凸出部之间的环形凹槽及位于外凸出部外侧的外表面。该基片台独立于反应腔体及水冷台,用于放置沉积基底并在其上方形成均匀稳定的电场及等离子体分布,提高所制备的金刚石膜的均匀性,同时能够有效防止基片台非沉积区域生成的杂质溅射至沉积基底上污染金刚石膜。本发明具有设计制作简单、能够制备大面积金刚石膜、适合于制备不同尺寸及厚度的金刚石膜、制备的金刚石膜品质高等优点。

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