公开(公告)号：CN112313778B

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN201980040672.6

申请日：2019-06-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 相原明德

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明的一方式的基片清洗方法包括成膜处理液供给步骤、剥离处理液供给步骤和疏水化液供给步骤。成膜处理液供给步骤将含有挥发成分的用于在基片(W)上形成膜的成膜处理液(L1)供给到基片(W)。剥离处理液供给步骤对由于挥发成分的挥发而使成膜处理液(L1)在基片(W)上固化或者硬化从而形成的处理膜(F)，供给使处理膜(F)从基片(W)剥离的剥离处理液(L2)。疏水化液供给步骤对被供给了剥离处理液(L2)后的基片(W)，供给使基片(W)疏水化的疏水化液。

公开(公告)号：CN112313778A

公开(公告)日：2021-02-02

申请号：CN201980040672.6

申请日：2019-06-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 相原明德

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明的一方式的基片清洗方法包括成膜处理液供给步骤、剥离处理液供给步骤和疏水化液供给步骤。成膜处理液供给步骤将含有挥发成分的用于在基片(W)上形成膜的成膜处理液(L1)供给到基片(W)。剥离处理液供给步骤对由于挥发成分的挥发而使成膜处理液(L1)在基片(W)上固化或者硬化从而形成的处理膜(F)，供给使处理膜(F)从基片(W)剥离的剥离处理液(L2)。疏水化液供给步骤对被供给了剥离处理液(L2)后的基片(W)，供给使基片(W)疏水化的疏水化液。

公开(公告)号：CN107437517A

公开(公告)日：2017-12-05

申请号：CN201710375222.5

申请日：2017-05-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 关口贤治 ,  菅野至 ,  相原明德 ,  立花康三

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/04 ,  B08B7/0014 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67017

Abstract: 提供一种基板清洗方法、基板清洗系统以及存储介质。不会对由与水发生反应而发生溶解或腐蚀的材料形成的基板的表面产生影响地将附着于基板的异物去除。实施方式所涉及的基板清洗方法包括以下工序：成膜处理液供给工序，向基板供给含有挥发成分且用于在基板上形成膜的成膜处理液；剥离处理液供给工序，对成膜处理液因挥发成分挥发而在基板上发生固化或硬化所形成的处理膜供给使处理膜从基板剥离的剥离处理液；以及溶解处理液供给工序，在剥离处理液供给工序之后，对处理膜供给使处理膜溶解的溶解处理液。在此，成膜处理液含有极性有机物，剥离处理液是不含水分的非极性溶剂，溶解处理液是不含水分的极性溶剂。

公开(公告)号：CN104637784A

公开(公告)日：2015-05-20

申请号：CN201410641257.5

申请日：2014-11-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 相原明德 ,  田中晓 ,  金子都 ,  田内启士 ,  折居武彦 ,  菅野至

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/0206 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明提供一种基板清洗方法、基板清洗系统。不给基板的表面带来影响就能够去除已附着于基板的粒径较小的异物。实施方式的基板清洗方法包括成膜处理液供给工序、剥离处理液供给工序和溶解处理液供给工序。在成膜处理液供给工序中，将含有挥发成分并用于在基板上形成膜的成膜处理液向基板供给。在剥离处理液供给工序中，向处理膜供给用于使处理膜自基板剥离的剥离处理液，该处理膜是成膜处理液因挥发成分挥发而在基板上固化或硬化而成的。溶解处理液供给工序在剥离处理液供给工序后，在溶解处理液供给工序中，向处理膜供给用于使处理膜溶解的溶解处理液。

公开(公告)号：CN209747470U

公开(公告)日：2019-12-06

申请号：CN201920574963.0

申请日：2019-04-25

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 相原明德 ,  金子都 ,  折居武彦 ,  菅野至

IPC: H01L21/67

Abstract: 本实用新型提供一种基板清洗系统，其能够抑制图案的坍塌以及基底膜的侵蚀，并且能够除去附着于基板的微粒，具有：第1处理部，其包括保持基板的第1保持部和第1供给部，第1供给部设置于第1保持部的上方，向基板供给包含挥发成分的用来在基板的主面整体形成膜的处理液；以及第2处理部，其包括保持基板的第2保持部以及第2供给部，第2供给部设置于第2保持部的上方，向基板供给溶解全部的膜的除去液并向基板供给冲洗液，膜是第1供给部向基板供给的处理液在挥发成分挥发后而在基板上固化或硬化所形成的，冲洗液从基板上除去残留在基板上的溶解后的膜以及除去液；以及背面清洗部，其向第2保持部所保持的所述基板的背面中心供给清洗液。