公开(公告)号：CN1682339A

公开(公告)日：2005-10-12

申请号：CN03822079.2

申请日：2003-09-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 三枝秀仁 ,  高濑均 ,  三桥康至 ,  中山博之

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32431

Abstract: 本发明提出了用于等离子体工艺系统的一种改进的挡板，其中挡板的设计和制作在工艺空间内方便地提供了一个均匀的工艺等离子体，以及基本上最小地腐蚀挡板。

公开(公告)号：CN1445826A

公开(公告)日：2003-10-01

申请号：CN03119377.3

申请日：2003-03-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 高濑均 ,  长山将之 ,  三桥康至 ,  中山博之

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B08B7/04 ,  B24C1/003 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明提供一种彻底清洗等离子加工装置中待清洗元件表面上的沉积物的方法，不会有任何已经在待清洗元件表面上形成的阳极涂层或喷雾涂层的损伤。这种清洗方法包括浸入有机溶剂(例如丙酮)的化学清洗步骤(a)；接着吹入压缩空气，以便去除已经由化学处理过的缓冲板(14)脱落的沉积物的步骤(b)；接着，通过采用CO2鼓风装置(105)鼓风物理清除残留在缓冲板(14)边缘的沉积物，和缓冲板(14)浸入纯水(104)，并给予超声振动清除保留在缓冲板(14)上的沉积物的f步骤。