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公开(公告)号：CN102636961A
公开(公告)日：2012-08-15
申请号：CN201110036695.5
申请日：2011-02-12
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种旋转光刻机，所述旋转光刻机包括：主框架；用以承载硅片的硅片台，所述硅片台设置于所述主框架内；用以将曝光图形成像于硅片上的曝光装置，所述曝光装置与所述主框架连接；所述硅片台绕其中轴作水平旋转；所述曝光装置沿所述硅片台作水平向移动。本发明提供的旋转光刻机减小了光刻机机台尺寸，进一步的，减少了生产空间的占用，降低了生产成本。
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公开(公告)号：CN102466975A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201010535266.8
申请日：2010-11-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种连杆驱动工件台系统，包括工件台，所述工件台通过气浮轴承设置在基台上；它还包括连杆机构，所述连杆机构的一端与所述的工件台活动连接，另一端与参照体活动连接；所述连杆机构至少一端还设置有驱动电机，所述驱动电机通过连杆机构带动工件台运动。本发明结构简单、制造成本低。
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公开(公告)号：CN102162500B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201110058574.0
申请日：2011-03-11
Applicant: 华中科技大学 , 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供了一种结构紧凑、集成度高的精密主动减振装置，它适用于需要进行微幅振动抑制的小质量精密加工（测量）设备。该装置主要包括既能感受振动又能对振动进行抑制的压电块结构、压电块提供垂向预压力的折叠弹簧以及提供垂向被动隔振的柔性铰链。其中，压电块可以采用垂直布置，也可以采用45度倾斜布置，采用倾斜布置的压电块结构可以同时测量和抑制水平向振动和垂向振动。另外，一种实现水平面隔振的减振装置可以提供360度水平面的振动隔离，其内部采用线切割加工出螺旋线形槽。水平面隔振减振装置与垂向精密主动减振装置结合使用，既可以主动抑制垂向振动，又可被动隔离水平振动。
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公开(公告)号：CN102162500A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201110058574.0
申请日：2011-03-11
Applicant: 华中科技大学 , 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供了一种结构紧凑、集成度高的精密主动减振装置，它适用于需要进行微幅振动抑制的小质量精密加工（测量）设备。该装置主要包括既能感受振动又能对振动进行抑制的压电块结构、压电块提供垂向预压力的折叠弹簧以及提供垂向被动隔振的柔性铰链。其中，压电块可以采用垂直布置，也可以采用45度倾斜布置，采用倾斜布置的压电块结构可以同时测量和抑制水平向振动和垂向振动。另外，一种实现水平面隔振的减振装置可以提供360度水平面的振动隔离，其内部采用线切割加工出螺旋线形槽。水平面隔振减振装置与垂向精密主动减振装置结合使用，既可以主动抑制垂向振动，又可被动隔离水平振动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101195465B
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN200710173576.8
申请日：2007-12-28
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 袁志扬
Abstract: 本发明公开了一种滚动支撑千斤顶，其包括底座(4)、位于底座(4)上的可提升轴、位于底座(4)上外螺纹处的升降套筒(6)以及位于可提升轴顶端的顶端滚子，所述的顶端滚子包括一个或一组安装在钢球底座上的大钢球，所述钢球底座的沟槽内有可循环滚动的小钢球，所述的升降套筒(6)有内螺纹和外圆孔，所述的可提升轴包括所位于底座(4)上的滑动套筒(3)和位于滑动套筒(3)内部并位于底座(4)上的螺杆(5)。该滚动支撑千斤顶能在零件被支撑的情况下，实现定位。
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公开(公告)号：CN101581347B
公开(公告)日：2011-01-19
申请号：CN200910053600.3
申请日：2009-06-23
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: F16F15/023 , G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种减振支撑装置及采用该减振支撑装置的光刻机。该减振支撑装置包括支撑板、与该支撑板相对设置的气浮块、主气缸，该支撑板包括基板、设置在该基板四周的侧壁和设置在该基板中心位置的导向孔，该气浮块包括挡板、设置在该挡板四周的侧壁和设置在该挡板中心位置的导向杆，该导向杆和该导向孔相配合形成一静压空气轴承，该支撑板的侧壁和该气浮块的侧壁通过波纹管密封连接，该支撑板、该气浮块、该波纹管和该主气缸所围空间内充满压力气体，形成一空气弹簧。本发明中装配在光刻机下的减振支撑装置不会产生旋转运动、制造成本低。
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公开(公告)号：CN101165595B
公开(公告)日：2010-05-19
申请号：CN200710045582.5
申请日：2007-09-04
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 袁志扬
Abstract: 本发明的精密平衡减振硅片台运动系统，主要由沿基台上下两侧对称设置的硅片台运动装置和反向平衡运动装置组成。硅片台运动装置设有硅片承载台及与硅片承载台相连接的第一受控运动单元，其能根据预先规划的运行行程使硅片承载台产生相应方向位移。反向平衡运动装置包含与承载台(包括被承载物体)的质量特性完全相同的模拟件，与该模拟件相连接且与第一受控运动单元相似的第二受控运动单元，以及镶嵌在基台内的动量轮运动单元。第一和第二受控运动单元分别在第一和第二控制单元的控制下做完全反相的运动，动量轮系统在第二控制单元的控制下完成力矩平衡运动。由此可实现系统力和力矩的精密平衡，降低了系统减振的难度，提高了系统的定位精度。
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公开(公告)号：CN101609263A
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200910055189.3
申请日：2009-07-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种光刻机硅片台的移动装置及采用该移动装置的光刻机。该光刻机硅片台的移动装置包括：支撑该光刻机硅片台的支撑板；设置于该支撑板的与该硅片台相对一侧的气囊；设置于该支撑板的与该气囊同侧的气垫装置；设置于该支撑板的与该气囊同侧的滚轮；向该气囊内充气，该气囊支撑该支撑板及该光刻机的硅片台，当移动该光刻机硅片台时，该气囊释放气体的同时打开该气垫装置，该气垫装置形成的气垫支撑该支撑板及该硅片台，该光刻机硅片台的移动装置利用该滚轮将该硅片台移出或移入该光刻机。采用本发明的硅片台移动装置的光刻机的硅片台的移入移出过程更加简单，能够确保硅片台与光刻机支撑框架的准确定位，并减少地面振动对硅片台的干扰。
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公开(公告)号：CN100526993C
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN200710041226.6
申请日：2007-05-25
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻机工件台平衡定位系统，其包括基础框架、长行程模块、平衡质量系统、Y向平衡块防漂系统、X向平衡块防漂系统、测量系统，其中长行程模块包括两个Y向长行程电机和两个X向长行程电机，长行程模块建立在平衡质量系统之上；所述平衡质量系统包括两个Y向平衡块和一个X向平衡块，平衡质量系统建立在基础框架上；Y向平衡块防漂系统安装在Y向平衡块与X向平衡块之间，用于补偿两个Y向平衡块相对X向平衡块的漂移；X向平衡块防漂系统安装在X向平衡块与基础框架之间，用于补偿X向平衡块在X、Y和Rz向的漂移；测量系统用于测量各长行程电机和平衡块的位置、速度和加速度。与现有技术相比，通过平衡块的平衡作用，可以提高系统的定位精度。
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