公开(公告)号：CN211330396U

公开(公告)日：2020-08-25

申请号：CN201922065267.X

申请日：2019-11-26

Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司

Inventor： 赵文波 ,  闫法领 ,  赵乾伟

IPC: B08B1/02 ,  G03F7/20

Abstract: 本实用新型公开了一种清洁装置及光刻设备，该清洁装置包括：安装架、动力元件、连接件和清洁石，动力元件设置在安装架上，连接件包括活动板和连接杆，活动板的一端与动力元件的输出轴连接，连接杆的一端连接至活动板的另一端，连接杆的另一端与清洁石连接。上述的清洁装置能够提高吸盘清洁效率，提高光刻设备产率。相应地，本实用新型还提供一种光刻设备。

公开(公告)号：CN222580402U

公开(公告)日：2025-03-07

申请号：CN202421372620.3

申请日：2024-06-14

Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司

Inventor： 葛华 ,  刘月 ,  闫法领 ,  赵文波

IPC: G03F7/20 ,  F16F15/04

Abstract: 本实用新型提供一种碰撞缓冲吸能装置、运动台系统及光刻机；碰撞缓冲吸能装置包括：主体结构和弹性体；弹性体包括上层弹性体和下层弹性体；主体结构包括沿垂向依次设置的上定子结构、中间动子结构和下定子结构；上、下定子结构之间刚性连接；中间动子结构延伸超出上、下定子结构的四周；上层弹性体设置在中间动子结构和上定子结构之间，上层弹性体的两端分别与上定子结构和中间动子结构连接；下层弹性体设置在中间动子结构和下定子结构之间，下层弹性体的两端分别与下定子结构和中间动子结构连接；上层弹性体与下层弹性体空间交叉布置；如此配置，可避免运动台高速运动发生碰撞而导致的部件损坏，同时减小内部占用空间，缩减碰撞行程。

公开(公告)号：CN214670086U

公开(公告)日：2021-11-09

申请号：CN202121172855.4

申请日：2021-05-28

Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司

Inventor： 赵文波

IPC: G03F7/20

Abstract: 本实用新型涉及光刻设备制造技术领域，尤其涉及一种柔性吸附组件、硅片交接机构及硅片交接装置。所述柔性吸附组件包括导向柱、刚性吸附头和柔性连接件，导向柱上开设有第一通孔，刚性吸附头上开设有第二通孔，柔性连接件上开设有第三通孔；导向柱的第一端与驱动组件相连接，柔性连接件的两端分别与导向柱的第二端和刚性吸附头密封固定连接，且第一通孔、第二通孔及第三通孔相连通并形成真空气道，通过选用刚性吸附头可避免因刚性吸附头磨损造成的吸附不稳定的情况；利用柔性连接件可使刚性吸附头具有解耦功能，保证刚性吸附头能够适应工件表面状况，保证吸附工件的稳定性，避免工件在吸附过程中发生脱落。

公开(公告)号：CN214586378U

公开(公告)日：2021-11-02

申请号：CN202120901775.1

申请日：2021-04-28

Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司

Inventor： 闫法领 ,  赵文波 ,  丛国栋

IPC: G03F7/20

Abstract: 本实用新型实施例公开了一种曝光运动平台和光刻机。曝光运动平台包括：基础模块和曝光模块，所述曝光模块设置于所述基础模块的一侧；所述基础模块邻近所述曝光模块的一侧包括磁钢阵列和散热孔阵列；所述曝光模块邻近所述基础模块的一侧包括发力体和至少三组测距单元，所述至少三组测矩单元设置于所述曝光模块的不同位置，且每一所述测矩单元包括至少两个测量探头，同一所述测距单元包括的至少两个测量探头中至少一个测量探头在所述基础模块的垂直投影与任意散热孔之间的距离大于测量探头的靶面测量要求直径的一半与散热孔直径的一半的和。本实用新型实施例提高了曝光精度。