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公开(公告)号:CN101503794A
公开(公告)日:2009-08-12
申请号:CN200910047912.3
申请日:2009-03-20
Applicant: 上海工程技术大学
Abstract: 本发明公开了一种在钢铁表面制备装饰性TiN薄膜的工艺,该工艺为磁控溅射法,包括溅射前处理、准备和溅射成膜过程,其特征在于,溅射成膜过程的具体工艺参数如下:本底真空度为10-4Pa,氮气和氩气的总压为0.1~1.0Pa,氮气与氩气的流量比为1∶24~1∶2,磁控溅射时的温度为25~300℃、功率为60~100W、电压为0.2~0.4KV、电流为0.1~0.75A、溅射时间为20min~4hr。本发明可制得多种颜色的TiN薄膜,且所获得的薄膜纯度高、致密性好,与基体结合力良好,膜厚可控制、可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜;处理后的钢铁具有良好的耐蚀性、耐磨性和装饰性,可有多种用途。
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公开(公告)号:CN101003420B
公开(公告)日:2010-12-15
申请号:CN200710036209.3
申请日:2007-01-04
Applicant: 上海工程技术大学
IPC: C03C17/25
Abstract: 本发明公开了一种光电转换用纳米SnO2/TiO2复合薄膜的制备工艺,属于功能复合薄膜材料技术领域,制备工艺包括如下步骤:A、清洁基片,B、配胶,包括二氧化钛溶胶的配制和二氧化锡溶胶的配制,C、成膜包括先在基片上镀一层二氧化钛溶胶膜,烘干后再镀一层二氧化锡溶胶膜;按需要重复上述步骤,在导电玻璃上镀上多层二氧化钛膜和二氧化锡膜;然后放入马弗炉中随炉加热,随炉冷却至室温,从马弗炉中取出用蒸馏水冲洗干净后烘干即制得本发明复合膜。本发明制得的复合薄膜不仅成本低廉、工艺简单,而且光电转换性优于单一薄膜的光电转换性。
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