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公开(公告)号：CN100516985C
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200510074184.7
申请日：2005-02-25
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社 , 夏普株式会社
IPC: G02F1/133 , C23F1/20 , G02F1/1335 , G02F1/1343
CPC classification number: C23F1/20 , C23F1/26 , G02F1/133555 , G02F1/13439
Abstract: 本发明的蚀刻组合物通过在单次蚀刻操作中单独对其进行使用能够同时蚀刻包括最上面的由IZO等制成的无定形透明电极膜、中间的由铝等制成的反射电极膜以及最下面的由钼等制成的防电化腐蚀膜的三层叠合膜，或者包括上面的无定形透明电极膜和下面的反射电极膜的两层叠合膜，以提供具有良好正锥形或阶梯形状的边缘的、经蚀刻的叠合膜。蚀刻组合物包括含有30至40wt%的磷酸、15至35wt%的硝酸、有机酸和阳离子产生成分的水溶液。
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公开(公告)号：CN1716009A
公开(公告)日：2006-01-04
申请号：CN200510074184.7
申请日：2005-02-25
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社 , 夏普株式会社
IPC: G02F1/133 , C23F1/20 , G02F1/1335 , G02F1/1343
CPC classification number: C23F1/20 , C23F1/26 , G02F1/133555 , G02F1/13439
Abstract: 本发明的蚀刻组合物通过在单次蚀刻操作中单独对其进行使用能够同时蚀刻包括最上面的由IZO等制成的无定形透明电极膜、中间的由铝等制成的反射电极膜以及最下面的由钼等制成的防电化腐蚀膜的三层叠合膜，或者包括上面的无定形透明电极膜和下面的反射电极膜的两层叠合膜，以提供具有良好正锥形或阶梯形状的边缘的、经蚀刻的叠合膜。蚀刻组合物包括含有30至40wt％的磷酸、15至35wt％的硝酸、有机酸和阳离子产生成分的水溶液。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111372469A
公开(公告)日：2020-07-03
申请号：CN201880075959.8
申请日：2018-10-15
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: A23L3/3508 , C07C409/26
Abstract: 利用本发明，能够提供一种作为食品添加物使用的过乙酸组合物的制造方法，上述制造方法包括将过氧化氢水溶液、乙酸溶液和含有1－羟基亚乙基－1,1－二膦酸的物质混合的工序，上述过氧化氢水溶液含有10μg/kg以上的铝，并且含有30～40质量％的过氧化氢。
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公开(公告)号：CN103649373B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201280032769.0
申请日：2012-06-28
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
CPC classification number: C23F1/18 , C09K13/04 , C23F1/16 , C23F1/26 , C23F1/44 , H01L21/32134 , H05K3/067 , H05K2201/0338
Abstract: 本发明涉及铜或以铜为主要成分的化合物的蚀刻液、以及使用该蚀刻液的蚀刻方法，所述蚀刻液的特征在于含有(A)马来酸根离子供给源、和(B)铜离子供给源。
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公开(公告)号：CN102985596B
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201180030089.0
申请日：2011-05-27
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C23F1/14
CPC classification number: C23F1/10 , C23F1/14 , C23F1/18 , C23F1/26 , C23F1/34 , C23F1/38 , H01L21/32134
Abstract: 提供一种用于包含铜层和钼层的多层薄膜的蚀刻液、以及使用其的包含铜层和钼层的多层薄膜的蚀刻方法。一种用于包含铜层和钼层的多层薄膜的蚀刻液，其中配混有(A)分子内具有两个以上羧基、且具有一个以上羟基的有机酸离子供给源、(B)铜离子供给源、以及(C)氨和/或铵离子供给源，所述蚀刻液的pH为5~8；以及使用其的蚀刻方法。
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公开(公告)号：CN102762770B
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201180009674.2
申请日：2011-02-15
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C23F1/18 , C23F1/30 , H01L21/308 , H01L21/3205 , H01L21/3213 , H01L23/52
CPC classification number: H01L21/32134 , C23F1/18 , C23F1/26 , C23F1/44 , H01L23/53238 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供包含铜层及钼层的多层薄膜用蚀刻液以及使用了其的包含铜层及钼层的多层薄膜的蚀刻方法。一种包含铜层及钼层的多层薄膜用蚀刻液以及使用了其的蚀刻方法，所述蚀刻液的pH为2.5~5，包含（A）过氧化氢、（B）不含氟原子的无机酸、（C）有机酸、（D）碳原子数2~10且具有合计基团数为二以上的氨基和羟基的胺类化合物、（E）唑类以及（F）过氧化氢稳定剂。
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公开(公告)号：CN102203952A
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN200980143613.8
申请日：2009-10-05
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
CPC classification number: H01L31/0236 , H01L31/022483 , H01L31/1884 , Y02E10/50
Abstract: 本发明提供一种用于在薄膜太阳能电池中实现高光电转换效率的透明导电膜的纹理加工液及透明导电膜的制造方法。通过使以氧化锌为主要成分的透明导电膜的表面与含有聚丙烯酸或其盐及酸性成分的水溶液接触，从而形成具有凹凸的纹理，进一步用碱性水溶液对该工序后的具有凹凸的透明导电膜表面进行接触处理。
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