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公开(公告)号：CN1275417A
公开(公告)日：2000-12-06
申请号：CN00108726.6
申请日：2000-05-26
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: B01D37/00 , B01D24/00 , C02F1/00 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67028 , B01D25/164 , B01D29/15 , B01D29/39 , B01D29/52 , B01D29/56 , B01D29/58 , B01D29/70 , B01D29/86 , B01D36/02 , B01D36/04 , B01D37/02 , B01D37/04 , B01D63/082 , B01D69/14 , C02F1/32 , C02F1/441 , C02F1/444 , C02F1/52 , C02F2103/02 , C02F2103/346
Abstract: 将第1过滤器10收集的固形物16作为第2过滤器13使用,在防止第1过滤器10的堵孔的同时,在第2过滤膜13上用气泡等给与外力,保持过滤能力。另外,过滤流体中混入了被去除物14时,将过滤流体在储存排水的槽中再次循环,确认达到规定的混入率后,再次开始过滤。
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公开(公告)号：CN100475306C
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN03131022.2
申请日：2003-05-14
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: B01D69/14 , B01D61/145 , B01D61/147 , B01D61/16 , B01D2311/04 , C02F1/001 , C02F1/44 , C02F1/444 , C02F1/52 , C02F1/5245 , C02F1/66 , C02F1/76 , C02F9/00 , C02F2101/16 , C02F2103/346 , C02F2303/16 , Y10S210/903 , B01D2311/12 , B01D2311/18 , B01D2311/2642 , B01D2311/14
Abstract: 此前，CMP等机械加工产生的排水是CMP游浆中含磨料微粒的胶体溶液，无有效的过滤方法。本发明提供一种胶体溶液的过滤方法，对含胶体溶液微粒的排水，利用抽吸在第1过滤器1的表面上形成的凝胶膜构成的第2过滤器2进行过滤。此时，加入凝聚剂或pH调节剂，使胶体溶液微粒形成易于凝胶化的凝聚粒子，进行抽吸过滤，从而即使凝胶化困难的肢体溶液也能进行过滤。
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公开(公告)号：CN1272086C
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN02147952.6
申请日：2002-10-31
Applicant: 三洋水能源科技株式会社 , 三洋电机株式会社
Abstract: 一种过滤装置，在以往的CMP等机械加工所产生的排水，由于在CMP研磨膏中包含砂粒的微小颗粒形成为胶体溶液，而没有有效的过滤方法。本发明的过滤装置是把含有胶体溶液微小颗粒的排水导入罐50，使排水循环通过在第1过滤器1表面吸引所形成凝胶膜的第2过滤器2过滤的过滤装置。此时吸引压力极微弱，即延迟第2过滤器2堵塞又维持过滤能力。还有利用吸引停止能够容易脱离第1过滤器1表面吸附的第2过滤器2凝胶膜，实现可以持续再过滤的过滤装置。
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公开(公告)号：CN1199243C
公开(公告)日：2005-04-27
申请号：CN00117915.2
申请日：2000-05-27
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: H01L21/304 , B01D29/00 , B01D33/00
CPC classification number: H01L21/67028 , B01D25/164 , B01D29/15 , B01D29/39 , B01D29/52 , B01D29/56 , B01D29/58 , B01D29/70 , B01D29/86 , B01D36/02 , B01D36/04 , B01D37/02 , B01D37/04 , B01D63/082 , B01D69/14 , C02F1/32 , C02F1/441 , C02F1/444 , C02F1/52 , C02F2103/02 , C02F2103/346
Abstract: 本发明提供了一种低成本、容易维修的半导体装置的制造方法。它包括这样一道工序：令含有用流体加工半导体的过程中产生的加工切屑的所述流体通过含有至少一部分所述加工切屑的过滤层，从而除去所述加工切屑，所述加工半导体的工序是利用流体对所述半导体进行研磨和/或切削的工序。
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公开(公告)号：CN1416935A
公开(公告)日：2003-05-14
申请号：CN02147952.6
申请日：2002-10-31
Applicant: 三洋水能源科技株式会社 , 三洋电机株式会社
IPC: B01D36/00
Abstract: 一种过滤装置，在以往的CMP等机械加工所产生的排水，由于在CMP研磨膏中包含砂粒的微小颗粒形成为胶体溶液，而没有有效的过滤方法。本发明的过滤装置是把含有胶体溶液微小颗粒的排水导入罐50，使排水循环通过在第1过滤器1表面吸引所形成凝胶膜的第2过滤器2过滤的过滤装置。此时吸引压力极微弱，即延迟第2过滤器2堵塞又维持过滤能力。还有利用吸引停止能够容易脱离第1过滤器1表面吸附的第2过滤器2凝胶膜，实现可以持续再过滤的过滤装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1275416A
公开(公告)日：2000-12-06
申请号：CN00108614.6
申请日：2000-03-31
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: H01L21/67028 , B01D25/164 , B01D29/15 , B01D29/39 , B01D29/52 , B01D29/56 , B01D29/58 , B01D29/70 , B01D29/86 , B01D36/02 , B01D36/04 , B01D37/02 , B01D37/04 , B01D63/082 , B01D69/14 , C02F1/32 , C02F1/441 , C02F1/444 , C02F1/52 , C02F2103/02 , C02F2103/346 , C02F2201/008
Abstract: 将第1滤膜10捕获的被除去物12用作第2滤膜13,在防止第1滤膜10阻塞的同时,通过对第2滤膜13给予气泡等外力,可以维持过滤能力。另外,在过滤水中混入被除去物时,可以使过滤水再循环到储存排水的槽中,确认达到规定的混入率后,再次开始过滤。
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公开(公告)号：CN100506343C
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200410064205.2
申请日：2000-03-31
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: H01L21/67028 , B01D25/164 , B01D29/15 , B01D29/39 , B01D29/52 , B01D29/56 , B01D29/58 , B01D29/70 , B01D29/86 , B01D36/02 , B01D36/04 , B01D37/02 , B01D37/04 , B01D63/082 , B01D69/14 , C02F1/32 , C02F1/441 , C02F1/444 , C02F1/52 , C02F2103/02 , C02F2103/346 , C02F2201/008
Abstract: 一种移动式维修系统，其特征在于，通过移动体巡回顾客，进行过滤装置的维修作业。上述移动体搭载有由排水管及供应管组成的过滤设备，具有过滤装置的罐内含高浓度被除去物的排水，通过在上述顾客侧罐底部设置的排水管导入上述移动体上搭载的维修用过滤装置中，回收在上述维修用过滤材料中的被除去物，具备再次返回到顾客侧罐中的回收部件。上述移动体用通信网控制，使用位置检测系统，用控制室控制进程，通过调节巡回路径及时间构成。
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公开(公告)号：CN1840250A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200610068160.5
申请日：2000-03-31
Applicant: 三洋电机株式会社
Abstract: 一种移动式维修系统，其特征在于，通过移动体巡回顾客，进行过滤装置的维修作业。上述移动体搭载有由排水管及供应管组成的过滤设备，具有过滤装置的罐内含高浓度被除去物的排水，通过在上述顾客侧罐底部设置的排水管导入上述移动体上搭载的维修用过滤装置中，回收在上述维修用过滤材料中的被除去物，具备再次返回到顾客侧罐中的回收部件。上述移动体用通信网控制，使用位置检测系统，用控制室控制进程，通过调节巡回路径及时间构成。
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公开(公告)号：CN1605378A
公开(公告)日：2005-04-13
申请号：CN200410064205.2
申请日：2000-03-31
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: H01L21/67028 , B01D25/164 , B01D29/15 , B01D29/39 , B01D29/52 , B01D29/56 , B01D29/58 , B01D29/70 , B01D29/86 , B01D36/02 , B01D36/04 , B01D37/02 , B01D37/04 , B01D63/082 , B01D69/14 , C02F1/32 , C02F1/441 , C02F1/444 , C02F1/52 , C02F2103/02 , C02F2103/346 , C02F2201/008
Abstract: 一种移动式维修系统，其特征在于，通过移动体巡回顾客，进行过滤装置的维修作业。上述移动体搭载有由排水管及供应管组成的过滤设备，具有过滤装置的罐内含高浓度被除去物的排水，通过在上述顾客侧罐底部设置的排水管导入上述移动体上搭载的维修用过滤装置中，回收在上述维修用过滤材料中的被除去物，具备再次返回到顾客侧罐中的回收部件。上述移动体用通信网控制，使用位置检测系统，用控制室控制进程，通过调节巡回路径及时间构成。
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公开(公告)号：CN1417131A
公开(公告)日：2003-05-14
申请号：CN02147951.8
申请日：2002-10-31
Applicant: 三洋电机株式会社
Abstract: 一种被除去物的除去方法，在以往的CMP等机械加工所产生的排水，由于在CMP研磨膏中包含砂粒的微小颗粒形成为胶体溶液，而没有有效的过滤方法。本发明除去物的除去方法是利用由第1过滤器1表面吸引所形成的凝胶膜构成的第2过滤器2过滤含有胶体溶液微小颗粒的排水。此时吸引压力极微弱，即延迟第2过滤器2堵塞又维持过滤能力。另外第2过滤器2表面所吸附的凝胶利用停止吸引能够容易地从第2过滤器2表面脱离，可再次继续过滤。
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