测量设备和具有该测量设备的测试设备

    公开(公告)号:CN118150962A

    公开(公告)日:2024-06-07

    申请号:CN202311035996.5

    申请日:2023-08-17

    Abstract: 提供了测量设备和测试设备。测量设备包括:第一分束器;衍射光栅;光学照射系统;光学会聚系统,其被配置为会聚从样品辐射的电磁波EH;时域检测器,其被配置为每当其光路长度在延迟机构中已经改变的触发光束入射时检测电磁波EH;以及控制器,其被配置为利用振幅调制元件的驱动频率锁相检测电磁波EH,其中,控制器通过对检测到的电磁波EH的时域波形进行傅立叶变换以获得频域波形并且对所获得的频域波形中的频段进行滤波,来获得测量部分的电场的大小和方向。

    清洗组合物、清洗装置以及制造半导体器件的方法

    公开(公告)号:CN108109941A

    公开(公告)日:2018-06-01

    申请号:CN201711191153.9

    申请日:2017-11-24

    Abstract: 一种清洗组合物包括表面活性剂、去离子(DI)水和有机溶剂。表面活性剂具有从约0.03M到约0.003M的浓度。一种清洗装置包括接收基板的卡盘、用于将清洗组合物提供到基板上的喷嘴。该清洗装置还包括将清洗组合物供应到喷嘴的化学溶液供应单元。该化学溶液供应单元混合清洗组合物以产生清洗颗粒。清洗组合物包括表面活性剂、去离子(DI)水和有机溶剂。表面活性剂具有从约0.03M到约0.003M的浓度。一种制造半导体器件的方法包括处理基板、形成层间绝缘层、抛光层间绝缘层、以及将清洗组合物提供到层间绝缘层上以去除第一颗粒。

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