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公开(公告)号:CN118150962A
公开(公告)日:2024-06-07
申请号:CN202311035996.5
申请日:2023-08-17
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01R31/26 , G01N21/3586
Abstract: 提供了测量设备和测试设备。测量设备包括:第一分束器;衍射光栅;光学照射系统;光学会聚系统,其被配置为会聚从样品辐射的电磁波EH;时域检测器,其被配置为每当其光路长度在延迟机构中已经改变的触发光束入射时检测电磁波EH;以及控制器,其被配置为利用振幅调制元件的驱动频率锁相检测电磁波EH,其中,控制器通过对检测到的电磁波EH的时域波形进行傅立叶变换以获得频域波形并且对所获得的频域波形中的频段进行滤波,来获得测量部分的电场的大小和方向。
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公开(公告)号:CN108109941A
公开(公告)日:2018-06-01
申请号:CN201711191153.9
申请日:2017-11-24
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 一种清洗组合物包括表面活性剂、去离子(DI)水和有机溶剂。表面活性剂具有从约0.03M到约0.003M的浓度。一种清洗装置包括接收基板的卡盘、用于将清洗组合物提供到基板上的喷嘴。该清洗装置还包括将清洗组合物供应到喷嘴的化学溶液供应单元。该化学溶液供应单元混合清洗组合物以产生清洗颗粒。清洗组合物包括表面活性剂、去离子(DI)水和有机溶剂。表面活性剂具有从约0.03M到约0.003M的浓度。一种制造半导体器件的方法包括处理基板、形成层间绝缘层、抛光层间绝缘层、以及将清洗组合物提供到层间绝缘层上以去除第一颗粒。
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公开(公告)号:CN107301946A
公开(公告)日:2017-10-27
申请号:CN201710243397.0
申请日:2017-04-14
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H01L21/30625 , B24B37/20 , B24B53/017 , H01L21/02057 , H01L21/02065 , H01L21/02074 , H01L21/67046 , H01L21/67051 , H01L21/67173 , H01L21/67219 , H01L21/67023
Abstract: 提供一种用于从基板去除粒子的清洁装置。该清洁装置包括:第一清洁单元,包括将第一化学液体和第一喷雾供应到基板的第一双喷嘴,第一喷雾包括溶解第一化学液体的第一液体;以及第二清洁单元,包括将不同于第一化学液体的第二化学液体和第二喷雾供应到基板的第二双喷嘴,第二喷雾包括溶解第二化学液体并且与第一液体相同的第二液体。
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公开(公告)号:CN101105361A
公开(公告)日:2008-01-16
申请号:CN200710103451.8
申请日:2007-05-18
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H01L21/02057 , H01L21/67034
Abstract: 在干燥物体的方法中,第一干燥流体和第二干燥流体可以被第一次加热,以形成气体混合物。第二次加热该气体混合物,以防止该混合气体凝结。该第二次加热气体混合物可以被过滤,以除去第二次加热气体混合物中的杂质。然后,该过滤的混合气体被施加到物体,以干燥该物体。
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