半导体装置制造方法和薄膜晶体管阵列面板及其制造方法

    公开(公告)号:CN1575525B

    公开(公告)日:2010-10-06

    申请号:CN02820938.9

    申请日:2002-02-20

    Abstract: 本发明涉及一种制造用于液晶显示器的薄膜晶体管阵列基片的方法。在该方法中,在基片上形成包括栅极线、栅极、和栅极衬垫的横向栅极布线。然后,形成栅极绝缘层,在其上部顺次形成半导体层及欧姆接触层。接着,将导电层沉积在基片上,并制作布线图案形成包括与栅极线交叉的数据线、源极、漏极、和数据衬垫的数据布线。接着,将保护层和有机绝缘层沉积在基片上。将有机绝缘层进行曝光和显像,从而形成分别露出漏极、栅极衬垫、及数据衬垫上部保护层的接触孔。接着,将有机绝缘层作为掩膜蚀刻露出的保护层,露出漏极、栅极衬垫以及数据衬垫。接着,通过固化收缩或回流有机绝缘层,以便在接触区域除去底切结构。在固化步骤之前抛光有机绝缘层。接着,将ITO或IZO沉积在有机绝缘层上,并制作布线图案以形成分别与漏极、栅极衬垫、及数据衬垫连接的像素电极、辅助栅极衬垫及辅助数据衬垫。

    显示装置及其制造方法
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100510873C

    公开(公告)日:2009-07-08

    申请号:CN200510099185.7

    申请日:2005-09-07

    Inventor: 孙宇成 朴旻昱

    CPC classification number: G02F1/1333 G02F2001/133354 H01L27/1288

    Abstract: 一种显示装置,包括第一衬底和第二衬底、以及第一和第二对准键。第一和第二衬底分别具有第一和第二显示区域、以及第一和第二外围区域。第一对准键设在第一衬底的第一外围区域中。第一对准键包括第一图案和第二图案。第二对准键设在第二衬底的第二外围区域中,使得第二对准键面对第一对准键。结果,第一对准键可通过形成像素电极的工艺被形成。因此,第一对准键和像素电极之间没有偏差,并且由于第一图案是不透明的,因此第一对准键可容易地被检测出来,从而错位被防止了。

    液晶显示装置
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101131514A

    公开(公告)日:2008-02-27

    申请号:CN200710146544.9

    申请日:2007-08-20

    CPC classification number: G02F1/133512 G02F1/133707

    Abstract: 本发明公开了一种液晶显示装置,该液晶显示装置包括:第一基底、第二基底和插入在第一基底与第二基底之间的液晶层。在第一基底上限定像素区。像素电极包括切口图案并形成在像素区中。导电图案设置在第一基底与像素电极之间,且从平面图来观看时,导电图案与切口图案部分叠置。共电极设置在第二基底上,并包括将像素区划分为多个畴的畴划分件。阻光构件设置在第一基底和第二基底中的一个上,且位于与在像素区内切口图案与导电图案叠置的区域对应的位置。

    显示装置及其制造方法
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1746735A

    公开(公告)日:2006-03-15

    申请号:CN200510099185.7

    申请日:2005-09-07

    Inventor: 孙宇成 朴旻昱

    CPC classification number: G02F1/1333 G02F2001/133354 H01L27/1288

    Abstract: 一种显示装置,包括第一衬底和第二衬底、以及第一和第二对准键。第一和第二衬底分别具有第一和第二显示区域、以及第一和第二外围区域。第一对准键设在第一衬底的第一外围区域中。第一对准键包括第一图案和第二图案。第二对准键设在第二衬底的第二外围区域中,使得第二对准键面对第一对准键。结果,第一对准键可通过形成像素电极的工艺被形成。因此,第一对准键和像素电极之间没有偏差,并且由于第一图案是不透明的,因此第一对准键可容易地被检测出来,从而错位被防止了。

    薄膜晶体管阵列面板及其制造方法

    公开(公告)号:CN1591144A

    公开(公告)日:2005-03-09

    申请号:CN200410057090.4

    申请日:2004-08-30

    CPC classification number: G02F1/1368 G02F1/1339

    Abstract: 本发明提供了一种制造薄膜晶体管阵列面板的方法,包括以下工序:在基片上形成栅极线;在栅极线上依次沉积栅极绝缘层和半导体层;在半导体层上依次沉积下层导电薄膜和上层导电薄膜;光蚀刻上层导电薄膜、下层导电薄膜、和半导体层;沉积钝化层;光蚀刻钝化层以露出上层导电薄膜的第一和第二部分;除去上层导电薄膜的第一和第二部分以露出下层导电薄膜的第一和第二部分;形成像素电极和一对分别在下层导电薄膜第一和第二部分上的冗余电极,冗余电极露出下层导电薄膜第二部分的一部分;除去下层导电薄膜第二部分的露出部分以露出半导体层的一部分;以及在半导体层的露出部分上形成柱状隔离物。

    薄膜晶体管阵列面板及其制造方法

    公开(公告)号:CN100392506C

    公开(公告)日:2008-06-04

    申请号:CN200410057090.4

    申请日:2004-08-30

    CPC classification number: G02F1/1368 G02F1/1339

    Abstract: 本发明提供了一种制造薄膜晶体管阵列面板的方法,包括以下工序:在基片上形成栅极线;在栅极线上依次沉积栅极绝缘层和半导体层;在半导体层上依次沉积下层导电薄膜和上层导电薄膜;光蚀刻上层导电薄膜、下层导电薄膜、和半导体层;沉积钝化层;光蚀刻钝化层以露出上层导电薄膜的第一和第二部分;除去上层导电薄膜的第一和第二部分以露出下层导电薄膜的第一和第二部分;形成像素电极和一对分别在下层导电薄膜第一和第二部分上的冗余电极,冗余电极露出下层导电薄膜第二部分的一部分;除去下层导电薄膜第二部分的露出部分以露出半导体层的一部分;以及在半导体层的露出部分上形成柱状隔离物。

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