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公开(公告)号：CN109313868A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201780036286.0
申请日：2017-05-16
Applicant: 株式会社NSC
Inventor： 田村达彦
Abstract: 本发明提供一种不进行有机树脂膜与玻璃基板的剥离而用简单的方法可进行弯曲的显示装置，根据本发明的显示装置制造方法，包括：在玻璃基板(12)的第一主面上形成有机树脂膜(14)的步骤；在有机树脂膜上形成包括显示元件的层(16、18、20)的步骤；以及通过由耐蚀刻性部件(22)覆盖包括有机树脂膜的玻璃基板的第一主面侧，并且对第二主面侧进行蚀刻，从而使玻璃基板薄型化的步骤。
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公开(公告)号：CN107710389A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201680038962.3
申请日：2016-05-20
IPC: H01L21/306
CPC classification number: H01L21/306
Abstract: 本发明提供使维护变得容易且容易实现装置的紧凑化、且可执行高品质的喷淋蚀刻处理的喷淋蚀刻装置。喷淋蚀刻装置至少包括蚀刻腔室(16)、送液单元(40)以及驱动单元(50)，这些送液单元(40)、蚀刻腔室(16)以及驱动单元(50)在与玻璃基板(100)的搬运方向正交的宽度方向上排列。蚀刻腔室(16)至少包括构成为对玻璃基板(100)喷淋蚀刻液的可移动的上侧喷淋配管单元(162)以及下侧喷淋配管单元(164)。
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公开(公告)号：CN104379526B
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：CN201380021332.1
申请日：2013-05-29
Applicant: 株式会社NSC
Inventor： 西山荣
IPC: C03C15/00
CPC classification number: C03C15/00
Abstract: 本发明提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)具备多个搬送辊(50)以及处理室(16、18、20、22)，多个搬送辊(50)构成为在水平方向搬送玻璃基板，处理室(16、18、20、22)构成为对由多个搬送辊(50)搬送的玻璃基板进行化学研磨处理。处理室(16、18、20、22)至少具有处理槽(161)与回收槽(162)。处理槽(161)构成为在与由搬送辊(50)搬送的玻璃基板相比更高位置溢出化学研磨液。回收槽(162)构成为回收从处理槽(161)溢出的化学研磨液。
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公开(公告)号：CN104114509B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201380007542.5
申请日：2013-01-28
Applicant: 株式会社NSC
Inventor： 西山荣
IPC: C03C15/00
CPC classification number: C03C15/00 , B24B37/345 , B24B57/02
Abstract: 本发明提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)具备有多个搬送辊(50)以及多个喷射管(322)。多个搬送辊(50)构成为分别从下面支承玻璃基板(100)的同时向水平方向搬送玻璃基板(100)。喷射管(322)构成为对由多个搬送辊(50)搬送的玻璃基板(100)至少从下侧喷射研磨液。此外，喷射管(322)以利用研磨液至少使化学研磨处理空间内的全部的搬送辊的周面形成湿润状态的方式喷射研磨液。
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公开(公告)号：CN103189931B
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201180051309.8
申请日：2011-10-27
IPC: H01B5/14 , G02F1/1333 , H01B13/00
CPC classification number: G02F1/133305 , G02F2202/022 , G02F2202/09
Abstract: 本发明提供一种柔性的透明导电玻璃基板，该透明导电玻璃基板具有与塑料基板同样的柔软性，并且能够实现对于塑料基板所不具备的硬度和透明度且具有能够承受在曲面上使用的密合性。本发明制造具有如下特征的透明导电玻璃基板：在薄玻璃基板上的至少一个面上具有导电性聚合物层，表面电阻为1.8GΩ／□以下，总光线透过率为85%以上，表面铅笔硬度H以上、在R25mm的弯曲下不破损。另外，形成导电性聚合物层的导电性聚合物涂料含有导电性聚合物以及聚阴离子，进一步含有选自含有粘合剂、固化剂、高导电化剂、界面活性剂、催化剂以及接合性提高剂的组中1种或2种以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113412535B
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN201980075803.4
申请日：2019-09-19
IPC: H01L21/677 , B65G49/06 , B65G51/01 , B65G51/03
Abstract: 本发明提供一种能够在稳定的状态下输送蚀刻处理后等湿润状态的薄型基板的悬浮输送装置。悬浮输送单元(60)具备：水悬浮输送部(62)、气刀(64)、第一空气悬浮输送部(66)、第二空气悬浮输送部(68)、辅助辊(70)以及输送带(72)，在使玻璃基板(24)悬浮的状态下输送。水悬浮输送部(62)具有构成为在表面上形成水膜的水膜形成板(621)。气刀(64)构成为向被处理基板喷射空气。第一空气悬浮输送部(66)具有形成有向玻璃基板(24)从下方喷射空气的喷射孔(82)的悬浮输送板(67)。第二空气悬浮输送部(68)具有多孔板(681)。辅助辊(70)和输送带(72)沿输送方向输送玻璃基板(24)。
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公开(公告)号：CN113767075B
公开(公告)日：2023-11-03
申请号：CN202080032093.X
申请日：2020-02-03
Inventor： 西川晴香 , 岛田和哉 , 永井忠 , 三好雄三 , 富家夏树 , 大小田健太 , 柏原康宏 , 齐藤俊介 , 大山阳照 , 林笃嗣 , 福成良介 , 石垣畅规 , 元持健 , 久米贵大
IPC: C03B33/02 , C03C15/00 , C03C23/00 , B23K26/382
Abstract: 本发明提供一种能够将伴随于蚀刻处理的侧蚀刻的影响抑制在最小限度的液晶面板制造方法。本申请发明所涉及的玻璃用蚀刻液是用于对玻璃进行蚀刻的玻璃用蚀刻液，至少含有蚀刻阻碍物质，该蚀刻阻碍物质使对玻璃的蚀刻速度降低，且至少含有碱和氟络合剂中的任一种。蚀刻阻碍物质优选通过附着于玻璃中的改性成容易被蚀刻的改性部来产生阻碍蚀刻反应的反应生成物。
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公开(公告)号：CN114303256A
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202080061416.8
申请日：2020-09-02
Applicant: 株式会社NSC
Abstract: 提供在抑制成本的同时能制造的以超薄玻璃为基材的有机EL面板。有机EL面板(10)至少具备：有机EL基板(12)，其由玻璃构成，且具有有机EL层叠部(122)；以及对置基板(14)，其由玻璃或树脂构成，且构成为与有机EL基板(12)相贴合。该有机EL基板(10)与有机EL基板(12)及密封基板(14)相贴合的状态下的玻璃部分的厚度的合计值为0.2mm以下，且有机EL基板以及密封基板的玻璃部分中的贴合处以外的面由蚀刻加工面构成。
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公开(公告)号：CN113906630A
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN202080040767.0
申请日：2020-05-19
Applicant: 株式会社NSC
Inventor： 西山荣
Abstract: 提供具备多个天线元件的平面玻璃天线及其制造方法。平面玻璃天线(10)使用玻璃基板(12)作为电介质基板且构成为接收电波。该平面玻璃天线(10)至少具备玻璃基板(12)、接地导电部(14)以及多个天线元件(16)。玻璃基板(12)具有配置为矩阵状的多个供电用贯通孔(20)。接地导电部(14)设置于玻璃基板(12)的第一主面。多个天线元件(16)设置于玻璃基板(12)的第二主面中的与多个供电用贯通孔(20)分别对应的位置。
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公开(公告)号：CN113412535A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN201980075803.4
申请日：2019-09-19
IPC: H01L21/677 , B65G49/06 , B65G51/01 , B65G51/03
Abstract: 本发明提供一种能够在稳定的状态下输送蚀刻处理后等湿润状态的薄型基板的悬浮输送装置。悬浮搬送单元(60)具备：水悬浮搬送部(62)、气刀(64)、第一空气悬浮搬送部(66)、第二空气悬浮搬送部(68)、辅助辊(70)以及搬送带(72)，在使玻璃基板(24)悬浮的状态下搬送。水悬浮输送部(62)具有构成为在表面上形成水膜的水膜形成板(621)。气刀(64)构成为向被处理基板喷射空气。第一空气悬浮输送部(66)具有形成有向玻璃基板(24)从下方喷射空气的喷射孔(82)的悬浮输送板(67)。第二空气悬浮输送部(68)具有多孔板(681)。辅助辊(70)和输送带(72)沿输送方向输送玻璃基板(24)。
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