半导体装置
    163.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105655340A

    公开(公告)日:2016-06-08

    申请号:CN201610025894.9

    申请日:2010-11-19

    Abstract: 提供:第一晶体管,包含沟道形成区域、第一栅极绝缘层、第一栅电极、以及第一源电极和第一漏电极;第二晶体管,包含氧化物半导体层、第二源电极和第二漏电极、第二栅极绝缘层、以及第二栅电极;以及电容器,包含第二源电极和第二漏电极中的一个、第二栅极绝缘层、以及提供为在第二栅极绝缘层之上与第二源电极和第二漏电极中的一个重叠的电极。第一栅电极以及第二源电极和第二漏电极中的一个彼此电连接。

    半导体器件
    170.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104733540A

    公开(公告)日:2015-06-24

    申请号:CN201510102867.2

    申请日:2010-09-15

    Abstract: 一个目的是提供以具有良好的显示质量的显示器件为代表的半导体器件,其中抑制产生于半导体层与电极之间的连接部分中的寄生电阻并且防止诸如电压降低、到像素的信号布线中的缺陷、灰度级中的缺陷等的由于布线电阻的不利影响。为了达到上述目的,根据本发明的半导体器件可具有将薄膜晶体管连接至具有低电阻的布线的结构,在所述薄膜晶体管中包含具有高氧亲和性的金属的源极电极及漏极电极被连接至具有被抑制的杂质浓度的氧化物半导体层。此外,包含氧化物半导体的薄膜晶体管可由绝缘膜围绕以便密封。

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