公开(公告)号：CN101505967B

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN200780031677.X

申请日：2007-08-17

Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社

Inventor： 梁田笃郎 ,  土井勋

IPC: B41J2/135

CPC classification number: B41J2/162 ,  B41J2/1433 ,  B41J2/161 ,  B41J2/1623 ,  B41J2/1628 ,  B41J2/1631 ,  B41J2/1632 ,  B41J2/1642 ,  B41J2/1645 ,  B41J2/1646 ,  B41J2202/11 ,  Y10T29/49401

Abstract: 本发明涉及一种液体吐出头用喷嘴板的制造方法、液体吐出头用喷嘴板及液体吐出头。提供一种液体能够从吐出孔没有不均地良好吐出的廉价液体吐出头用喷嘴板。按以下记述顺序进行下述各工序：准备基板，在由Si构成的第1基材的一侧设Si各向异性干蚀刻时蚀刻速度慢于Si的第2基材，构成基板；在第2基材的表面形成成为第2蚀刻掩模的膜，在为第2蚀刻掩模的膜上，形成具有小径部开口形状的第2蚀刻掩模图案；进行蚀刻直至贯通第2基材为止；在第1基材的表面形成成为第1蚀刻掩模的膜；在为第1蚀刻掩模的膜上，形成具有大径部开口形状的第1蚀刻掩模图案；进行Si各向异性干蚀刻直至贯通第1基材为止。

公开(公告)号：CN101428497B

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：CN200810129707.7

申请日：2004-08-05

Applicant: 夏普株式会社 ,  柯尼卡美能达控股株式会社 ,  独立行政法人产业技术总合研究所

Inventor： 西尾茂 ,  岩下広信 ,  山本和典 ,  村田和広

IPC: B41J2/06 ,  B41J2/14 ,  B05B5/025

Abstract: 本发明提供一种静电吸引型流体排出装置和静电吸引型流体排出方法以及使用该装置的描绘图案形成方法。其中，静电吸引型流体排出装置从电源往喷嘴与绝缘衬底之间施加驱动电压，对供给喷嘴内的排出材料供给电荷，并使该排出材料从喷孔排出到绝缘衬底。喷嘴孔径为φ0.01μm～φ25μm，并且电源输出频率为大于等于1Hz的正负两个极性翻转的双极性脉冲电压，作为驱动电压。

公开(公告)号：CN101109826B

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：CN200710101860.4

申请日：2003-10-29

Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社

Inventor： 村上隆 ,  川上壮太

IPC: G02B1/11 ,  B41J2/01

CPC classification number: G02B5/0215 ,  Y10T428/1041 ,  Y10T428/24355

Abstract: 本发明涉及一种形成抗眩光层的方法，该方法包括下列步骤：用喷墨装置将油墨液滴喷射到透明基材上以在透明基材上形成细观凹凸结构；其中油墨包含能够赋予透明基材抗眩光性的组分。本发明还涉及一种抗眩光膜和其制造方法以及用于形成抗眩光层的油墨喷射装置。

公开(公告)号：CN101107333B

公开(公告)日：2010-07-07

申请号：CN200580047174.2

申请日：2005-12-02

Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社

Inventor： 椿义德

IPC: C09D11/00 ,  B41J2/01 ,  B41M5/00

CPC classification number: B41M7/0081 ,  C09D11/101 ,  C09D11/40

Abstract: 本发明提供一种喷墨用油墨和使用该油墨的记录方法，所述油墨在普通纸上记录时图像边缘粗糙性良好，且对于油墨吸收性少或没有油墨吸收性介质也适于没有缩珠或渗色等的记录。该喷墨用油墨的特征在于，至少含有着色剂、水和高分子化合物，所述高分子化合物在亲水性主链上具有多个侧链，且通过照射活性能量射线，侧链间可以交联键合，上述着色剂是阴离子性的，而上述高分子化合物的侧链是阴离子性或非离子性的。

公开(公告)号：CN100568471C

公开(公告)日：2009-12-09

申请号：CN200680021905.0

申请日：2006-05-23

Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社

Inventor： 小渕礼子 ,  竹村千代子 ,  平井桂

IPC: H01L21/368 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786 ,  H01L51/40

CPC classification number: H01L51/0096 ,  H01L51/0003 ,  H01L51/0541 ,  H01L51/0545 ,  Y02E10/549 ,  Y02P70/521

Abstract: 本发明提供一种在基板上形成迁移率提高的有机半导体材料膜的方法，以及由此呈现高性能的有机薄膜晶体管的制造方法。该有机薄膜晶体管的制造方法是在基板表面上涂布含有有机半导体材料的液体，形成半导体材料薄膜的有机半导体材料膜的形成方法，上述基板表面的表面自由能由γS＝γSd+γSp+γSh以及上述液体中溶剂的表面自由能由γL＝γLd+γLp+γLh(这里，γSd、γSp、γSh和γLd、γLp、γLh分别表示基于Young-Fowkes式的固体表面和液体表面的自由能的非极性、极性分量、或氢键分量)。表示时，γSh-γLh的值在-5mN/m～20mN/m的范围，且上述基板表面的表面自由能的氢键分量γSh满足0＜γSh＜20(mN/m)。

公开(公告)号：CN100501945C

公开(公告)日：2009-06-17

申请号：CN200480004225.9

申请日：2004-02-17

Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社

Inventor： 平井桂 ,  北弘志 ,  有田浩了

IPC: H01L21/336 ,  H01L29/786 ,  H01L51/00

CPC classification number: C23C16/30 ,  H01L51/0002 ,  H01L51/0005 ,  H01L51/0533 ,  H01L51/0541 ,  H01L51/0545

Abstract: 本发明提供显示出高载流子迁移率的有机薄膜晶体管元件及其制造方法。该有机薄膜晶体管元件的特征在于：采用使用了反应气体的CVD(化学气相沉积)形成，并且具有表面对于纯水的接触角为50度以上的薄膜，在该薄膜上形成有机半导体层。

公开(公告)号：CN100495358C

公开(公告)日：2009-06-03

申请号：CN200380105874.3

申请日：2003-12-09

Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社

Inventor： 五十岚隆史 ,  洪博哲 ,  上田丰

IPC: G06F12/00 ,  H04N5/91

Abstract: 本发明提供一种数据管理构造重写程序，以容易利用的数据管理构造把记录在数字照相机等摄影机器和数字照相机用介质、CD-R等信息记录媒体上的图像数据记录到另一存储装置上，使计算机具有作为生成新的数据管理构造的数据的装置的功能的程序，即在数据记录源的存储装置中，存在由规定的数据管理构造管理的数据，当在数据提供源的摄影机器等中有用同一数据管理构造管理的追加数据时，在存储装置的第2文件夹下位层上维持数据管理构造的状态下生成附加该追加数据的新的数据管理构造的数据，通过以数据管理构造为单位顺序追加数据，用户不需要在意数据管理构造进行数据的写入，就可以简单地进行数据的写入。

公开(公告)号：CN100474106C

公开(公告)日：2009-04-01

申请号：CN200310102682.9

申请日：2003-10-29

Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社

Inventor： 森孝博

IPC: G03F1/14 ,  B41C1/05 ,  G03F7/26

CPC classification number: B41N1/083 ,  B41C1/1008 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/08 ,  B41C2210/20 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41N3/034

Abstract: 本发明公开了一种印刷板材料，包括基材和提供在其上的组分层，所述基材的中心线平均表面粗糙度Ra为0.2-1.0μm，油保留体积A2为1-10，其中中心线平均表面粗糙度Ra由根据JIS-B-0601标准的三维表面粗糙度测量得到，和其中图像能够以成像方式曝光于红外激光而在组分层上被记录。

公开(公告)号：CN101386226A

公开(公告)日：2009-03-18

申请号：CN200810210282.2

申请日：2004-07-29

Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社 ,  独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 岩下广信 ,  山本和典 ,  西尾茂 ,  村田和广

IPC: B41J2/06 ,  B41J2/14

Abstract: 一种液体喷射设备，包括：具有用于从尖端部分喷射带电溶液的小滴的喷嘴(51)的液体喷射头(56)；被提供在所述液体喷射头上的喷射电极(58)，对其施加电压以产生电场从而喷射所述小滴；电压施加单元(35)，用于对所述喷射电极施加电压；包括绝缘材料的载体K，用于接收喷射的小滴；以及喷射气氛调节单元(70)，用于保持经受液体喷射头的喷射的气氛为9℃或9℃以上并且小于水的饱和温度的露点。

公开(公告)号：CN101333654A

公开(公告)日：2008-12-31

申请号：CN200810098597.2

申请日：2001-12-06

Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社

Inventor： 福田和浩 ,  近藤庆和 ,  村上隆 ,  岩丸俊一 ,  村松由海 ,  辻稔夫

IPC: C23C16/505 ,  H05H1/48

CPC classification number: G02B1/11 ,  C23C4/10 ,  C23C4/18 ,  C23C16/402 ,  C23C16/405 ,  C23C16/509 ,  C23C16/5093 ,  C23C16/545 ,  G02B1/10 ,  G02B1/115 ,  G02B1/14 ,  G02B1/16 ,  G02B1/18 ,  H01J37/32532

Abstract: 一种等离子体放电处理装置，通过在大气压或大气压附近的压力下，在对置的两种电极之间，以超过10kHz的高频电压供给1W/cm2以上的电力而放电，使反应性气体成为等离子态，通过在上述等离子态的反应性气体中暴露衬底，在上述衬底上形成薄膜，其特征在于：上述衬底是长形膜，上述对置电极中的至少一个是与上述长形膜接触，且沿上述长形膜的传送方向旋转的辊电极；至少与上述辊电极对置的电极，是导电性母材被介电体覆盖的介电体覆盖电极；至少上述辊电极的与上述衬底相接触的面的表面粗糙度Rmax为10μm以下。