公开(公告)号：CN100582655C

公开(公告)日：2010-01-20

申请号：CN200610107520.8

申请日：2006-07-20

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 谷口和隆 ,  吉原一博 ,  上田邦夫

IPC: G01B11/06

Abstract: 本发明提供一种不均匀检查装置及不均匀检查方法。在该装置(1)中，由光照射部(3)以规定的入射角对基板(9)上的膜(92)照射光线，且在来自光照射部的光线中由膜反射的特定波长的干涉光被摄像部(41)接收，取得表示膜的原始图像。在存储部(6)中，存储有表示灵敏度与特定波长的干涉光的强度的关系的灵敏度信息(61)，通过参照灵敏度信息及原始图像的各像素的像素值对灵敏度依赖于膜厚而变化的影响进行修正的同时，将从原始图像被导出的图像中的规定的空间频率范围的振幅程度作为膜厚不均匀而进行检测，其中，上述灵敏度为特定波长的干涉光的强度变动相对膜厚变动的比率。由此，能够高精度地检查形成在基板上的膜的膜厚不均匀。

公开(公告)号：CN100578733C

公开(公告)日：2010-01-06

申请号：CN200810087332.2

申请日：2008-03-21

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 町田英作

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  B65G49/05 ,  B65G49/06 ,  B65G49/07

CPC classification number: H01L21/67276 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67745 ,  Y10T29/41

Abstract: 本发明提供一种能缩短装置全体的基板搬运所需时间的基板处理装置。分度器机械手(12)有两个搬运臂(13a、13b)，各保持一个未处理基板(W)并将两个未处理基板(W)从搬运器(C)同时运至基板交接部(50)。此外，分度器机械手(12)的两个搬运臂(13a、13b)各保持一个完成处理的基板(W)，从基板交接部(50)同时接受两个完成处理的基板(W)并将它们同时搬至搬运器(C)。通过在基板交接部(50)设置三个送出承载部(SPASS1～SPASS3)和返回承载部(RPASS1～RPASS3)，能使由分度器机械手(12)进行的两个同时搬运顺利地进行，能缩短基板处理装置(1)全体的基板搬运所需时间。

公开(公告)号：CN100573820C

公开(公告)日：2009-12-23

申请号：CN200810005675.X

申请日：2008-02-15

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 光吉一郎 ,  涩川润 ,  清川信治 ,  榑林知启

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  B08B3/00 ,  G03F1/00 ,  G02F1/1333 ,  G11B7/26

Abstract: 本发明提供一种对基板进行处理的基板处理装置。该基板处理装置由互相并列而设置的分度器区、第一处理区以及第二处理区构成。在分度器区设置有分度器机械手。在第一处理区设置有多个背面清洗单元以及第一主机械手。在第二处理区设置有多个端面清洗单元、多个表面清洗单元以及第二主机械手。

公开(公告)号：CN100553805C

公开(公告)日：2009-10-28

申请号：CN200510102833.X

申请日：2005-09-13

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 山本悟史

IPC: B08B7/00 ,  B08B3/04 ,  B08B1/02 ,  G02F1/13 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种向基板的表面供给包含有冰微粒的处理液而进行基板的处理时，不会产生处理不均而能均匀处理，在基板上形成的覆膜不会受到损伤的装置。该装置具有：以倾斜姿势支承基板(W)并向水平方向运送的辊式传送器；向基板的主面供给包含有冰微粒的处理液的喷嘴(12)；与基板的表面接触或者靠近而往复移动、在基板的表面上搅拌包含有冰微粒的处理液的平面刷(14)。

公开(公告)号：CN100543751C

公开(公告)日：2009-09-23

申请号：CN200410095074.4

申请日：2004-11-23

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 山崎俊之

IPC: G06F17/50

CPC classification number: G06T11/20 ,  B26D7/27 ,  B26F1/3806 ,  G06T7/60

Abstract: 本发明涉及一种图形处理装置和图形处理方法，其对目标图形对象的图形原语进行扫描，以搜索最外面的闭合形状，并且显示被扫描的图形原语、搜索起始点、转向点和一区域，该区域由被扫描的图形原语围绕，并且被涂上阴影以区别于其他区域。因此，操作者可判断该目标图形对象的轮廓线是否形成闭合的形状。如果该轮廓未形成闭合形状，则操作者能够容易地判断哪个图形原语未被连接。

公开(公告)号：CN100541709C

公开(公告)日：2009-09-16

申请号：CN200710004088.4

申请日：2007-01-23

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 岛田久美子 ,  佐藤雅伸

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/304 ,  H01L21/67 ,  B08B3/02 ,  G02F1/1333 ,  G03F1/14 ,  G11B5/84 ,  G11B7/26

Abstract: 一种基板处理装置，包括：基板保持机构，其保持处理对象的基板；二流体喷嘴，其向被保持在上述基板保持机构上的基板表面供给液滴。二流体喷嘴具有壳体、喷出处理液的液体喷出口以及喷出气体的气体喷出口，该二流体喷嘴向上述壳体内导入处理液和气体，在上述壳体外，将从上述液体喷出口喷出的处理液和从上述气体喷出口喷出的气体进行混合来形成上述处理液的液滴，将该液滴供给到基板上。从二流体喷嘴供给的液滴在上述基板表面的密度为每分钟108个/平方毫米以上。

公开(公告)号：CN100535766C

公开(公告)日：2009-09-02

申请号：CN200510097812.3

申请日：2005-08-29

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 田村直树

IPC: G03F7/30 ,  G03F7/26 ,  G01B21/28

CPC classification number: G01N21/8903 ,  G01B11/285 ,  G03D3/10

Abstract: 本发明提供一种感光材料冲洗设备和面积测量方法。在该感光材料冲洗设备中，多个微动开关在感光材料接收部沿着垂直于印刷板移动方向的方向设置成排。使印刷板相对于传送通道的中心居中地输送印刷板。多个微动开关以相对于所述传送通道的中心不对称的方式排列。因此利用较少数量的微动开关就能够精确地计算感光材料的宽度。而且，能够容易检测到感光材料偏离传送通道中心。

公开(公告)号：CN100535590C

公开(公告)日：2009-09-02

申请号：CN200610077244.5

申请日：2006-04-28

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 山下浩 ,  山下典良

IPC: G01B21/00

Abstract: 本发明的目的在于提供一种即使在基板大型化的情况下也能够正确地测定基板的基板测定装置。测长仪具有：基座(10)；载物台部(14)，其不会从该基座(10)受到应力，而以其表面相对与铅垂方向倾斜了微小角度的状态被基座(10)支撑；导辊(42)以及升降辊(43)，其用于支撑应进行测定的基板(100)的下端部；架台(15)，其通过由设置在载物台部的上部与下部的导轨(45)引导，能够沿着载物台部(14)的表面向左右方向移动；拍摄部(18)，其通过由设置在该架台(15)上的导轨(53)引导，能够沿着架台(15)向上下方向移动。

公开(公告)号：CN100534644C

公开(公告)日：2009-09-02

申请号：CN200610105801.X

申请日：2006-07-07

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 岩见优树 ,  佐藤雅伸

IPC: B08B1/00 ,  B08B11/00 ,  H01L21/304

CPC classification number: B08B1/04 ,  H01L21/67046

Abstract: 本发明涉及基板清洗刷、和使用该刷的基板处理装置以及基板处理方法，该基板清洗刷包括端面清洗部和与该端面清洗部相结合的周边清洗部。端面清洗部具有被按压接触于基板的端面的端面清洗面。周边清洗部具有被按压接触于基板的主面的周边部的周边清洗面，该周边清洗面从端面清洗面的伸出长度可变。

公开(公告)号：CN100521076C

公开(公告)日：2009-07-29

申请号：CN200610171241.8

申请日：2006-12-21

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 宫胜彦

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30

CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67253

Abstract: 一种基板处理装置及基板处理方法，防止在使被液体浸湿的基板表面干燥时在基板表面所形成图案产生破坏，良好地干燥基板表面。邻近挡块(3)的对置面(31)相对基板表面(Wf)邻近配置，在对置面(31)和基板表面(Wf)所夹持的间隙空间(SP)形成液封层(23)的状态下，邻近构件(3)向移动方向(-X)移动，同时向液封层(23)的上游侧端部(231)供给含有溶解在液体且使表面张力降低的溶剂成分的溶剂气体。进而，在液封层(23)的上游侧界面(231a)或相比该上游侧界面(231a)而在移动方向的下游侧(-X)，向基板表面(Wf)供给液体，将附着于基板表面(Wf)的冲洗液(液体)置换为所追加供给的新的液体。