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公开(公告)号：CN114633026A
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN202011476848.3
申请日：2020-12-15
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: B23K26/362
Abstract: 本发明公开一种防伪膜片的制作方法，该方法包括如下步骤：提供一衬底，衬底包括基材、设置在基材上具有第一图案的信息层，其中，第一图案内设有微纳结构；在信息层具有第一图案一侧的表面沉积一金属层；利用PC根据第一图案设计相应的程序；PC执行程序并控制激光器按程序熔化金属层，以使金属层镂空单元具有多个镂空单元。本发明还公开了一种防伪膜片，通过上述方法制作。通过上述方法，获得多个与第二图案相对于的镂空单元，避免了现有技术中产品压印脱模时剥离不净和边缘毛刺等现象的发生，极大程度上的保证了产品的完整性，提高了良品率，且加工方法简单，生产效率高；同时，还能实现微纳结构与多个镂空单元结合，实现双重防伪，提高了防伪效果。
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公开(公告)号：CN114519870A
公开(公告)日：2022-05-20
申请号：CN202011279520.2
申请日：2020-11-16
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州迈塔光电科技有限公司
Abstract: 本发明涉及一种光学图像采集单元、其制作方法、光学图像采集器件及电子设备。该光学图像采集单元通过上层遮光区和下层遮光区的配合，使其在结构上无需设置挡墙，与现有技术相比，整体厚度更小，结构相对简单；另外，通过下层遮光区还可以进一步减小散光的干扰，上层遮光区及下层遮光区结合可避免杂散光干扰，提高图像采集精度。该光学图像采集单元的制备方法通过制作上层遮光区和下层遮光区来实现挡光的作用，并且，下层遮光区的下开口直接通过激光结合微透镜即可实现，与现有技术相比，制作简单。
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公开(公告)号：CN114466578A
公开(公告)日：2022-05-10
申请号：CN202011245589.3
申请日：2020-11-10
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: H05K9/00
Abstract: 本发明公开了一种复合结构电磁屏蔽膜的制作方法，该方法包括：提供一自支撑金属网栅；提供银纳米线；利用迈耶棒将所述银纳米线刮涂在所述自支撑金属网栅的两面，形成复合网栅；在空气中平放晾干后，将所述复合网栅放入烘箱中高温烘烤，得到复合结构电磁屏蔽膜。本发明还公开了一种复合结构电磁屏蔽膜，包括自支撑金属网栅、设置在所述自支撑金属网栅两侧表面的银纳米线。通过上述方法，有效地增强了复合结构电磁屏蔽膜柔性、适应范围，提升了复合结构电磁屏蔽膜的屏蔽效果。
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公开(公告)号：CN114464469A
公开(公告)日：2022-05-10
申请号：CN202011245588.9
申请日：2020-11-10
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种超级电容器的制作方法，该方法包括：提供两个电极，电极为自支撑金属网栅或衬底支撑金属网栅；在两个电极上沉积相同或不同的活性材料，活性材料至少覆盖电极一侧的表面；将两个沉积有活性材料的电极浸入凝胶电解质中；将两个浸入凝胶电解质中的电极取出并贴合在一起形成三明治结构；固化后，得到超级电容器。本发明还公开了一种超级电容器，包括两个电极、设置在两个电极之间的凝胶电解质，两个电极上沉积有相同或不同的活性材料，其中，活性材料至少覆盖电极一侧的表面，电极为自支撑金属网栅或衬底支撑金属网栅。通过上述方法制作的超级电容器柔性好，透光率高，可贴附于任意复杂结构，且制作过程简单，可控制性强，容易实现。
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公开(公告)号：CN114114477A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202010897334.9
申请日：2020-08-31
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种微型微透镜阵列匀光结构及其制作方法、TOF镜头及设备，包括基底层，以及形成于所述基底层表面的匀光层，所述匀光层背离所述基底层的表面形成有透镜阵列组，若干个微透镜错位排布形成所述透镜阵列组，所述透镜阵列组在所述匀光层的表面形成连续的面，所述若干个微透镜多组相邻排列，相邻两组形成一个间隔组，相邻两组中的一组的微透镜的曲率半径按照从中间向两端逐渐变大的规律排布，相邻两组中的另一组的微透镜的曲率半径按照从中间向两端逐渐变小的规律排布。本发明所述的匀光结构由不同口径及形状的微透镜组成，破坏微透镜阵列的周期性，使激光阵列通过该匀光结构匀光后消除干涉现象，同时降低纳米压印的加工难度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113970847A
公开(公告)日：2022-01-25
申请号：CN202010724767.4
申请日：2020-07-24
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州维旺科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种增强现实波导镜片，包括波导衬底、设置在所述波导衬底表面的渐变折射率层，以及设置在所述渐变折射率层远离所述波导衬底一侧表面具有纳米结构的功能区，所述渐变折射率层的折射率变化自所述波导衬底往所述功能区方向逐步递减。本发明还公开了一种增强现实波导镜片的制作方法，该方法包括：提供一波导衬底；在所述波导基底上制备渐变折射率层；在所述渐变折射率层远离所述波导衬底一侧表面制备一光刻胶层；在所述光刻胶层上制备纳米结构。通过所述渐变折射率层的折射率变化自所述波导衬底往所述功能区方向逐步递减，避免低折射率功能区匹配高折射率波导基底而造成光线串扰，提升了显示分辨率及体验效果。
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公开(公告)号：CN113554933A
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN202010332484.5
申请日：2020-04-24
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏大维格(盐城)光电科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种多彩变色膜，包括基膜层、设置在所述基膜层一侧表面的第一膜层、设置在所述第一膜层远离所述基膜层一侧表面的有机层、设置在所述有机层远离所述第一膜层一侧表面的第二膜层，以及设置在所述第二膜层远离所述有机层一侧表面的颜色层，所述第一膜层、所述有机层和所述第二膜层形成平板波导共振结构。通过上述结构，改变了原本第一膜层、有机层和第二透明介质所呈现的颜色，使得多彩变色膜具有更为丰富、复杂的变色效果；同时，通过叠加增强了多彩变色膜的防伪效果，极大地提高了产品的防伪性。
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公开(公告)号：CN113515021A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110667771.6
申请日：2021-03-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构。所述三维微纳形貌结构包括:基体；形成于所述基体上的至少一个三维微纳形貌单元，其中每个三维微纳形貌单元包括至少一个视觉高点，所述每个三维微纳形貌单元包括复数个从视觉高点开始斜坡形貌斜率按预设规律变化的环带。所述三维微纳形貌结构具有非常逼真的立体视觉。
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公开(公告)号：CN113492599A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202010193042.7
申请日：2020-03-18
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B41J2/44 , B41J3/44 , B41J11/00 , B41J29/393
Abstract: 本发明提供了一种激光打印系统，其包括控制系统和分别与所述控制系统通讯连接的打印及拍照联合机台、激光打印装置和摄像装置，其中：所述打印及拍照联合机台被配置的驱动证卡平移以到达或离开预定打印及拍照位置，在预定打印及拍照位置，所述激光打印装置对所述证卡进行激光打印，所述摄像装置对所述证卡进行无遮挡拍照。这样，可以实现对待打印证卡自动化打印，打印过程中或打印完成后可以利用无遮挡证卡拍照装置实现对证卡表面的无遮挡拍照、全景拍照，降低对证卡识别、检验的影响。
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公开(公告)号：CN113448014A
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN202010220340.0
申请日：2020-03-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种浮雕型波导结构及其制作方法，包括：提供基底，该基底作为浮雕型波导结构的波导载体；在所述基底上形成图案形成层，所述图案形成层的折射率小于所述基底的折射率；在所述图案形成层上形成有贯穿所述图案形成层的纳米结构图案；在所述纳米结构图案内填充形成光学结构材质层，其中所述光学结构材质层的折射率高于所述图案形成层，所述光学结构材质层与所述基底层直接接触；去除所述图案形成层。本发明提供的一种浮雕型波导结构及其制作方法确实解决了现有技术中高折射率基底刻蚀难度大的问题，另辟蹊径解决了制造难度，推进显示技术的发展。
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