-
-
-
公开(公告)号:CN106688037A
公开(公告)日:2017-05-17
申请号:CN201580049257.9
申请日:2015-08-21
Applicant: 株式会社神户制钢所
Abstract: 本发明一个方面涉及的磁记录介质用铝基板,是包括铝板、和形成在其表面的皮膜的磁记录介质用铝基板,所述皮膜为从所述铝板侧起依次包含阳极氧化膜及SiO2膜的层叠膜,所述阳极氧化膜的膜厚为7μm以上且45μm以下,所述SiO2膜的膜厚为1μm以上且5μm以下。
-
公开(公告)号:CN106068536A
公开(公告)日:2016-11-02
申请号:CN201580013114.2
申请日:2015-03-11
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: G11B5/7315 , G11B5/8404
Abstract: 本发明的磁记录介质用铝基板在铝板的双面成膜有厚度6.0μm以上且15.0μm以下的SiO2膜,上述SiO2膜具有450MPa以上且1000MPa以下的压缩应力。
-
公开(公告)号:CN100521077C
公开(公告)日:2009-07-29
申请号:CN200610171976.0
申请日:2006-09-29
Applicant: 株式会社神户制钢所 , 国立大学法人京都大学
IPC: H01L21/00 , H01L21/48 , H01L21/31 , H01L21/316 , H01L23/498 , H01L23/12 , H05K1/02 , H05K1/03 , H05K3/00 , H01P3/08 , H01P11/00
CPC classification number: H05K3/0011 , B32B21/04 , H05K1/024 , H05K1/0306 , H05K2201/0116 , Y10T428/249953 , Y10T428/249969
Abstract: 一种多孔基板,包括:在基板内部的三维网状骨架、以及与在基板至少一个表面上形成的骨架固相质量相同的表层,并且其制造方法包括:通过溶胶-凝胶反应在一对平板之间的空间中形成湿凝胶,该湿凝胶具有三维网状骨架固相和富含溶剂的液相,所述固相和液相相互分离,通过干燥去除湿凝胶中的溶剂,和除去该对平板中的至少一个平板。
-
公开(公告)号:CN101009205A
公开(公告)日:2007-08-01
申请号:CN200610171976.0
申请日:2006-09-29
Applicant: 株式会社神户制钢所 , 国立大学法人京都大学
IPC: H01L21/00 , H01L21/48 , H01L21/31 , H01L21/316 , H01L23/498 , H01L23/12 , H05K1/02 , H05K1/03 , H05K3/00 , H01P3/08 , H01P11/00
CPC classification number: H05K3/0011 , B32B21/04 , H05K1/024 , H05K1/0306 , H05K2201/0116 , Y10T428/249953 , Y10T428/249969
Abstract: 一种多孔基板,包括:在基板内部的三维网状骨架、以及与在基板至少一个表面上形成的骨架固相质量相同的表层,并且其制造方法包括:通过溶胶-凝胶反应在一对平板之间的空间中形成湿凝胶,该湿凝胶具有三维网状骨架固相和富含溶剂的液相,所述固相和液相相互分离,通过干燥去除湿凝胶中的溶剂,和除去该对平板中的至少一个平板。
-
-
公开(公告)号:CN1243366C
公开(公告)日:2006-02-22
申请号:CN02800274.1
申请日:2002-02-08
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C11D7/02 , B08B7/0021 , C11D7/04 , C11D7/10 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D7/5004 , C11D11/0047 , G03F7/422 , G03F7/425 , H01L21/02052 , H01L21/31116 , H01L21/31133 , H01L21/67086
Abstract: 本发明提供了一种从物体微观结构中去除残余物的方法,该方法包括的步骤有:制备去除剂,该去除剂包含二氧化碳、去除残余物的添加剂、和在加压流体状态下将添加剂溶解于该二氧化碳的助溶剂;将物体与去除剂接触以从物体中去除残余物。还提供了一种用来实现此方法的装置。
-
公开(公告)号:CN1457502A
公开(公告)日:2003-11-19
申请号:CN02800274.1
申请日:2002-02-08
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C11D7/02 , B08B7/0021 , C11D7/04 , C11D7/10 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D7/5004 , C11D11/0047 , G03F7/422 , G03F7/425 , H01L21/02052 , H01L21/31116 , H01L21/31133 , H01L21/67086
Abstract: 本发明提供了一种从物体微观结构中去除残余物的方法,该方法包括的步骤有:制备去除剂,该去除剂包含二氧化碳、去除残余物的添加剂、和在加压流体状态下将添加剂溶解于该二氧化碳的助溶剂;将物体与去除剂接触以从物体中去除残余物。还提供了一种用来实现此方法的装置。
-
-
-
-
-
-
-
-