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公开(公告)号：CN110467285A
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201910246953.9
申请日：2019-03-29
Applicant: 株式会社神户制钢所
Inventor： 饭岛胜之
IPC: C02F9/04 , B09C1/08 , C02F101/14 , C02F101/20
Abstract: 提供一种可以有效率地除去污染水或污染土壤中包含的镉和氟的净化处理方法。净化处理方法是从污染水或污染土壤中除去镉和氟的方法。该净化处理方法具备如下工序：使由铁或铁合金所形成的金属粉与污染水或污染土壤的溶出液接触，由此从污染水或溶出液中除去氟第一工序；将由铁或铁合金所形成的金属粉与经由第一工序处理之后的污染水或溶出液接触，由此从污染水或溶出液中除去镉的第二工序。在第一工序中，与金属粉的接触开始时的污染水或溶出液的pH值为2以上6.5以下，且调整得比第二工序时低。在第二工序中，与金属粉的接触开始时的污染水或溶出液的pH值为4.5以上8.5以下，且调整得比第一工序时高。
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公开(公告)号：CN107176644A
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201710123141.6
申请日：2017-03-03
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C02F1/28 , C02F1/70 , B09C1/08 , C02F101/20
CPC classification number: C02F1/281 , B09C1/08 , C02F1/70 , C02F2101/20
Abstract: 本发明的目的在于提供除去以镉为主的重金属的性能优异的净化处理剂及净化处理方法。本发明的净化处理剂是从污染水或污染土壤中除去镉的净化处理剂，其特征在于，含有铁或其合金制的金属粉和非金属系还原剂。上述非金属系还原剂的原材料可以为硫代硫酸钠、抗坏血酸、脲、苯甲醚或它们的组合。上述金属粉可以为雾化粉。上述金属粉可以含有硫。作为上述金属粉的硫含量，优选为0.05质量%以上且5质量%以下。作为非金属系还原剂的含量相对于上述金属粉的质量比，优选为0.01以上且4以下。本发明的净化处理方法是从污染水或污染土壤中除去镉的净化处理方法，其特征在于，具有使上述净化处理剂与上述污染水或上述污染土壤接触的工序。
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公开(公告)号：CN106517570A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201610467262.8
申请日：2016-06-24
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C02F9/04 , C02F101/14 , C02F101/20
Abstract: 本发明提供一种以简便的步骤从含氟的污染水或污染土壤中有效地除去氟，且可以同时除去规定的重金属的净化处理方法和净化处理剂。本发明的净化处理方法，其特征在于，是从污染水或污染土壤中除去氟的净化处理方法，具备：在从上述污染水或上述污染土壤溶出的溶出液中，以使pH值达到6.5以下的方式添加pH值调节剂的工序；使含有包含硫、磷或其组合的合金钢粉的净化处理剂与上述污染水或上述污染土壤接触的工序。在添加上述pH值调节剂的工序中，使从污染水或污染土壤溶出的溶出液的pH值为3以上且5以下即可。本发明的净化处理剂的特征在于，含有包含硫、磷或其组合的合金钢粉，使之与pH值调整到6.5以下的从上述污染水或上述污染土壤溶出的溶出液接触使用。
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公开(公告)号：CN105008285A
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201480012081.5
申请日：2014-02-14
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: B01J20/0229 , B01J20/0281 , B01J20/041 , B01J20/28004 , B01J20/3021 , B01J2220/42 , C02F1/281 , C02F2101/103 , C02F2101/20 , C02F2103/007 , C02F2103/06
Abstract: 本发明涉及粒状型环境用水处理剂，其特征在于，是用于除去有害物质的水处理剂，在由铁粉、镁砂和酸性无机硫酸盐所构成的组合物中添加清水而成为造粒形态，另外涉及被有害物质污染的水的处理方法，其特征在于，使含有有害物质的污染水与所述粒状型环境用水处理剂接触。
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公开(公告)号：CN111278948A
公开(公告)日：2020-06-12
申请号：CN201880069645.7
申请日：2018-12-12
Applicant: 株式会社神户制钢所
Abstract: 本发明的砷吸收抑制剂，是混合在种植有农作物的土壤中，抑制该土壤中的农作物对砷的吸收的砷吸收抑制剂，其是以铁为主成分，并含有磷和硫的粒状体，设铁的总含有率为[T.Fe]质量％，金属铁的含有率为[M.Fe]质量％时，满足下式(1)：0≤[T.Fe]－[M.Fe]≤3.5…(1)。
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公开(公告)号：CN100499018C
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN03137815.3
申请日：2003-05-21
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C11D7/3209 , B08B7/0021 , C11D7/32 , C11D7/5022 , C11D11/0047 , G03F7/422 , G03F7/425
Abstract: 本发明提供一种从物体的微结构中清除残余物的方法，其包括下述步骤：制备包括二氧化碳、用于清除残余物的添加剂、在加压流体条件下将添加剂溶解在所说的二氧化碳中的共溶剂的清除剂，使物体和所说的清除剂接触以清除物体中残余物。本发明还提供一种用于从物体的微结构中清除残余物的组合物。
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公开(公告)号：CN100477074C
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200310102886.2
申请日：2003-10-22
Applicant: 株式会社神户制钢所 , 大日本屏影象制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/302 , G03F7/00
CPC classification number: H01L21/67017 , B08B7/0021
Abstract: 本发明提供一种高压处理方法及高压处理装置，使用高压流体而对被处理体施予高压处理，其中，将所述高压流体冲撞到配置在高压处理室内的所述被处理体表面上之后，沿其表面流到该被处理体外边。
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公开(公告)号：CN1711628A
公开(公告)日：2005-12-21
申请号：CN200380102846.6
申请日：2003-11-04
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: H01L21/304 , B08B7/00
CPC classification number: H01L21/0206 , H01L21/02101
Abstract: 本发明提供一种用于清洗微结构的方法，它能够有效除去污染物如抗蚀剂残余而不损害半导体晶片所需要的物质如低－k膜。该清洗方法包括流化主要包括高压下的二氧化碳和清洗组分的清洗剂组合物以及使清洗剂组合物与微结构接触以除去粘附在微结构中的物质，其中氟化氢用作清洗组分。
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公开(公告)号：CN1204603C
公开(公告)日：2005-06-01
申请号：CN02118458.5
申请日：2002-04-24
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: H01L21/304 , F26B5/06 , G03F7/40
Abstract: 本发明是一种在用碳氟化合物系溶剂覆盖微细结构体表面的状态下，使该微细结构体与液态二氧化碳或超临界二氧化碳接触进行干燥的方法。采用本发明的干燥方法，在用液态/超临界二氧化碳处理前，在用碳氟化合物系溶剂覆盖微细结构体表面的状态下使之与二氧化碳接触，从而能够尽可能地抑制光致抗蚀剂图案的倒塌或膨润。另外，包括使用含水溶剂的洗涤工序的情况下，由于其构成为用排水液置换水，再用碳氟化合物系溶剂置换该排水液，因此能够迅速进行采用液态/超临界二氧化碳的干燥之前的工序，也可以抑制光致抗蚀剂图案的倒塌或膨润。
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