公开(公告)号：CN1115459A

公开(公告)日：1996-01-24

申请号：CN95103271.2

申请日：1995-02-28

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 田村太久夫 ,  中野朝雄 ,  末永和史 ,  尾形洁 ,  笹崇三 ,  熊坂登行

IPC: G11B5/255

CPC classification number: C01F7/162 ,  C01B33/20 ,  C01F7/16 ,  C01P2002/02 ,  C01P2002/70 ,  C23C14/08 ,  C23C30/00 ,  G11B5/255 ,  G11B5/3106 ,  G11B5/53 ,  G11B15/61

Abstract: 本发明提供一种保护膜，设置在磁头的滑动面上时，其热膨胀系数、硬度与磁头基板的热膨胀系数、硬度接近，而且是用防水性好、成膜速度快的材料制成。所说的保护膜，至少其一部分中包括成分CaMgSi2O6区域。此区域的原子配置是Ca以八配位与0结合，Mg以六配位与0结合，Si以四配位与0结合。