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公开(公告)号：CN100519095C
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200610146365.0
申请日：2006-09-30
Applicant: 株式会社大亨
Abstract: 本发明提供一种搬送装置(A1)，包括：固定基座(1)、相对于固定基座(1)可转动地被保持的旋转基座(2)、相对于该旋转基座(2)可摆动地被支撑的连杆臂机构(3)、和由该连杆臂机构(3)支撑的柄(4)，伴随着旋转基座(2)和连杆臂机构(3)的动作，由柄(4)水平地保持工件并进行搬送。在旋转基座(2)和固定基座(1)之间设置有气密密封件(23A)，并且在该固定基座(1)和旋转基座(2)上设置有制冷剂循环路，该制冷剂循环路的一部分设置在气密密封件(23A)的附近。另一方面，制冷剂循环路构成为包含形成在旋转基座(1)和固定基座(2)的边界上的环状空间(110A、210A)。
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公开(公告)号：CN101627467B
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN200780051937.X
申请日：2007-03-02
Applicant: 株式会社大亨
IPC: H01L21/677 , B25J9/06 , B65G49/06
CPC classification number: B25J9/107 , B65G49/061 , B65G49/067 , B65G2249/02 , H01L21/67115 , H01L21/67742
Abstract: 本发明提供一种搬送装置(A)，其配置于真空室(B)内，包括固定基座(1)、相对于固定基座(1)保持为可旋转的旋转基座(2)、支撑于旋转基座(2)的直线移动机构(3A、3B)、和支撑于直线机构(3A、3B)的柄(4A、4B)，通过直线移动机构(3A、3B)的动作对载置于柄(4A、4B)的工件(W)进行搬送。在旋转基座(2)或者直线移动机构(3A、3B)的下表面侧的适当部位设有热辐射板(62、63、65)，在形成真空室(B)的壁中的与旋转基座(2)的下表面侧相对的壁上设有吸热板(61、66)。
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公开(公告)号：CN101627467A
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：CN200780051937.X
申请日：2007-03-02
Applicant: 株式会社大亨
IPC: H01L21/677 , B25J9/06 , B65G49/06
CPC classification number: B25J9/107 , B65G49/061 , B65G49/067 , B65G2249/02 , H01L21/67115 , H01L21/67742
Abstract: 本发明提供一种搬送装置(A)，其配置于真空室(B)内，包括固定基座(1)、相对于固定基座(1)保持为可旋转的旋转基座(2)、支撑于旋转基座(2)的直线移动机构(3A、3B)、和支撑于直线机构(3A、3B)的柄(4A、4B)，通过直线移动机构(3A、3B)的动作对载置于柄(4A、4B)的工件(W)进行搬送。在旋转基座(2)或者直线移动机构(3A、3B)的下表面侧的适当部位设有热辐射板(62、63、65)，在形成真空室(B)的壁中的与旋转基座(2)的下表面侧相对的壁上设有吸热板(61、66)。
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公开(公告)号：CN1939674A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200610146365.0
申请日：2006-09-30
Applicant: 株式会社大亨
Abstract: 本发明提供一种搬送装置(A1)，包括：固定基座(1)、相对于固定基座(1)可转动地被保持的旋转基座(2)、相对于该旋转基座(2)可摆动地被支撑的连杆臂机构(3)、和由该连杆臂机构(3)支撑的柄(4)，伴随着旋转基座(2)和连杆臂机构(3)的动作，由柄(4)水平地保持工件并进行搬送。在旋转基座(2)和固定基座(1)之间设置有气密密封件(23A)，并且在该固定基座(1)和旋转基座(2)上设置有制冷剂循环路，该制冷剂循环路的一部分设置在气密密封件(23A)的附近。另一方面，制冷剂循环路构成为包含形成在旋转基座(1)和固定基座(2)的边界上的环状空间(110A、210A)。
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