静电放电耐受能力评价装置和静电放电耐受能力评价方法

    公开(公告)号:CN101529263B

    公开(公告)日:2012-08-22

    申请号:CN200780038764.8

    申请日:2007-10-17

    Abstract: 具有施加装置(10)和公共连接部(51)。其中,上述施加装置(10)施加脉冲电荷,包括:第1连接部(15),可与源极驱动器(120)的输入端子或输出端子连接,并对源极驱动器(120)施加电荷;以及第2连接部(16),可连接不同于上述与第1连接部(15)连接的端子的端子,并且,第2连接部(16)所连接的端子可接地。上述公共连接部(51)可与源极驱动器(120)的多个输出端子连接,并使得该多个输出端子彼此电连接。源极驱动器(120)的输出端子通过公共连接部(51)与第1连接部(15)或第2连接部(16)连接。上述结构能够更好地再现半导体器件的故障状况,从而对半导体器件的静电放电耐受能力进行评价。

    半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN100546025C

    公开(公告)日:2009-09-30

    申请号:CN03154911.X

    申请日:2003-08-25

    Inventor: 下村奈良和

    CPC classification number: H01L29/66136 H01L29/861 H01L29/8611

    Abstract: 一种半导体器件包括第一导电性的半导体基片;和在邻近半导体基片的内表面形成的第一电极形成区和第二电极形成区。第一电极形成区和第二电极形成区通过元件隔离区而互相隔离。在第一电极形成区和第二电极形成区之一中形成了上面的第一类型杂质层和下面的第一类型杂质层,下面的第一类型杂质层有不同于上面的第一类型杂质层的第一类型杂质浓度,并形成在上面的第一类型杂质层的下面。在另一个电极形成区,形成了第二类型杂质层和第一类型杂质层,且第一类型杂质层在具有第二类型杂质的第二类型杂质层的部分区域的下面形成。

    母端子及连接器
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110350346A

    公开(公告)日:2019-10-18

    申请号:CN201910260416.X

    申请日:2019-04-02

    Abstract: 与所插入的插脚(公端子)(12)电连接的插口(母端子)(11),其具有:按压部(14),通过插脚(12)而施加按压;夹持片(13),若按压部(14)被按压,则从允许插脚(12)插入的插入状态变形为夹入插脚(12)的夹持状态。

    静电放电耐受能力评价装置和静电放电耐受能力评价方法

    公开(公告)号:CN101529263A

    公开(公告)日:2009-09-09

    申请号:CN200780038764.8

    申请日:2007-10-17

    Abstract: 具有施加装置(10)和公共连接部(51)。其中,上述施加装置(10)施加脉冲电荷,包括:第1连接部(15),可与源极驱动器(120)的输入端子或输出端子连接,并对源极驱动器(120)施加电荷;以及第2连接部(16),可连接不同于上述与第1连接部(15)连接的端子的端子,并且,第2连接部(16)所连接的端子可接地。上述公共连接部(51)可与源极驱动器(120)的多个输出端子连接,并使得该多个输出端子彼此电连接。源极驱动器(120)的输出端子通过公共连接部(51)与第1连接部(15)或第2连接部(16)连接。上述结构能够更好地再现半导体器件的故障状况,从而对半导体器件的静电放电耐受能力进行评价。

    半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1534779A

    公开(公告)日:2004-10-06

    申请号:CN03154911.X

    申请日:2003-08-25

    Inventor: 下村奈良和

    CPC classification number: H01L29/66136 H01L29/861 H01L29/8611

    Abstract: 一种半导体器件包括第一导电性的半导体基片;和在邻近半导体基片的内表面形成的第一电极形成区和第二电极形成区。第一电极形成区和第二电极形成区通过元件隔离区而互相隔离。在第一电极形成区和第二电极形成区之一中形成了上面的第一类型杂质层和下面的第一类型杂质层,下面的第一类型杂质层有不同于上面的第一类型杂质层的第一类型杂质浓度,并形成在上面的第一类型杂质层的下面。在另一个电极形成区,形成了第二类型杂质层和第一类型杂质层,且第一类型杂质层在具有第二类型杂质的第二类型杂质层的部分区域的下面形成。

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