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公开(公告)号:CN119212550A
公开(公告)日:2024-12-27
申请号:CN202411340103.2
申请日:2024-09-25
Applicant: 复旦大学
Abstract: 本发明公开一种基于氧化物电极的铪基铁电存储器及其制备方法。该制备方法包括以下步骤:在衬底上生长金属底电极;生长铪基铁电材料层;生长TiN层作为覆盖层,并进行退火,然后去除TiN覆盖层;形成氧化物顶电极;其中,通过调控氧化物电极中的氧空位含量和厚度,优化电极和铁电功能层界面特性。
公开(公告)号:CN119212550A
公开(公告)日:2024-12-27
申请号:CN202411340103.2
申请日:2024-09-25
Applicant: 复旦大学
Abstract: 本发明公开一种基于氧化物电极的铪基铁电存储器及其制备方法。该制备方法包括以下步骤:在衬底上生长金属底电极;生长铪基铁电材料层;生长TiN层作为覆盖层,并进行退火,然后去除TiN覆盖层;形成氧化物顶电极;其中,通过调控氧化物电极中的氧空位含量和厚度,优化电极和铁电功能层界面特性。