一种纳米或者原子尺度自旋阀的制备方法

    公开(公告)号:CN117529213A

    公开(公告)日:2024-02-06

    申请号:CN202311514010.2

    申请日:2023-11-14

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种纳米或者原子尺度自旋阀的制备方法,该方法首先在衬底表面制备缓冲层和金属电极,然后基于邻近效应光刻法制备磁性金属点接触器件,将器件置于真空探针台,利用电流反馈控制法制备原子尺度点接触结构,并且通过自然氧化制备出磁阻效应高达40%的磁隧道结,从而得到纳米或者原子尺度自旋阀。本发明提出的制备方法可以有效控制原子接触点的接触宽度,相较于现有技术,本发明减小了自旋阀结构的复杂性,并且在一定程度上降低了器件功耗。本发明制备方法简单,磁隧道结的磁阻较大,并且与传统的CMOS工艺兼容,为后续器件的集成提供了有利条件。

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