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公开(公告)号：CN111074226B
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN202010084685.8
申请日：2020-02-10
Applicant: 兰州理工大学 , 中国科学院兰州化学物理研究所
Abstract: 本发明提供了一种碳基复合薄膜及其制备方法，属于表面工程领域。本发明以碳靶和金属碳化物靶为溅射靶材，基于闭合场非平衡磁控溅射等离子体空间分布特点及样品转架转速对薄膜结构的影响规律，仅通过样品转架旋转“快‑慢”的周期性控制，在沉积过程中自发形成兼具纳米层结构和纳米复合结构的双结构的碳基复合薄膜，碳靶和金属碳化物靶在真空腔体中相对放置，当转架转速快时，沉积出具有纳米复合结构的复合薄膜，当转架转速慢时，沉积出具有纳米多层结构复合薄膜，通过转架转速的调节可实现纳米复合结构中纳米晶的尺寸和纳米多层结构中的调制周期，通过控制样品转架转速周期性调节的时间可实现纳米复合结构层和纳米多层结构层的厚度。
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公开(公告)号：CN111139430A
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN202010052653.X
申请日：2020-01-17
Applicant: 兰州理工大学 , 中国科学院兰州化学物理研究所
Abstract: 本发明提供了一种织构化类金刚石碳基薄膜及其制备方法，属于表面工程领域。本发明提供一种利用金属网筛栅遮挡金属基体表面的方法，简单便捷地原位制备织构化DLC薄膜，金属基底表面的金属网筛并非与基底紧密贴合，而是与基底留有一定间隙，且间隙尺寸严格控制，利用此间隙实现沉积空间等离子体密度的重新分布，使金属网栅遮挡区域与基体间隙处的等离子体密度增加，从而提高此区域的沉积速率，而未遮挡区域沉积速率不变，导致遮挡区域薄膜厚度大于未遮挡区域，从而在薄膜沉积过程中原位形成织构化表层，薄膜本身连续完整，不存在未覆盖区域，且织构坑形状、密度和深度均可通过沉积工艺的调控实现可控调节。
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公开(公告)号：CN111074226A
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN202010084685.8
申请日：2020-02-10
Applicant: 兰州理工大学 , 中国科学院兰州化学物理研究所
Abstract: 本发明提供了一种碳基复合薄膜及其制备方法，属于表面工程领域。本发明以碳靶和金属碳化物靶为溅射靶材，基于闭合场非平衡磁控溅射等离子体空间分布特点及样品转架转速对薄膜结构的影响规律，仅通过样品转架旋转“快-慢”的周期性控制，在沉积过程中自发形成兼具纳米层结构和纳米复合结构的双结构的碳基复合薄膜，碳靶和金属碳化物靶在真空腔体中相对放置，当转架转速快时，沉积出具有纳米复合结构的复合薄膜，当转架转速慢时，沉积出具有纳米多层结构复合薄膜，通过转架转速的调节可实现纳米复合结构中纳米晶的尺寸和纳米多层结构中的调制周期，通过控制样品转架转速周期性调节的时间可实现纳米复合结构层和纳米多层结构层的厚度。
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公开(公告)号：CN111139430B
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN202010052653.X
申请日：2020-01-17
Applicant: 兰州理工大学 , 中国科学院兰州化学物理研究所
Abstract: 本发明提供了一种织构化类金刚石碳基薄膜及其制备方法，属于表面工程领域。本发明提供一种利用金属网筛栅遮挡金属基体表面的方法，简单便捷地原位制备织构化DLC薄膜，金属基底表面的金属网筛并非与基底紧密贴合，而是与基底留有一定间隙，且间隙尺寸严格控制，利用此间隙实现沉积空间等离子体密度的重新分布，使金属网栅遮挡区域与基体间隙处的等离子体密度增加，从而提高此区域的沉积速率，而未遮挡区域沉积速率不变，导致遮挡区域薄膜厚度大于未遮挡区域，从而在薄膜沉积过程中原位形成织构化表层，薄膜本身连续完整，不存在未覆盖区域，且织构坑形状、密度和深度均可通过沉积工艺的调控实现可控调节。
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公开(公告)号：CN112647040A
公开(公告)日：2021-04-13
申请号：CN202110000976.9
申请日：2021-01-04
Applicant: 中国科学院兰州化学物理研究所 , 青岛市资源化学与新材料研究中心(中国科学院兰州化学物理研究所青岛研究发展中心)
Abstract: 本发明涉及一种磁控溅射‑多弧离子镀耦合工艺沉积刀具涂层，具体公开的涂层由金属粘结层、ta‑c功能耐磨层和表面类金刚石层组成。本发明以金属Cr靶和石墨靶材为原材料，该膜层的体系结构如下：（1）金属Cr层作为与基体的粘结层，同时为ta‑c功能层提供较强的黏着强度；（2）ta‑c功能层的周期性连续镀制，在切削过程中提供良好的润滑性；（3）表面类金刚石(DLC)薄膜的镀制，主要起到降低表面粗糙度和钉扎效应，提高膜层体系的耐磨性。本发明利用耦合镀膜工艺制备的ta‑c基多层耐磨涂层能够显著提高耐磨性，降低切削过程中的粘附行为，特别适用于高精度的切削工况。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112647040B
公开(公告)日：2022-06-21
申请号：CN202110000976.9
申请日：2021-01-04
Applicant: 中国科学院兰州化学物理研究所 , 青岛市资源化学与新材料研究中心(中国科学院兰州化学物理研究所青岛研究发展中心)
Abstract: 本发明涉及一种磁控溅射‑多弧离子镀耦合工艺沉积刀具涂层，具体公开的涂层由金属粘结层、ta‑c功能耐磨层和表面类金刚石层组成。本发明以金属Cr靶和石墨靶材为原材料，该膜层的体系结构如下：（1）金属Cr层作为与基体的粘结层，同时为ta‑c功能层提供较强的黏着强度；（2）ta‑c功能层的周期性连续镀制，在切削过程中提供良好的润滑性；（3）表面类金刚石(DLC)薄膜的镀制，主要起到降低表面粗糙度和钉扎效应，提高膜层体系的耐磨性。本发明利用耦合镀膜工艺制备的ta‑c基多层耐磨涂层能够显著提高耐磨性，降低切削过程中的粘附行为，特别适用于高精度的切削工况。
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公开(公告)号：CN115948712A
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN202211645091.5
申请日：2022-12-21
Applicant: 中国科学院兰州化学物理研究所
Abstract: 本发明涉及挠性覆铜板技术领域，尤其涉及一种挠性覆铜板的制备方法。本发明提供了一种挠性覆铜板的制备方法，包括以下步骤：采用高能量非金属离子束，对聚合物薄膜的表面进行刻蚀活化，得到活化后的聚合物薄膜；采用磁控溅射，在所述活化后的聚合物薄膜的表面注入金属离子，得到聚合物‑金属互穿网络结构界面；在所述聚合物‑金属互穿网络结构界面沉积铜薄膜，在沉积铜薄膜的同时，采用间歇性Ar+轰击所述铜薄膜。所述制备方法可以显著提高挠性覆铜板表层铜薄膜与聚合物基材之间的剥离强度。
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公开(公告)号：CN105862002A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201610398362.X
申请日：2016-06-07
Applicant: 中国科学院兰州化学物理研究所
CPC classification number: C23C14/352 , C23C14/021 , C23C14/022 , C23C14/0641 , C23C14/0652 , C23C14/16 , C23C14/18 , C23C14/20 , C23C14/325
Abstract: 本发明公开了一种类牡蛎壳的仿生多层强韧化薄膜，该薄膜具有多层复合结构，采用非晶金属层和纳米复合结构层交互叠加的方式形成。纳米复合结构层是指具有“非晶相包覆纳米晶相的复合结构”的单层，非晶金属层相当于牡蛎壳的有机质层，纳米复合结构层相当于牡蛎壳的方解石板条层。该薄膜采用电弧离子镀复合磁控溅射技术制备得到，制备的薄膜具有类牡蛎壳的多层复合结构，结构致密，界面层清晰，通过控制薄膜单层的厚度，实现薄膜高硬度、高强度、高韧性、低摩擦和优异的耐磨损性能，并具有一定的高温自润滑性能。
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公开(公告)号：CN104930054A
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201510376888.3
申请日：2015-07-01
Applicant: 中国科学院兰州化学物理研究所
CPC classification number: Y02T10/865
Abstract: 本发明公开了一种滚子轴承，包括外周具有滚道的内圈、内周具有滚道的外圈、在内圈滚道和外圈滚道之间的滚子、保持架以及止推结构，滚子端面的止推接触区为复合润滑结构，该复合润滑结构由固体润滑涂层和表面微织构组成，其中表面微织构为均匀分布的微凹坑阵列。本发明所述滚子轴承具有提升的抗卡死能力、低摩擦和高服役稳定性的优点，适用于高速、重载、冲击载荷和沙尘等苛刻工况下承受轴向或轴径向联合载荷主轴机构的高效传动。
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公开(公告)号：CN102994967A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201110274370.0
申请日：2011-09-17
Applicant: 中国科学院兰州化学物理研究所
Abstract: 本发明涉及一种超厚类金刚石涂层的超高速制备方法。该方法利用等离子体浸没离子注入和高密度等离子体化学气相沉积一体化技术，在不锈钢、铝合金、钛合金、铜、陶瓷等各种试样基底上实现超厚类金刚石涂层的超高速沉积，沉积速率达到80～140nm/min。首先对试样基底实施硅或氮元素浸没离子注入，然后在硅烷、乙炔和氩气混合气氛中，利用高密度等离子体效应交替沉积周期变化硅含量的类金刚石涂层，最终可在试样基底上获得8～30微米厚的超厚类金刚石涂层。本发明获得的超厚类金刚石涂层具有高的膜基结合强度，低摩擦系数和长寿命特性。
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