-
公开(公告)号：CN104882494A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201510202701.8
申请日：2015-04-27
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: H01L31/0216
CPC classification number: H01L31/02168
Abstract: 本发明公开了一种去除以含铬材料为粘着层的银反射薄膜的退膜工艺，其包含使用去离子水和无水酒精清洁薄膜表面、试剂1去银、试剂2去铬和试剂3缓冲研磨、水洗干燥及无水酒精清洁步骤。试剂1由36％～38％浓度的盐酸、五水合硫酸铜及去离子水组成，试剂2由70％浓度的硝酸、硝酸铈氨及去离子水组成，试剂3由碳酸氢钠和去离子水组成。用量为：1L试剂1中盐酸和去离子水的体积比例为1:1～4，所需五水合硫酸铜10～40g/L；1L试剂2所需硝酸50～100ml、硝酸铈氨100～200g；试剂3需要过量碳酸氢钠与去离子水形成悬浊液。退膜工艺中不含氢氟酸HF和诸如氢氧化钠NaOH、氢氧化钾KOH之类强碱等物质。
-
公开(公告)号：CN115786858A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211587989.1
申请日：2022-12-08
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 基于Ag基膜系边缘部分环境稳定性提高的镀膜方法，属于光学薄膜领域，目的在于解决Ag基保护膜系反射镜环境稳定性差的问题。本发明的方法包括工装设计方法和镀膜工艺，其中工装包括与镀膜基片环面接触的介质保护膜堆镀膜工装和主反射膜堆镀膜工装两部分；镀膜工艺为两次镀膜方式，第一次将基片装入介质保护膜堆镀膜工装并装配主反射膜堆镀膜工装完成粘着层，Ag层和抗氧化层的镀制，第二次卸掉主反射膜堆镀膜工装并进行离子源轰击后完成介质保护层的镀制。整个镀膜流程前后镀膜基片始终位于介质保护膜堆镀膜工装上，主反射膜堆镀膜工装和镀膜基片不产生直接接触，介质保护膜堆镀膜面积大于主反射膜堆镀膜面积，有效提高了镀膜基片的环境稳定性。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106855512A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：CN201710032776.5
申请日：2017-01-18
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01N21/59
CPC classification number: G01N21/59
Abstract: 本发明公开了一种基于透过率测量定量评估金属高反膜环境稳定性的方法，该方法所述的金属高反膜透过率测量采用激光器作光源，通过机械斩波器强度调制后的光束经孔径光阑和扩束系统后入射到分束元件上被分为两束，一束光经过聚焦透镜后进入参考探测器，另外一束光穿过测量样品和聚焦透镜后入射到测量探测器。测试样品放置在二维平移台上，通过调节二维平移台改变测试样品位置，测量一定区域的透过率，取其平均值作为测试样品的透过率。根据透过率定量标定金属高反膜的针孔等缺陷密度，用于表征其环境稳定性。本发明定量表征金属反射膜的针孔密度，以及加速环境试验下膜层透过率的演变，为工艺参数优化提供了依据，试验装置简单易行，可靠性强。
-
公开(公告)号：CN115786858B
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202211587989.1
申请日：2022-12-08
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 基于Ag基膜系边缘部分环境稳定性提高的镀膜方法，属于光学薄膜领域，目的在于解决Ag基保护膜系反射镜环境稳定性差的问题。本发明的方法包括工装设计方法和镀膜工艺，其中工装包括与镀膜基片环面接触的介质保护膜堆镀膜工装和主反射膜堆镀膜工装两部分；镀膜工艺为两次镀膜方式，第一次将基片装入介质保护膜堆镀膜工装并装配主反射膜堆镀膜工装完成粘着层，Ag层和抗氧化层的镀制，第二次卸掉主反射膜堆镀膜工装并进行离子源轰击后完成介质保护层的镀制。整个镀膜流程前后镀膜基片始终位于介质保护膜堆镀膜工装上，主反射膜堆镀膜工装和镀膜基片不产生直接接触，介质保护膜堆镀膜面积大于主反射膜堆镀膜面积，有效提高了镀膜基片的环境稳定性。
-
公开(公告)号：CN114114703B
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202111507648.4
申请日：2021-12-10
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种适用于宽角度入射的全介质消偏分光棱镜及其制备方法，其包含两个等腰直角棱镜及胶合其中的全介质混合材料消偏分光膜。入射光在±5°范围内入射胶合后的棱镜，会被分为两束子光束出射，分别为透射光和反射光，两者光强比为50％:50％，每束出射子光束中s向与p向偏振光的光强差值在入射光光强的±3％以内。全介质混合材料消偏分光膜由具有高、中、低三种折射率的膜材按照一定顺序依次交替镀制而成，其中，中间折射率膜材可能并不存在于现有种类的膜材中。本发明通过混合共溅射方式突破材料折射率范围的限制，极大地增强了基板、入射角和工作波长以及膜层材料的可选性，使本发明所述的消偏棱镜的应用场景更加广泛。
-
公开(公告)号：CN114114703A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202111507648.4
申请日：2021-12-10
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种适用于宽角度入射的全介质消偏分光棱镜及其制备方法，其包含两个等腰直角棱镜及胶合其中的全介质混合材料消偏分光膜。入射光在±5°范围内入射胶合后的棱镜，会被分为两束子光束出射，分别为透射光和反射光，两者光强比为50％:50％，每束出射子光束中s向与p向偏振光的光强差值在入射光光强的±3％以内。全介质混合材料消偏分光膜由具有高、中、低三种折射率的膜材按照一定顺序依次交替镀制而成，其中，中间折射率膜材可能并不存在于现有种类的膜材中。本发明通过混合共溅射方式突破材料折射率范围的限制，极大地增强了基板、入射角和工作波长以及膜层材料的可选性，使本发明所述的消偏棱镜的应用场景更加广泛。
-
公开(公告)号：CN104882494B
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201510202701.8
申请日：2015-04-27
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: H01L31/0216
Abstract: 本发明公开了一种去除以含铬材料为粘着层的银反射薄膜的退膜工艺，其包含使用去离子水和无水酒精清洁薄膜表面、试剂1去银、试剂2去铬和试剂3缓冲研磨、水洗干燥及无水酒精清洁步骤。试剂1由36％～38％浓度的盐酸、五水合硫酸铜及去离子水组成，试剂2由70％浓度的硝酸、硝酸铈氨及去离子水组成，试剂3由碳酸氢钠和去离子水组成。用量为：1L试剂1中盐酸和去离子水的体积比例为1:1～4，所需五水合硫酸铜10～40g/L；1L试剂2所需硝酸50～100ml、硝酸铈氨100～200g；试剂3需要过量碳酸氢钠与去离子水形成悬浊液。退膜工艺中不含氢氟酸HF和诸如氢氧化钠NaOH、氢氧化钾KOH之类强碱等物质。
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.038 seconds)
