公开(公告)号：CN115786858A

公开(公告)日：2023-03-14

申请号：CN202211587989.1

申请日：2022-12-08

Applicant: 中国科学院光电技术研究所

Inventor： 苏志 ,  王长军 ,  何文彦 ,  魏铭

IPC: C23C14/30 ,  C23C14/50

Abstract: 基于Ag基膜系边缘部分环境稳定性提高的镀膜方法，属于光学薄膜领域，目的在于解决Ag基保护膜系反射镜环境稳定性差的问题。本发明的方法包括工装设计方法和镀膜工艺，其中工装包括与镀膜基片环面接触的介质保护膜堆镀膜工装和主反射膜堆镀膜工装两部分；镀膜工艺为两次镀膜方式，第一次将基片装入介质保护膜堆镀膜工装并装配主反射膜堆镀膜工装完成粘着层，Ag层和抗氧化层的镀制，第二次卸掉主反射膜堆镀膜工装并进行离子源轰击后完成介质保护层的镀制。整个镀膜流程前后镀膜基片始终位于介质保护膜堆镀膜工装上，主反射膜堆镀膜工装和镀膜基片不产生直接接触，介质保护膜堆镀膜面积大于主反射膜堆镀膜面积，有效提高了镀膜基片的环境稳定性。

公开(公告)号：CN115786858B

公开(公告)日：2024-08-30

申请号：CN202211587989.1

申请日：2022-12-08

Applicant: 中国科学院光电技术研究所

Inventor： 苏志 ,  王长军 ,  何文彦 ,  魏铭

IPC: C23C14/30 ,  C23C14/50

Abstract: 基于Ag基膜系边缘部分环境稳定性提高的镀膜方法，属于光学薄膜领域，目的在于解决Ag基保护膜系反射镜环境稳定性差的问题。本发明的方法包括工装设计方法和镀膜工艺，其中工装包括与镀膜基片环面接触的介质保护膜堆镀膜工装和主反射膜堆镀膜工装两部分；镀膜工艺为两次镀膜方式，第一次将基片装入介质保护膜堆镀膜工装并装配主反射膜堆镀膜工装完成粘着层，Ag层和抗氧化层的镀制，第二次卸掉主反射膜堆镀膜工装并进行离子源轰击后完成介质保护层的镀制。整个镀膜流程前后镀膜基片始终位于介质保护膜堆镀膜工装上，主反射膜堆镀膜工装和镀膜基片不产生直接接触，介质保护膜堆镀膜面积大于主反射膜堆镀膜面积，有效提高了镀膜基片的环境稳定性。