一种用作光学微腔的GaSb纳米盘的制备方法

    公开(公告)号:CN104760929A

    公开(公告)日:2015-07-08

    申请号:CN201510106443.3

    申请日:2015-03-10

    Abstract: 本发明公开了一种用作光学微腔的GaSb纳米盘的制备方法,该方法的特征在于:GaAs纳米线的生长遵循的是气—液—固机制下的轴向生长模式,而GaSb纳米盘遵循的却是气—固机制主导下的二维生长。GaSb生长过程中的主要参数包括衬底温度、Ga源和Sb源BEP束流值以及相应的V/III束流比。而且,可通过改变生长时间来调整纳米盘的大小。采用本发明中所述的分子束外延生长方法,所得到的GaSb纳米盘形状规则、表面平整、晶体质量高且不含任何缺陷,同时纳米盘的尺寸可以灵活调控。GaSb纳米盘在纳米激光器、生物传感器件方面有着潜在的应用前景。

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