公开(公告)号：CN119243111A

公开(公告)日：2025-01-03

申请号：CN202411376207.9

申请日：2024-09-30

Applicant: 中国核动力研究设计院 ,  上海福宜真空设备有限公司

Inventor： 张瑞谦 ,  陈寰 ,  伍晓勇 ,  褚家宝 ,  熊凯 ,  孙金伟 ,  李紫祎 ,  王晓敏 ,  徐祺 ,  杜沛南

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/32 ,  C23C14/50

Abstract: 本发明涉及一种细长管件的真空镀膜设备，采用了在腔体结构的一侧固定若干个分子泵控制装置；在腔体结构的圆周上设置若干个弧源；弧源在腔体结构的圆周表面上螺旋上升布置；在腔体结构的外部设置电机传动装置；电机传动装置带动转架驱动装置旋转；在转架驱动装置上连接三维转架装置；在三维转架装置上放置细长管件；转架驱动装置上带动三维转架装置，使得细长管件在腔体结构转动的同时，细长管件在弧源的作用下进行镀膜。在弧源重新设计排列以及改变内部的结构以后，实现了对细长管件完全镀膜，解决了在现有的真空镀膜设备中，由于受限于弧源分布以及细长管件较长的尺寸，无法完全镀膜均匀，造成镀膜质量很差的技术问题。

公开(公告)号：CN112899636A

公开(公告)日：2021-06-04

申请号：CN202110117962.5

申请日：2021-01-28

Applicant: 中国核动力研究设计院

Inventor： 张瑞谦 ,  王昱 ,  陈寰 ,  张超 ,  邱绍宇 ,  褚家宝 ,  熊凯

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/50 ,  C23C14/54

Abstract: 本发明公开了反应堆用大长径比管材真空镀膜机的工件架及其镀膜机，解决了现有的核反应堆用的大长径比的锆管镀膜所用的镀膜机的加热均匀性、电弧均匀性不好以及密封性不好，从而导致镀层要么结合力不足，要么均匀性不足，要么稳定性不足的技术问题。本发明包括公转组件和自转组件，所述公转组件包括大转盘和大齿轮，所述大转盘和大齿轮通过轴连接，所述大转盘位于所述大齿轮的下方，所述自转组件包括小齿轮和自转轴，所述小齿轮与所述大齿轮啮合，所述自转轴与所述大转盘连接，所述自转轴上安装工件。本发明具有镀膜均匀、结合力好等优点。

公开(公告)号：CN112899636B

公开(公告)日：2022-04-15

申请号：CN202110117962.5

申请日：2021-01-28

Applicant: 中国核动力研究设计院

Inventor： 张瑞谦 ,  王昱 ,  陈寰 ,  张超 ,  邱绍宇 ,  褚家宝 ,  熊凯

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/50 ,  C23C14/54

Abstract: 本发明公开了反应堆用大长径比管材真空镀膜机的工件架及其镀膜机，解决了现有的核反应堆用的大长径比的锆管镀膜所用的镀膜机的加热均匀性、电弧均匀性不好以及密封性不好，从而导致镀层要么结合力不足，要么均匀性不足，要么稳定性不足的技术问题。本发明包括公转组件和自转组件，所述公转组件包括大转盘和大齿轮，所述大转盘和大齿轮通过轴连接，所述大转盘位于所述大齿轮的下方，所述自转组件包括小齿轮和自转轴，所述小齿轮与所述大齿轮啮合，所述自转轴与所述大转盘连接，所述自转轴上安装工件。本发明具有镀膜均匀、结合力好等优点。

公开(公告)号：CN119265523A

公开(公告)日：2025-01-07

申请号：CN202411376092.3

申请日：2024-09-30

Applicant: 中国核动力研究设计院 ,  上海福宜真空设备有限公司

Inventor： 陈寰 ,  张瑞谦 ,  杨元才 ,  伍晓勇 ,  褚家宝 ,  孙金伟 ,  李紫祎 ,  王晓敏 ,  徐祺 ,  杜沛南

IPC: C23C14/32 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明涉及一种用于离子镀膜的弧源，采用了在安装组件内固定靶材组件；在靶材组件的下方固定绝缘法兰；在绝缘法兰下方用绝缘紧固组件，将水冷组件固定在安装组件上；在水冷组件的下方通过在水冷组件上的螺纹连接结构，将磁场组件与水冷组件固定连接；在安装组件的一侧固定连接引弧装置；引弧装置通过翻转引弧针，进行引弧；在本发明中改变了安装组件、水冷组件，磁场组件，引弧装置等装置的结构，避免了引弧针接触靶面的污染问题，解决了引弧的方式也导致离子镀膜的弧源体积较大的技术问题，减小了离子镀膜机的体积，降低了耗能等一系列的问题。解决了现有技术中的由于引弧的方式导致的问题。