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公开(公告)号:CN119243111A
公开(公告)日:2025-01-03
申请号:CN202411376207.9
申请日:2024-09-30
Applicant: 中国核动力研究设计院 , 上海福宜真空设备有限公司
Abstract: 本发明涉及一种细长管件的真空镀膜设备,采用了在腔体结构的一侧固定若干个分子泵控制装置;在腔体结构的圆周上设置若干个弧源;弧源在腔体结构的圆周表面上螺旋上升布置;在腔体结构的外部设置电机传动装置;电机传动装置带动转架驱动装置旋转;在转架驱动装置上连接三维转架装置;在三维转架装置上放置细长管件;转架驱动装置上带动三维转架装置,使得细长管件在腔体结构转动的同时,细长管件在弧源的作用下进行镀膜。在弧源重新设计排列以及改变内部的结构以后,实现了对细长管件完全镀膜,解决了在现有的真空镀膜设备中,由于受限于弧源分布以及细长管件较长的尺寸,无法完全镀膜均匀,造成镀膜质量很差的技术问题。
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公开(公告)号:CN112899636A
公开(公告)日:2021-06-04
申请号:CN202110117962.5
申请日:2021-01-28
Applicant: 中国核动力研究设计院
Abstract: 本发明公开了反应堆用大长径比管材真空镀膜机的工件架及其镀膜机,解决了现有的核反应堆用的大长径比的锆管镀膜所用的镀膜机的加热均匀性、电弧均匀性不好以及密封性不好,从而导致镀层要么结合力不足,要么均匀性不足,要么稳定性不足的技术问题。本发明包括公转组件和自转组件,所述公转组件包括大转盘和大齿轮,所述大转盘和大齿轮通过轴连接,所述大转盘位于所述大齿轮的下方,所述自转组件包括小齿轮和自转轴,所述小齿轮与所述大齿轮啮合,所述自转轴与所述大转盘连接,所述自转轴上安装工件。本发明具有镀膜均匀、结合力好等优点。
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公开(公告)号:CN112899636B
公开(公告)日:2022-04-15
申请号:CN202110117962.5
申请日:2021-01-28
Applicant: 中国核动力研究设计院
Abstract: 本发明公开了反应堆用大长径比管材真空镀膜机的工件架及其镀膜机,解决了现有的核反应堆用的大长径比的锆管镀膜所用的镀膜机的加热均匀性、电弧均匀性不好以及密封性不好,从而导致镀层要么结合力不足,要么均匀性不足,要么稳定性不足的技术问题。本发明包括公转组件和自转组件,所述公转组件包括大转盘和大齿轮,所述大转盘和大齿轮通过轴连接,所述大转盘位于所述大齿轮的下方,所述自转组件包括小齿轮和自转轴,所述小齿轮与所述大齿轮啮合,所述自转轴与所述大转盘连接,所述自转轴上安装工件。本发明具有镀膜均匀、结合力好等优点。
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