一种基于针尖轨迹运动加工微纳复合结构的装置及方法

    公开(公告)号:CN111732073A

    公开(公告)日:2020-10-02

    申请号:CN202010561529.6

    申请日:2020-06-18

    Abstract: 一种基于针尖轨迹运动加工微纳复合结构的装置及方法,涉及一种加工微纳复合结构的装置及方法。z向竖直微米定位台固定在基座上方,用于带动刀具初步逼近加工工件表面,一维压电纳米位移台固定在z向竖直微米定位台上,用于控制加工深度,针尖轨迹运动加工模块固定在一维压电纳米位移台上,用于控制刀具的竖直公转运动,x-y向水平定位台固定在基座上表面,用于控制水平加工进给运动,水平调平台固定在x-y向水平定位台上,用于安装加工工件并可调节消除其表面倾斜度,数码显微镜固定在基座上表面,用于检测对刀。能够在金属表面上加工出侧壁带有亚波长光栅的V形微沟槽结构,实现了对微纳复合分级结构的加工。

    一种基于针尖轨迹运动加工微纳复合结构的装置及方法

    公开(公告)号:CN111732073B

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202010561529.6

    申请日:2020-06-18

    Abstract: 一种基于针尖轨迹运动加工微纳复合结构的装置及方法,涉及一种加工微纳复合结构的装置及方法。z向竖直微米定位台固定在基座上方,用于带动刀具初步逼近加工工件表面,一维压电纳米位移台固定在z向竖直微米定位台上,用于控制加工深度,针尖轨迹运动加工模块固定在一维压电纳米位移台上,用于控制刀具的竖直公转运动,x‑y向水平定位台固定在基座上表面,用于控制水平加工进给运动,水平调平台固定在x‑y向水平定位台上,用于安装加工工件并可调节消除其表面倾斜度,数码显微镜固定在基座上表面,用于检测对刀。能够在金属表面上加工出侧壁带有亚波长光栅的V形微沟槽结构,实现了对微纳复合分级结构的加工。

    一种微纳双模检测加工模块

    公开(公告)号:CN110316695B

    公开(公告)日:2022-02-08

    申请号:CN201910368975.2

    申请日:2019-05-05

    Abstract: 本发明公开了一种微纳双模检测加工模块,所述模块包括Z向压电位移台、支架、电容式位移传感器、电容固定座、调节座、锁紧支座、上固定环、PZT激振器、下固定环、测试螺钉、柔性铰链、挡环、固定螺母和探针,其中:所述电容式位移传感器固定在电容固定座;所述电容固定座固定在调节座上方;所述上固定环、PZT激振器、下固定环、测试螺钉、柔性铰链、挡环、固定螺母和探针依次固定在调节座下方;所述探针通过固定螺母和测试螺钉固定在柔性铰链上;所述调节座固定在锁紧支座;所述锁紧支座固定在支架上;所述支架固定在Z向压电位移台上。该模块具有在线检测、伺服加工功能,相比较与商业化AFM,具有更大的加工尺寸及材料适用范围。

    一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法

    公开(公告)号:CN110699653B

    公开(公告)日:2021-08-03

    申请号:CN201911046675.9

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法,属于金属薄膜制备领域。装置是:X‑Y向位移平台与密封腔盖下表面固接,密封腔盖与升降机构的升降杆固接,升降机构与密封腔外侧壁固接,圆柱形磁控溅射靶上端与X‑Y向位移平台下表面固接,下端设置在转台内,转台设置在密封腔内。方法是:步骤一:运动轨迹规划;步骤二:参数和轨迹微调;步骤三:在转台上可拆卸固定待镀零件,闭合密封腔盖,圆柱靶到达指定位置,抽真空并通入工作气体;步骤四:检测反射率,不合格回到步骤二,调整磁控溅射制备参数,再检测均匀性,不合格回到步骤一调整运动轨迹;若合格,使用当前的磁控溅射参数和运动轨迹批量生产。本发明用于多面共体反射镜的金属薄膜制备。

    一种基于链传动的生物组织脱水装置及其脱水方法

    公开(公告)号:CN108051265B

    公开(公告)日:2020-05-15

    申请号:CN201711233122.5

    申请日:2017-11-30

    Abstract: 本发明公开一种基于链传动的生物组织脱水装置及其脱水方法,包括机架和位于机架内的试剂缸;机架下设置水平支撑轮,其上缠绕水平链条,水平链条上连接水平驱动轮;水平链条上固定水平直线轴承,水平直线轴承穿设于水平下导轨上,水平下导轨固定于机架上;水平直线轴承连接升降模块,升降模块上安装吊篮,吊篮用来盛装生物组织样本。本发明提供的基于链传动的生物组织脱水方法,吊篮在试剂缸中停留时间与酒精浓度成反比,吊篮停留时间与酒精浓度的乘积为固定常值,吊篮能根据试剂缸中酒精浓度的变化调整停留时间,本发明提供的基于链传动的生物组织脱水装置及其脱水方法,提高了生物组织脱水工艺效率,生物组织脱水效率高且传动精度高。

    一种为多面共体反射镜制备金属薄膜的异形靶

    公开(公告)号:CN110747433A

    公开(公告)日:2020-02-04

    申请号:CN201911046706.0

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 一种为多面共体反射镜制备金属薄膜的异形靶,本发明属于金属薄膜领域。水咀座后端与支撑管一端可拆卸连接,多个永磁铁套装在支撑管上且与支撑管间隙配合,每个隔离圈均由两个半圆环体组成,每两个半圆环体扣合设置在支撑管上,每两个半圆环体设置在支撑管外壁上并扣合且互相连接,多个隔离圈和多个永磁铁依次交替设置,异形靶材中部设有空腔,异形靶材的外形为柱状,异形靶材套装在多个隔离圈及多个永磁铁外侧,水咀座后端与异形靶材前端可拆卸连接,异形靶材后端与端盖可拆卸连接。本发明的异形靶的多个溅射面与多个反射镜对应一一对应,镀制的薄膜均匀性可以保证,异形靶与多面共体反射镜之间无需运动,缩小了薄膜沉积设备内腔的体积。

    一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法

    公开(公告)号:CN110699653A

    公开(公告)日:2020-01-17

    申请号:CN201911046675.9

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法,属于金属薄膜制备领域。装置是:X-Y向位移平台与密封腔盖下表面固接,密封腔盖与升降机构的升降杆固接,升降机构与密封腔外侧壁固接,圆柱形磁控溅射靶上端与X-Y向位移平台下表面固接,下端设置在转台内,转台设置在密封腔内。方法是:步骤一:运动轨迹规划;步骤二:参数和轨迹微调;步骤三:在转台上可拆卸固定待镀零件,闭合密封腔盖,圆柱靶到达指定位置,抽真空并通入工作气体;步骤四:检测反射率,不合格回到步骤二,调整磁控溅射制备参数,再检测均匀性,不合格回到步骤一调整运动轨迹;若合格,使用当前的磁控溅射参数和运动轨迹批量生产。本发明用于多面共体反射镜的金属薄膜制备。

    一种适用于微纳双模检测加工模块的控制系统及方法

    公开(公告)号:CN110262309A

    公开(公告)日:2019-09-20

    申请号:CN201910368973.3

    申请日:2019-05-05

    Abstract: 本发明公开了一种适用于微纳检测加工模块的控制系统及方法,所述系统包括微纳双模检测加工模块、三坐标工作台、PZT驱动器、UMAC、电荷放大器、锁相放大器、XY压电扫描台、路由器、上位机、CCD、XY向位移传感器和Z向位移传感器。本发明选用UMAC作为控制核心,利用其高性能伺服环、可扩展性强、集成度高特点,实现宏-微联动控制,采用模拟信号方式,保证信号处理、传输的实时性,满足设计需求。本发明通过对电容式位移传感器信号放大、锁相处理,作为闭环控制参考信号,该方式测试结果精确、对测试环境要求较低,可以实现μN级闭环控制。锁相放大器的使用排除了电容式位移传感器测试结果中的噪声信号,利于闭环精确控制。

    一种基于超声冲击的不锈钢表面微织构加工方法和制备装置

    公开(公告)号:CN109777947A

    公开(公告)日:2019-05-21

    申请号:CN201910049782.0

    申请日:2019-01-18

    Abstract: 本发明公开了一种基于超声冲击的不锈钢表面微织构加工方法和制备装置,所述装置包括超声冲击枪、超声冲击枪控制柜、超声冲击枪专用夹具、不锈钢工件专用夹具、大理石龙门架、XY轴整体运动平台、Z轴运动平台、三轴运动控制器、压力显示器,其中:超声冲击枪安装在位于Z轴运动平台上的超声冲击枪专用夹具上;不锈钢工件安装在位于XY轴运动平台上的不锈钢专用夹具上;Z轴运动台固定在大理石龙门架上;超声冲击枪控制柜与超声冲击枪相连;三轴运动控制器分别与XY轴整体运动平台和Z轴运动平台连接;不锈钢工件专用夹具带有压力传感器,压力显示器与压力传感器相连。该装置结构简单,加工精度高,加工可控性好,成本低,对环境无污染。

    一种基于AFM的微纳流控芯片制备方法

    公开(公告)号:CN109179313A

    公开(公告)日:2019-01-11

    申请号:CN201811002922.0

    申请日:2018-08-30

    Abstract: 本发明公开了一种基于AFM的微纳流控芯片制备方法,所述方法步骤如下:一、基于原子力显微镜的纳沟槽加工:应用AFM探针在金属样品表面进行纳米沟槽的加工;二、光刻法微沟槽加工:采用光刻法在单晶硅基底上进行微沟槽的加工;三、PDMS微纳沟槽转印:通过PMDS两次转印得到分别带有微、纳沟槽的PDMS单片;四、PDMS片键合:采用氧等离子体清洗机对具有微、纳沟槽的PDMS单片进行键合,得到所需结构的微纳流控芯片。本发明主要基于AFM的刻划加工,由于AFM刻划加工操作简便且效率高,所以采用本方法制备微纳流控芯片更高效。本发明的方法制备流程相对简单,使用材料为PDMS、单晶铜片等,成本相对较低。

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