半导体器件的制造方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1971859A

    公开(公告)日:2007-05-30

    申请号:CN200610144613.8

    申请日:2006-11-09

    Abstract: 一种半导体器件制造方法,包括在包含活性区的半导体衬底上形成导电层和硅膜,在活性区上的硅膜上形成含第一杂质的发射极电极,用发射极电极作为掩模部分地蚀刻硅膜,形成覆盖半导体衬底的绝缘膜和覆盖发射极电极侧面的侧壁膜,在导电层和硅膜中引入第二杂质,使第二杂质到达入活性区,形成在导电层和硅膜中的部分中的含第二杂质的杂质区,以及将发射极电极中所含第一杂质扩散到硅膜中,在硅膜中形成含第一杂质的第一区和不含第一杂质的第二区。

    半导体装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1790736A

    公开(公告)日:2006-06-21

    申请号:CN200510119957.9

    申请日:2005-09-27

    Abstract: 本发明提供一种减小发射极层的宽度、高性能的半导体装置。该半导体装置包括:集电极层(2),其形成在半导体基板(1)之上;含有硅的导电层(4),其形成在集电极层之上;硅膜(5),其形成在导电层(4)之上;发射极电极(7a),其形成在硅膜(5)之上;侧面膜(9),其覆盖发射极电极(7a)的侧面,所述发射极电极(7a)的底面高于侧面膜的下表面,所述硅膜的所述第2区域(5)的至少一部分位于导电层(4)与侧面膜(9)之间;杂质区域(10),其与所述导电层相邻形成;和硅化物膜(8b),其跨越所述第2区域(5)的所述侧面、导电层(4)的所述侧面和杂质区域(10)的所述表面形成。

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