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公开(公告)号:CN110391153A
公开(公告)日:2019-10-29
申请号:CN201910275042.9
申请日:2019-04-08
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 提供了一种用于半导体工艺的检查设备和半导体工艺装置,该检查设备包括:传送器,被构造为在多个腔室之间传送工艺目标;至少一个线照相机,安装在传送器上方,所述至少一个线照相机被构造为通过捕获由传送器传送的工艺目标的图像来生成原始图像;以及控制器,被构造为接收原始图像并且被构造为通过校正原始图像的由于传送器的传送速度的变化导致的失真来执行工艺目标的检查。
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公开(公告)号:CN1244925C
公开(公告)日:2006-03-08
申请号:CN03124981.7
申请日:2003-09-23
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G11B7/22
CPC classification number: G02B27/0068 , G11B7/22
Abstract: 一种光学拾波器的彗形象差修正装置,所述光学拾波器包括具有光电二极管的光学拾波器主体和安装在物镜上的激励器,所述物镜将由光电二极管发射的光束会聚到记录介质上。所述彗形象差修正装置包括:主支撑单元;保持单元;光学系统;驱动部分;和控制器。主支撑单元可拆卸地支撑光学拾波器主体。保持单元保持和释放由主支撑单元支撑的光学拾波器主体上的激励器。光学系统放大和拍摄由光电二极管发射并通过由保持单元保持的激励器物镜的光束。驱动部分调节激励器相对于光学拾波器主体的位置。控制器控制驱动部分以修正物镜的彗形象差。
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公开(公告)号:CN110391153B
公开(公告)日:2024-06-28
申请号:CN201910275042.9
申请日:2019-04-08
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 提供了一种用于半导体工艺的检查设备和半导体工艺装置,该检查设备包括:传送器,被构造为在多个腔室之间传送工艺目标;至少一个线照相机,安装在传送器上方,所述至少一个线照相机被构造为通过捕获由传送器传送的工艺目标的图像来生成原始图像;以及控制器,被构造为接收原始图像并且被构造为通过校正原始图像的由于传送器的传送速度的变化导致的失真来执行工艺目标的检查。
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公开(公告)号:CN1505020A
公开(公告)日:2004-06-16
申请号:CN03124981.7
申请日:2003-09-23
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G02B27/0068 , G11B7/22
Abstract: 一种光学拾波器的彗形象差修正装置,所述光学拾波器包括具有光电二极管的光学拾波器主体和安装在物镜上的激励器,所述物镜将由光电二极管发射的光束会聚到记录介质上。所述彗形象差修正装置包括:主支撑单元;保持单元;光学系统;驱动部分;和控制器。主支撑单元可拆卸地支撑光学拾波器主体。保持单元保持和释放由主支撑单元支撑的光学拾波器主体上的激励器。光学系统放大和拍摄由光电二极管发射并通过由保持单元保持的激励器物镜的光束。驱动部分调节激励器相对于光学拾波器主体的位置。控制器控制驱动部分以修正物镜的彗形象差。
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