等离子体处理装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107527782B

    公开(公告)日:2021-01-12

    申请号:CN201710325905.X

    申请日:2017-05-10

    Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置,该等离子体处理装置包括:腔室;窗口板,设置在腔室的上部分中并在其中限定有紧固孔;注入器,具有包括多个喷嘴并构造为被紧固到紧固孔的主体部、和从主体部径向地延伸以在主体部被紧固到紧固孔时部分地覆盖窗口板的底表面的凸缘部;和制动器,构造为在窗口板的上表面上被紧固到主体部以在主体部被紧固到紧固孔时将注入器保持在紧固孔中。

    等离子体处理装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107527782A

    公开(公告)日:2017-12-29

    申请号:CN201710325905.X

    申请日:2017-05-10

    Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置,该等离子体处理装置包括:腔室;窗口板,设置在腔室的上部分中并在其中限定有紧固孔;注入器,具有包括多个喷嘴并构造为被紧固到紧固孔的主体部、和从主体部径向地延伸以在主体部被紧固到紧固孔时部分地覆盖窗口板的底表面的凸缘部;和制动器,构造为在窗口板的上表面上被紧固到主体部以在主体部被紧固到紧固孔时将注入器保持在紧固孔中。

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