Invention Publication
CN113921382A 基板的清洗方法及半导体器件的制备方法
无效 - 驳回
- Patent Title: 基板的清洗方法及半导体器件的制备方法
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Application No.: CN202111514081.3Application Date: 2021-12-13
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Publication No.: CN113921382APublication Date: 2022-01-11
- Inventor: 唐斌 , 陈忠奎 , 朱红波 , 龙思阳 , 李鸿智 , 王宝生 , 欧志文
- Applicant: 广州粤芯半导体技术有限公司
- Applicant Address: 广东省广州市黄埔区凤凰五路28号
- Assignee: 广州粤芯半导体技术有限公司
- Current Assignee: 广州粤芯半导体技术有限公司
- Current Assignee Address: 广东省广州市黄埔区凤凰五路28号
- Agency: 上海思捷知识产权代理有限公司
- Agent 冯启正
- Main IPC: H01L21/02
- IPC: H01L21/02 ; B08B3/08
Abstract:
本发明提供了一种基板的清洗方法及半导体器件的制备方法。在利用含氢氟酸的第一溶液对基板进行清洗之后，将基板置于预定温度下，在该预定温度下可促使偏硅酸分解。因此，在较高浓度的氢氟酸清洗完成后并转移基板的过程中，即使在基板表面上会产生有偏硅酸，此时将基板置于预定温度下即可使偏硅酸分解，以利于进一步去除偏硅酸，从而可有效解决由氢氟酸清洗所带来的工艺缺陷。
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