公开(公告)号：CN113467093B

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN202110742269.7

申请日：2017-09-07

Applicant: 奇跃公司

Inventor： P·圣西莱尔

IPC: G02B27/01 ,  G02B27/42 ,  G03H1/02 ,  G03H1/28 ,  G02B27/00 ,  G02B6/38 ,  G02B5/32 ,  G02B5/18 ,  G02B6/00

Abstract: 本公开涉及包括厚介质的虚拟现实、增强现实和混合现实系统及相关方法。头戴式成像系统包括被配置为产生光束的光源。该系统还包括光导光学元件，其具有在0.1mm和1.5mm之间的厚度，并且被配置为通过全内反射传播光束的至少一部分。该系统还包括光导光学元件的进入部分和离开部分，其被配置为基于光的入射角、光的曲率半径和/或光的波长选择性地允许访问离开部分的光离开光导光学元件。

公开(公告)号：CN115087932A

公开(公告)日：2022-09-20

申请号：CN202080060112.X

申请日：2020-09-10

Applicant: 谷歌有限责任公司

Inventor： 罗宾·W·特森 ,  马远东

IPC: G03H1/28 ,  G02B27/01 ,  G02B5/32 ,  G03H1/02

Abstract: 一种将多个全息图记录到全息记录介质中的方法，包括将介质暴露于第一光以引起介质的第一层的至少一部分的第一折射率变化，从而在第一层中写入第一全息图而不改变记录介质的第二层的第二折射率。该方法还包括将介质暴露于第二光以引起第二层的至少一部分的第二折射率变化，从而在第二层中写入第二全息图。第一层可以包括可通过第一光聚合的第一可光聚合组合物，并且第二层可以包括可通过第二光聚合但不能通过第一光聚合的第二可光聚合组合物。

公开(公告)号：CN106716227B

公开(公告)日：2021-12-10

申请号：CN201580050263.6

申请日：2015-07-30

Applicant: 伊奎蒂公司

Inventor： 斯蒂芬·P·麦格鲁

IPC: G02B27/01 ,  G03H1/28 ,  H04N9/31 ,  G03H1/04

Abstract: 用于投影波场的方法及系统使用漫射介质、波前塑形器、照明源及控制系统。一种用于将物体波场投影到投影体积中的系统包含波散射器、经配置以将波场投影到所述波散射器上的波场投影仪及耦合到所述波场投影仪的控制器。所述控制器经配置以致使所述波场投影仪投影波场，所述波场在与所述波散射器交互作用后即刻被重新引导以形成物体波场，所述物体波场在所述投影体积中形成预定图案。

公开(公告)号：CN106644947B

公开(公告)日：2020-06-19

申请号：CN201610977103.2

申请日：2010-09-17

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 增村考洋

IPC: G01N21/17 ,  G01N21/47 ,  G03H1/02 ,  G03H1/04 ,  G03H1/22 ,  G03H1/26 ,  G03H1/28

Abstract: 本公开涉及辐照介质的装置和方法。一种用于辐照介质的方法包括：用电磁波辐照介质，所述电磁波在所述介质中散射，并且在所述介质中的某位置处被调制频率；获得与由调制的电磁波与参考波之间的干涉产生的干涉图案对应的信息；并且基于所获得的信息来产生辐照所述介质的相位共轭波。

公开(公告)号：CN104620180A

公开(公告)日：2015-05-13

申请号：CN201380047700.X

申请日：2013-09-13

Applicant: 巴斯夫欧洲公司

Inventor： M·里歇特 ,  R·弗勒里 ,  N·A·格里戈连科 ,  F·诺克

IPC: G03H1/28 ,  G03H1/02 ,  C09D5/29 ,  C09D7/12 ,  G03H1/26

CPC classification number: G03H1/182 ,  B42D25/328 ,  C09D5/29 ,  C09D7/40 ,  C09D7/68 ,  C09D7/70 ,  G02B5/18 ,  G02B5/1833 ,  G03H1/0011 ,  G03H1/0256 ,  G03H1/28 ,  G03H2001/2635 ,  G03H2250/43 ,  G03H2260/33

Abstract: 本发明涉及复合安全元件，其基于用于具有折射率调制的光学元件的记录材料，特别是全息图，随后将其用特定金属纳米型金属颗粒涂覆，其生产方法，特别是在纸或塑料基底上，和可使用安全元件得到的安全产品。本发明另一方面为该安全元件在防止价值文件的伪造或复制中的用途。

公开(公告)号：CN101151582A

公开(公告)日：2008-03-26

申请号：CN200580045752.9

申请日：2005-11-03

Applicant: 上海向隆电子科技有限公司

Inventor： 提摩西·A·麦考卡棱 ,  杰弗瑞·R·派克 ,  罗伯特·布尔德莱斯 ,  谢里尔·布里基 ,  克里斯·布罗菲 ,  李纯元 ,  罗纳德·J·苏多尔

IPC: G03H1/28

CPC classification number: F21V7/09 ,  G02B5/02 ,  G02B5/0221 ,  G02B5/0278 ,  G02B5/045 ,  G02B6/0053 ,  G02F1/133606 ,  G02F1/133615

Abstract: 本发明涉及一种将光线重新导向的高分子薄膜，包括多个单独的高分子光学元件，其中各个元件包括在薄膜平面上的各个弯曲楔形零件(光楔)，其长度在800－4000微米范围内。

公开(公告)号：CN1882886A

公开(公告)日：2006-12-20

申请号：CN200480034179.7

申请日：2004-11-04

Applicant: TDK股份有限公司

Inventor： 塚越拓哉 ,  吉成次郎 ,  三浦荣明 ,  水岛哲郎

IPC: G03H1/28 ,  G03H1/04

CPC classification number: G03H1/26 ,  G11B7/0065 ,  G11B7/007 ,  G11B2007/0009

Abstract: 一种使全息多重记录时的各记录区域内的残留动态范围更均匀的全息多重记录方法。该全息多重记录方法将记录光点RS沿X轴方向不重叠地排列而形成第一段记录光点行RX1，然后在Y轴方向的移位多重记录的位置上记录同样由沿X轴方向不重叠的记录光点RS构成的下一第二段记录光点行RX2，并将其反复进行，对沿X轴方向不进行移位多重记录也可记录的区域全部进行记录，从而形成Y轴方向第一多重记录光点矩阵TYX1，然后在相对最初记录的第一段记录光点行RX1在X轴方向的移位多重化的位置上，形成Y轴方向第二多重记录光点矩阵TYX2，以下同样而将X轴方向的移位多重记录进行到Y轴方向最终多重记录光点矩阵TYXn为止，并完成记录。

公开(公告)号：CN119689818A

公开(公告)日：2025-03-25

申请号：CN202510119388.5

申请日：2025-01-24

Applicant: 北京工业大学

Inventor： 林述锋 ,  尹孟凡 ,  王大勇 ,  赵洁 ,  王云新 ,  戎路

IPC: G03H1/26 ,  G03H1/28 ,  G03H1/08

Abstract: 一种基于载频复用的大视场全息图计算方法涉及信息光学技术领域。首先，对于3D输入图像进行尺寸预处理。因此，将原始大视场输入图像分层后按层进行裁切成不大于全息图尺寸的子输入图像序列。第二，利用全息图衍射传播计算方法分别对子输入图像序列进行子全息图求解。第三，根据每层大视场输入图像解析计算裁切子全息图重建的x‑y偏移距离，计算出各子全息图对应的衍射传播偏转载频因子。第四，各子全息图点乘各自的载频因子，并将点乘相应载频因子的各子全息图空间复用叠加形成最终的全息图。本发明实现了输入图像尺寸可以大于全息图的尺寸。

公开(公告)号：CN113227912B

公开(公告)日：2023-10-03

申请号：CN201980082292.9

申请日：2019-12-06

Applicant: 罗伯特·博世有限公司

Inventor： T·格拉夫

IPC: G03H1/00 ,  G03H1/04 ,  G03H1/26 ,  G03H1/28

Abstract: 本发明涉及一种用于制造全息光学元件(210)的方法(100)，该全息光学元件设置用于在投影系统中进行投影。根据方法100，记录全息图(210)，其方式是对于至少两个不同的配置引起第一高斯射束(212)和第二高斯射束(214)用于在全息薄膜(200)上的干涉。其中第一高斯射束(212)是参考射束，其对于至少两个不同的配置与用于重构全息光学元件(210)的重构射束相同。此外，第二高斯射束(214)是物射束，其在借助重构射束进行全息光学元件(210)的重构中与用于在投影系统中进行投影的投影射束相同。对于至少两个不同的配置对于第二高斯射束(214)设有至少一个射束特征，该射束特征各自与投影系统的预给定的投影特征有关。

公开(公告)号：CN114236823A

公开(公告)日：2022-03-25

申请号：CN202111393208.0

申请日：2015-07-30

Applicant: 伊奎蒂公司

Inventor： 斯蒂芬·P·麦格鲁

IPC: G02B27/01 ,  G03H1/28 ,  H04N9/31

Abstract: 本申请涉及通过漫射介质的图像及波场投影。用于投影波场的方法及系统使用漫射介质、波前塑形器、照明源及控制系统。一种用于将物体波场投影到投影体积中的系统包含波散射器、经配置以将波场投影到所述波散射器上的波场投影仪及耦合到所述波场投影仪的控制器。所述控制器经配置以致使所述波场投影仪投影波场，所述波场在与所述波散射器交互作用后即刻被重新引导以形成物体波场，所述物体波场在所述投影体积中形成预定图案。