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公开(公告)号：CN108106430A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：CN201711313014.9
申请日：2017-12-12
Applicant: 大同新成新材料股份有限公司
Inventor： 王谦
CPC classification number: F27B17/0033 , F27D1/04 , F27D21/00 , F27D21/0014
Abstract: 本发明公开了一种小规格细长特种碳材料一次成型焙烧炉料箱，包括炉体、固定盒，所述炉体由格子砖垒成，其四角采用转角格子砖，炉体为上部开口的矩形结构，其中部和底部均设有横向的支架，中部支架作为二层支架，底部支架作为一层支架，一层支架和二层支架上方都安装有多个矩形阵列的底座，其内侧安装有固定盒，所述固定盒为长筒型结构，固定盒中安装有固定格栅，所述固定格栅为多块金属片组成的矩形方格框，组成固定孔，固定格栅的外端与固定盒内壁紧贴；所述炉体下方设有底部火道；所述底座下方设有下测温头，所述固定盒的中部和顶部都设有中测温头和上测温头。本发明能够有效的实现对成品的固定，使其成品率提高。
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公开(公告)号：CN102378891B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201080015281.8
申请日：2010-04-08
Applicant: 株式会社IHI
Inventor： 胜俣和彦
CPC classification number: C21D1/667 , C21D1/00 , C21D1/18 , C21D1/773 , C21D9/0062 , C21D11/005 , F27B5/04 , F27B17/0016 , F27B17/0033 , F27D9/00 , F27D15/02 , F27D2009/0086
Abstract: 本发明的热处理装置是具备对加热后的被处理物（M）进行冷却的冷却室（120）的热处理装置，其中具有：将雾沫状的冷却液向冷却室内供给的雾沫供给部（20），将气体向冷却室内供给且调整雾沫状的冷却液的流动方向的气体供给部（30）。
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公开(公告)号：CN108225020A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201611154472.8
申请日：2016-12-14
Applicant: 青岛美璞精工机械有限公司
CPC classification number: F27B17/0033 , F27D1/00 , F27D2001/0059 , F27M2001/1504 , F27M2001/16 , F27M2003/04
Abstract: 本发明公开了一种烧结箱，包括下箱体、螺栓、螺母、弹性垫圈、上箱体、高铝耐火水泥捣料、篦条卡块、开口销、平垫圈、篦条，所述的烧结箱有上箱体和下箱体两部分，依靠螺母、螺栓和弹性垫圈固定，箱体内部是高铝耐火水泥捣料，所述的下箱体内部有篦条，所述的篦条采用分体式结构，可单独拆卸，所述的篦条安装的结尾处用篦条卡块、开口销和平垫圈固定，本发明的有益效果是：上下箱体采用球墨铸铁，可以削除因箱体采用钢结构件，受热后变形而导致烧结箱的频繁整修，甚至报废。篦条损坏可以从开口销只拆卸替换损坏的篦条，方便维修；篦条是高铬耐热铸铁材料，它的耐高温性能、耐磨性强、耐腐蚀性强和抗压能力强，延长了烧结箱的使用寿命。
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公开(公告)号：CN107339887A
公开(公告)日：2017-11-10
申请号：CN201710716942.3
申请日：2017-08-21
Applicant: 江苏广盛源科技发展有限公司
CPC classification number: F27B17/0033 , F27D1/0033 , F27D3/00 , F27D3/0024 , F27D5/0006 , F27D2003/0002 , F27D2003/0091
Abstract: 本发明涉及工件煅烧附属装置的技术领域，特别是涉及一种纺丝工件用煅烧炉，其工作箱高度可以根据工作人员需要进行调节，提高其适应能力；并且能够方便的对不规则工件进行固定，提高其使用可靠性；而且放置架位置能够根据工件需要进行移动，从而降低其使用局限性；包括工作箱、放置架和四组支架，工作腔内侧壁上设置有多组U型加热器；四组支架均包括插柱和插管，四组支架还均包括左限位板、左连接杆、左套簧、左连接板、左限位块、右限位板、右连接杆、右套簧、右连接板和右限位块，插管左侧壁和右侧壁上分别设置有左通孔和右通孔；还包括两组固定板、两组固定弹簧和两组固定块；工作腔内底侧壁前后向设置有滑槽，还包括滑板。
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公开(公告)号：CN108800935A
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201810789329.9
申请日：2018-07-18
Applicant: 绍兴熠祥电器有限公司
Inventor： 陈律峰
CPC classification number: F27B17/0033 , F27B17/0083 , F27D1/1858 , F27D3/12 , F27D11/00 , F27D19/00 , F27D21/0014 , F27D21/04 , F27D2019/0003
Abstract: 本发明公开了一种红外线加热的装置，包括加热装置主体，所述加热装置主体的上端外表面一侧靠近后端位置设有配电箱，所述加热装置主体的前端外表面居中位置设有活动箱门，且活动箱门的前端外表面一侧居中位置设有开关阀，所述活动箱门与加热装置主体之间设有铰链，且加热装置主体的下端外表面四角位置均设有支撑腿，所述支撑腿的下端外表面设有地垫。本发明所述的一种红外线加热的装置，设有转盘、温度感应器和通风箱门，首先能够带动被加热的物品慢速转动，让物品受热更加均匀，且能够让人们实时了解装置内部的温度，此外能够加快装置内部空气流通，加热工作完成后方便对装置进行散热，带来更好的使用前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103149326B
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201310042914.X
申请日：2009-09-24
Applicant: 赫姆洛克半导体公司
CPC classification number: F27B17/0033 , C01B33/021 , C01B33/037 , C30B29/06 , C30B33/02 , C30B35/00 , F27D19/00 , F27D2019/0006
Abstract: 测定污染高纯硅的污染材料中杂质的量的方法，包括在污染材料中部分地包埋高纯硅的样品的步骤。将包埋在污染材料中的样品在炉子内加热。测定在加热步骤之后高纯硅的杂质含量与在加热步骤之前高纯硅的杂质含量相比的变化。用于热处理高纯硅的炉子，包含限定加热室的外壳。所述外壳至少部分地由低污染物材料形成，所述低污染物材料在于退火温度下加热历时足以使高纯硅退火的时间期间内对高纯硅贡献小于400份每万亿份的杂质，且所述炉子在相同加热条件下对高纯硅贡献平均小于400份每万亿份的杂质。
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公开(公告)号：CN108731477A
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201710277767.2
申请日：2017-04-25
Applicant: 湖北双星药业股份有限公司
Inventor： 廖先传
CPC classification number: F27B17/0033 , F27D1/0003 , F27D7/06 , F27D11/00 , F27D19/00 , F27D2007/063
Abstract: 一种高温升降电炉，包括炉壳，设置在炉壳内部的炉膛和炉底升降平台，所述炉壳包括炉体和炉顶，所述炉体的底部设置有炉底升降平台，所述炉底升降平台的上方连接有用于封闭炉膛内腔的炉门，所述炉顶上设置有加热元件和排气管，所述加热元件伸入炉膛内部，所述炉膛下方设置有连通炉膛内部与外界的进气管，其特征在于：所述炉壳的外围设置有隔层，所述隔层的一侧与炉膛的上部相连通，隔层的另一侧与排气管相连通。本发明结构简单、保温效果好、能耗低、对环境污染小。
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公开(公告)号：CN108489268A
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201810307781.7
申请日：2018-04-08
Applicant: 陕西盛华冶化有限公司
CPC classification number: F27B17/0033 , F27D3/00 , F27D11/06 , F27D2003/0034
Abstract: 本发明涉及冶金技术领域，具体是一种模块化的微波冶金炉及其使用方法，具体包括炉体以及炉体内部的炉腔，所述炉体下方设置支撑机构，所述炉体与炉体内部的炉腔之间填充模块化耐高温保温材料，所述炉体侧壁设置烟道，所述烟道的一端与炉腔连通，所述烟道的另一端穿过炉体与外界大气相通，所述炉体顶部设置微波发射端，所述炉体设置测温孔、测压孔和观测孔，所述测温孔、测压孔和观测孔分别与炉腔连通。本发明解决了传统小块耐火砖和耐火棉砌筑复杂、耗时的问题。
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公开(公告)号：CN103392107B
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201280009867.2
申请日：2012-01-05
Applicant: 株式会社村田制作所
CPC classification number: F27B17/0016 , F27B17/0033 , F27B17/0083
Abstract: 一种升降式热处理炉，能防止粘合剂分解气体呈焦油状地蓄积在升降台的表面及炉主体的底部。本发明的升降式热处理炉(1)具有：炉主体(10)；开口部(26)，该开口部(26)形成于炉主体(10)的底部；加热器(36)，该加热器(36)配置在炉主体(10)的内部；以及升降台(12)，该升降台(12)通过与炉主体(10)的开口部(26)靠近或分离来使被热处理物进入或退出炉主体(10)的内部。此外，密封部(28)配置在炉主体(10)的底部与升降台(12)的间隙中。另外，气体吹出口(52c)构成为将与炉主体(10)的内部的气氛气体相同种类的气体朝向升降台(12)的侧面吹出。
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公开(公告)号：CN103149326A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201310042914.X
申请日：2009-09-24
Applicant: 赫姆洛克半导体公司
CPC classification number: F27B17/0033 , C01B33/021 , C01B33/037 , C30B29/06 , C30B33/02 , C30B35/00 , F27D19/00 , F27D2019/0006
Abstract: 测定污染高纯硅的污染材料中杂质的量的方法，包括在污染材料中部分地包埋高纯硅的样品的步骤。将包埋在污染材料中的样品在炉子内加热。测定在加热步骤之后高纯硅的杂质含量与在加热步骤之前高纯硅的杂质含量相比的变化。用于热处理高纯硅的炉子，包含限定加热室的外壳。所述外壳至少部分地由低污染物材料形成，所述低污染物材料在于退火温度下加热历时足以使高纯硅退火的时间期间内对高纯硅贡献小于400份每万亿份的杂质，且所述炉子在相同加热条件下对高纯硅贡献平均小于400份每万亿份的杂质。
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