-
公开(公告)号：CN104155313B
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201410437602.3
申请日：2010-09-01
Applicant: 克拉-坦科股份有限公司
Inventor： D·坎戴尔 , V·列文斯基 , A·斯维泽 , J·塞利格松 , A·希尔 , O·巴卡尔 , A·马纳森 , Y-H·A·庄 , I·塞拉 , M·马克维兹 , D·纳格利 , E·罗特姆
IPC: G01N21/956
CPC classification number: G01N21/47 , G01B11/02 , G01B11/0641 , G01B2210/56 , G01N21/211 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/4792 , G01N2201/06113 , G01N2201/105 , G03F7/70625 , G03F7/70633
Abstract: 提供了计量系统以及方法。所述计量系统包括：被配置成产生衍射受限光束的光源；变迹器，所述变迹器被配置成在照射光学器件的入射光瞳中使所述光束成形；光学元件，所述光学元件被配置成将所述衍射受限光束从所述变迹器定向到晶片上的光栅靶上的所述照射斑并且收集来自所述光栅靶的散射光；被配置成拒绝一部分所收集散射光的视场光阑；检测器，所述检测器被配置成检测穿过所述视场光阑的散射光并且响应于检测到的散射光生成输出以使所述光栅靶由所述计量系统使用散射计量来测量；以及被配置成使用所述输出来确定所述光栅靶的特性的计算机系统。
-
公开(公告)号：CN103329167B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201180045204.1
申请日：2011-08-01
Applicant: 克拉-坦科股份有限公司
IPC: G06T7/60
CPC classification number: G06T7/001 , G06T2207/10061 , G06T2207/20021 , G06T2207/20056 , G06T2207/30148
Abstract: 本发明包括：搜索图像数据以标识半导体晶片上的一个或多个图案化区域；生成一个或多个虚拟傅里叶滤波器（VFF）工作区；从VFF工作区采集初始图像数据集；利用初始图像数据集来将VFF训练块限定在VFF工作区的所标识图案化区域内，其中每一VFF训练块被限定为涵盖所标识图案化区域的显示所选重复图案的部分；利用来自VFF训练块的初始图像数据集来计算每一VFF训练块的初始频谱；以及通过标识在频域中初始频谱的具有最大值的频率来生成每一训练块的VFF，其中VFF被配置成在标识为显示频谱最大值的频率处使初始频谱的幅值为零。
-
公开(公告)号：CN102771194B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201180006694.4
申请日：2011-01-11
Applicant: 克拉-坦科股份有限公司
IPC: H05H1/46 , G01N27/60 , H01L21/205
CPC classification number: H01J37/32954 , G01R19/0061 , H01J37/32 , H01J37/32917 , H01J37/32935 , H01L21/67069 , H01L21/67253 , H01L22/34
Abstract: 用于测量用来处理工件的等离子体腔中的等离子体工艺参数的感测设备可以包括衬底以及嵌入在衬底中的一个或多个传感器。衬底可以具有由与在等离子体腔中被等离子体处理的工件实质上相同的材料制成的表面。每个传感器可以包括由与衬底表面实质上相同的材料制成的收集器部分。收集器部分包括与衬底的表面水平的表面。传感器电子设备嵌入到衬底中且耦合到收集器部分。当衬底表面暴露于等离子体时，可以借助于（多个）传感器测量从等离子体得到的一个或多个信号。
-
公开(公告)号：CN102960084B
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201180032660.2
申请日：2011-03-30
Applicant: 克拉-坦科股份有限公司
IPC: B23Q41/02
CPC classification number: H05K13/021 , G01B11/03 , H05K13/089 , Y10T29/49131
Abstract: 揭示了一种用于将电子器件放入一输入介质的隔室中的方法。至少一个电子器件可被包在该输入介质的单个隔室中。通过一检查设备，对该输入介质的上侧之上的已知位置进行成像。基于这些已知位置的图像、这些已知位置的给定目标位置数据以及该输入介质的隔室的给定目标位置数据，计算该输入介质的隔室的实际位置数据。基于该输入介质的隔室的计算出的实际位置数据，控制用于这些电子器件的拾取和放置设备。揭示了一种用于确定一输出介质的隔室的实际位置的方法，该方法具有类似的步骤，其中，这些电子器件被从该输入介质的隔室中拾起来、被转移到该输出介质的隔室并且被放入该输出介质的隔室中。也揭示了用于将多个电子器件放入输入介质的隔室和输出介质的隔室中的排布系统。
-
公开(公告)号：CN102484084B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201080033733.5
申请日：2010-07-12
Applicant: 克拉-坦科股份有限公司
IPC: H01L21/66
CPC classification number: H01L22/12 , G03F7/70516 , G03F7/70625 , G03F7/70641 , G03F7/7065
Abstract: 描述了使用设计和缺陷数据来匹配多个扫描仪的系统以及方法。使用金工具来处理金晶片。使用第二工具来处理第二晶片。两种工具提供聚焦/曝光调制。可比较两个晶片的临界结构的晶片级空间签名以评价扫描仪的行为。通过面元划分金晶片上具有类似图案的缺陷来标识临界结构。在一个实施例中，签名必须在特定百分比内匹配，否则第二工具被表征为“不匹配”。分划板可以类似的方式比较，其中分别使用金分划板和第二分划板来处理金晶片和第二晶片。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103460338A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201280016390.0
申请日：2012-01-24
Applicant: 克拉-坦科股份有限公司
CPC classification number: G01K17/00 , H01L21/67248
Abstract: 一种工艺条件测量设备(PCMD)可包括第一和第二衬底组件。一个或多个温度传感器被嵌入到每个衬底组件中。第一和第二衬底组件被夹设在一起以使第二衬底组件中的每个温度传感器串联对准于第一衬底组件中的相应温度传感器。替代地，第一和第二温度传感器可在同一衬底中并联地设置。当PCMD受工件加工工具中的工艺条件作用时，可测量多对相应的温度传感器之间的温度差。可从这些温度差计算出工具中的工艺条件。
-
公开(公告)号：CN103038861A
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201180037316.2
申请日：2011-07-28
Applicant: 克拉-坦科股份有限公司
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70633 , G03F7/70683
Abstract: 公开了一种用于基于成像的计量的多层重叠标靶。该重叠标靶包含多个标靶结构，该多个标靶结构包括三个或更多个标靶结构，各标靶结构包括一组两个或更多个图案元素，其中所述标靶结构被配置为，一旦所述标靶结构对齐时共享公共对称中心，各标靶结构围绕该公共对称中心对于N度旋转不变，其中N等于或大于180度，其中该两个或更多个图案元素中的每一个具有单独的对称中心，其中各标靶结构的两个或更多个图案元素的每一个围绕该单独对称中心对于M度旋转不变，其中M等于或大于180度。
-
公开(公告)号：CN102859265A
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN201180021092.6
申请日：2011-04-28
Applicant: 克拉-坦科股份有限公司
Inventor： A·希尔
IPC: F21S2/00 , F21V5/00 , F21V8/00 , F21V29/00 , F21Y101/02
CPC classification number: G02B21/084 , F21W2131/406 , F21Y2115/10 , G01N21/8806 , G01N2021/8816 , G01N2021/8822 , G01N2201/0631 , G01N2201/0638 , G02B21/10 , G02B27/0927
Abstract: 本发明揭示了一种具有环状排列光源的环形光照明器。对于每个光源对应有光束成形器，该光束成形器包括聚光器、来自光源的光的均匀化装置以及用于将均匀化装置的输出成像到要照明区域上的成像装置。各个实施例中的均匀化装置为将来自聚光器的光引导至其中的棒。与聚光器相对的棒的端部通过成像装置被成像到要照明区域中。
-
公开(公告)号：CN102668052A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080039744.4
申请日：2010-09-01
Applicant: 克拉-坦科股份有限公司
Inventor： D·坎戴尔 , V·列文斯基 , A·斯维泽 , J·塞利格松 , A·希尔 , O·巴卡尔 , A·马纳森 , Y-H·A·庄 , I·塞拉 , M·马克维兹 , D·纳格利 , E·罗特姆
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G01N21/47 , G01B11/02 , G01B11/0641 , G01B2210/56 , G01N21/211 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/4792 , G01N2201/06113 , G01N2201/105 , G03F7/70625 , G03F7/70633
Abstract: 提供了各种计量系统以及方法。
-
公开(公告)号：CN102576045A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201080030311.2
申请日：2010-06-23
Applicant: 克拉-坦科股份有限公司
IPC: G01R31/26
CPC classification number: G01R31/2656 , G01R31/2894 , G05B19/41875 , G05B2219/37224 , H01L22/12 , H01L22/20 , H01L2924/0002 , Y02P90/22 , H01L2924/00
Abstract: 公开了监视时变的分类性能的系统和方法。一种方法可包括但不限定于：从一个或更多个扫描检验工具接收指示一个或更多个样本的一种或更多种属性的一个或更多个信号；根据对从这一个或更多个扫描检验工具收到的一个或更多个信号应用一种或更多种分类规则来确定这一个或更多个样本的一种或更多种缺陷类型的种群；使用一个或更多个高分辨率的检验工具来确定这一个或更多个样本的这一种或更多种缺陷类型的种群；以及计算从应用到接收自这一个或更多个扫描检验工具的一个或更多个信号的一种或更多种分类规则的应用确定的一个或更多个样本的一种或更多种缺陷类型的种群与使用这一个或更多个高分辨率的检验工具确定的这一个或更多个样本的这一种或更多种缺陷类型的种群之间的一个或更多个相关性。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
53
records
(took 0.124 seconds)
