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公开(公告)号:CN111836920A
公开(公告)日:2020-10-27
申请号:CN201980018372.8
申请日:2019-01-25
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 本发明的利用EFG法的单晶生长用的模具具备:下表面,其浸渍于添加有杂质的原料熔融液中;矩形状的上表面,其与晶种相对且具有长边和短边;以及多个狭缝部,其从下表面向上表面延伸,且使原料熔融液从下表面上升至上表面。多个狭缝部的上表面处的开口部的长边方向各自相互平行,且相对于上表面的长边不平行。
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公开(公告)号:CN113195800A
公开(公告)日:2021-07-30
申请号:CN201980080253.5
申请日:2019-12-03
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 本发明是收纳单晶生长用原料熔融液(8)并使其固化的单晶生长用坩埚(5A),其具备:围绕原料熔融液(8)的侧壁部(5s)、及连续于侧壁部(5s)并支撑原料熔融液(8)的底部(5b),侧壁部(5s)在横截面图中,在内侧具有周长冗余性。侧壁部(5s)在横截面图中,在任一部位上在内侧具有周长冗余的部位,如果在单晶生长后的冷却步骤中单晶生长用坩埚(5A)被冷却,则在横截面图中,在内侧周长冗余的部位向单晶生长用坩埚(5A)的外侧扩展。
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公开(公告)号:CN113195800B
公开(公告)日:2024-09-03
申请号:CN201980080253.5
申请日:2019-12-03
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 本发明是收纳单晶生长用原料熔融液(8)并使其固化的单晶生长用坩埚(5A),其具备:围绕原料熔融液(8)的侧壁部(5s)、及连续于侧壁部(5s)并支撑原料熔融液(8)的底部(5b),侧壁部(5s)在横截面图中,在内侧具有周长冗余性。侧壁部(5s)在横截面图中,在任一部位上在内侧具有周长冗余的部位,如果在单晶生长后的冷却步骤中单晶生长用坩埚(5A)被冷却,则在横截面图中,在内侧周长冗余的部位向单晶生长用坩埚(5A)的外侧扩展。
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