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公开(公告)号：CN1266536A
公开(公告)日：2000-09-13
申请号：CN98808023.0
申请日：1998-07-29
Applicant: SI戴梦德技术公司
Inventor： 志丹·李·特尔
IPC: H01J1/02
CPC classification number: C23C16/26 , H01J1/304 , H01J31/127 , H01J2201/30453 , H01J2329/0444
Abstract: 一种用于场发射阴极的碳膜(703),是在衬底(803)上的碳膜薄层。该碳膜在1578～1620cm-1的范围内有一最大高度1/2处的全宽度为25～165cm-1的紫外喇曼带。
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