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公开(公告)号：CN1854841A
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：CN200610077307.7
申请日：2006-04-26
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G02F1/1333 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: H01L27/124 , G02F1/134363 , G02F1/136286
Abstract: 公开了一种光致抗蚀剂膜，其以至少覆盖源电极、源极线、象素电极、漏电极、漏极线、半导体膜和保护膜以及进一步覆盖它们附近的栅绝缘膜的方式形成。进一步，使用该光致抗蚀剂膜作为掩模顺序执行湿及干蚀刻。由于这种蚀刻，存在于栅绝缘膜上的剩余图形被蚀刻掉。
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