公开(公告)号：CN116978912A

公开(公告)日：2023-10-31

申请号：CN202310479173.5

申请日：2023-04-28

Applicant: 三星显示有限公司 ,  TES股份有限公司 ,  LTC有限公司

Inventor： 赵国来 ,  金炯式 ,  曺雨辰 ,  李钟淳 ,  李洪宰 ,  金圭祥 ,  金善正 ,  马熙铨 ,  朴元一 ,  卞杞天 ,  李愚嗔

IPC: H01L27/12 ,  H01L21/77

Abstract: 本发明涉及制造显示设备的方法。制造显示设备的方法包括在基板上形成半导体层，在半导体层上形成绝缘层，在绝缘层上形成光致抗蚀剂图案，通过蚀刻绝缘层形成暴露半导体层的至少一部分的接触孔，以及使用包括含氟气体和含氢气体的清洁气体对其中形成接触孔的绝缘层进行一次清洁。

公开(公告)号：CN114651215A

公开(公告)日：2022-06-21

申请号：CN202080078373.4

申请日：2020-11-18

Applicant: LTC有限公司

Inventor： 崔好星 ,  金圭祥 ,  李锺淳 ,  河相求 ,  全炳宇 ,  梁允模 ,  卞杞天 ,  崔然洙 ,  金善正

IPC: G03F7/42 ,  C11D11/00 ,  C11D7/32 ,  C11D7/36 ,  C11D7/26 ,  C11D7/50

Abstract: 本发明涉及一种用于制造显示器的光刻胶剥离液组合物，涉及一种能够用于制造显示器的所有工艺的光刻胶剥离液组合物。更具体地，本发明的用于制造显示器的光刻胶剥离液组合物能够应用于所有过渡金属及氧化物半导体电线，具有优异的去除在硬烘烤(Hard Baked)工艺、注入(Implant)工艺及干法蚀刻(Dry Etch)工艺后产生的变性的光刻胶的能力。尤其，示出对于干法蚀刻后易受腐蚀的铜(Cu)线图案边缘部分进一步特化的腐蚀抑制效果。