用于制造液晶显示的光刻胶剥离剂组合物

    公开(公告)号:CN107924144A

    公开(公告)日:2018-04-17

    申请号:CN201680047867.X

    申请日:2016-08-10

    Abstract: 本发明涉及一种用于LCD制造的光刻胶剥离剂组合物,以及一种能够用于制造一种TFT-LCD的所有过程的集成光刻胶剥离剂组合物。更具体地,本发明涉及一种水性光刻胶剥离剂组合物,其能够应用于所有过渡金属、电位金属和氧化物半导体电线中。所述的水性光刻胶剥离剂组合物包括(a)一种电位金属和金属氧化物缓蚀剂、(b)一种过渡金属缓蚀剂、(c)一种伯烷醇胺、(d)一种环醇、(e)水、(f)一种非质子极性有机溶剂、和(g)一种质子极性有机溶剂,其中所述的光刻胶剥离剂组合物在半导体或平面显示面板过程中,有优异去除在进行硬烘烤工艺、注入工艺和干法蚀刻工艺后产生的降解的光刻胶的能力,可以同时应用于铝(其为电位金属)、铜或银(其为过渡金属)、和同样地,金属氧化物电线,并且可以被引入有机膜和COA工艺中。

    用于液晶显示器制造工艺的包含伯烷烃醇胺的光刻胶剥离组合物

    公开(公告)号:CN102486620B

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:CN201110271127.3

    申请日:2011-09-14

    Abstract: 本发明公开了一种用于液晶显示器(LCD)制造工艺的光刻胶剥离组合物,其用作所有薄膜晶体管-液晶显示器(TFT-LCD)制造工艺中通用的光刻胶剥离组合物。所述光刻胶剥离组合物包含:(a)1-20重量%的伯烷烃醇胺;(b)10-60重量%的醇;(c)0.1-50重量%的水;(d)5-50重量%的极性有机溶剂;以及(e)0.01-3重量%的阻蚀剂。所述剥离组合物具有在光刻工艺之后去除残留改性光刻胶的优良能力,适用于铝布线和铜布线,并用在有机膜形成工艺和正版标签(COA)工艺中。当所述剥离组合物用在由沸点为150℃或更高的醇和水组成的混合物中时,其防腐蚀能力提高并且预期寿命增加。

    用于制造LCD的光致抗蚀剂剥离组合物

    公开(公告)号:CN102216855B

    公开(公告)日:2013-11-13

    申请号:CN201080001518.7

    申请日:2010-08-19

    Inventor: 崔好星

    CPC classification number: G03F7/422 C11D11/0047 G03F7/425

    Abstract: 本发明涉及一种用于所有的LCD的制造工艺的光致抗蚀剂剥离组合物,更具体而言,本发明涉及作为弱碱性复合物的水性结合的光致抗蚀剂剥离组合物,所述组合物包含叔烷醇胺、水和有机溶剂。本发明的组合物防止Al和Cu金属线在LCD的制造过程中的腐蚀,具有良好的除去光致抗蚀剂的能力,并应用于所有的Al工艺、Cu工艺、有机膜工艺和COA工艺。

    用于制造LCD的光致抗蚀剂剥离组合物

    公开(公告)号:CN102216855A

    公开(公告)日:2011-10-12

    申请号:CN201080001518.7

    申请日:2010-08-19

    Inventor: 崔好星

    CPC classification number: G03F7/422 C11D11/0047 G03F7/425

    Abstract: 本发明涉及一种用于所有的LCD的制造工艺的光致抗蚀剂剥离组合物,更具体而言,本发明涉及作为弱碱性复合物的水性结合的光致抗蚀剂剥离组合物,所述组合物包含叔烷醇胺、水和有机溶剂。本发明的组合物防止Al和Cu金属线在LCD的制造过程中的腐蚀,具有良好的除去光致抗蚀剂的能力,并应用于所有的Al工艺、Cu工艺、有机膜工艺和COA工艺。

    用于液晶显示器制造工艺的包含伯烷烃醇胺的光刻胶剥离组合物

    公开(公告)号:CN105676602A

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201610079171.7

    申请日:2011-09-14

    CPC classification number: G03F7/425

    Abstract: 本发明公开了一种用于液晶显示器(LCD)制造工艺的光刻胶剥离组合物,其用作所有薄膜晶体管-液晶显示器(TFT-LCD)制造工艺中通用的光刻胶剥离组合物。所述光刻胶剥离组合物包含:(a)1-20重量%的伯烷烃醇胺;(b)10-60重量%的醇;(c)0.1-50重量%的水;(d)5-50重量%的极性有机溶剂;以及(e)0.01-3重量%的阻蚀剂。所述剥离组合物具有在光刻工艺之后去除残留改性光刻胶的优良能力,适用于铝布线和铜布线,并用在有机膜形成工艺和正版标签(COA)工艺中。当所述剥离组合物用在由沸点为150℃或更高的醇和水组成的混合物中时,其防腐蚀能力提高并且预期寿命增加。

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