公开(公告)号：CN102486620B

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：CN201110271127.3

申请日：2011-09-14

Applicant: LTC有限公司

Inventor： 崔好星 ,  全汶教 ,  裵钟一 ,  李钟淳 ,  梁惠星

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明公开了一种用于液晶显示器(LCD)制造工艺的光刻胶剥离组合物，其用作所有薄膜晶体管-液晶显示器(TFT-LCD)制造工艺中通用的光刻胶剥离组合物。所述光刻胶剥离组合物包含：(a)1-20重量％的伯烷烃醇胺；(b)10-60重量％的醇；(c)0.1-50重量％的水；(d)5-50重量％的极性有机溶剂；以及(e)0.01-3重量％的阻蚀剂。所述剥离组合物具有在光刻工艺之后去除残留改性光刻胶的优良能力，适用于铝布线和铜布线，并用在有机膜形成工艺和正版标签(COA)工艺中。当所述剥离组合物用在由沸点为150℃或更高的醇和水组成的混合物中时，其防腐蚀能力提高并且预期寿命增加。

公开(公告)号：CN105676602A

公开(公告)日：2016-06-15

申请号：CN201610079171.7

申请日：2011-09-14

Applicant: LTC有限公司

Inventor： 崔好星 ,  全汶教 ,  裵钟一 ,  李钟淳 ,  梁惠星

IPC: G03F7/42

CPC classification number: G03F7/425

Abstract: 本发明公开了一种用于液晶显示器(LCD)制造工艺的光刻胶剥离组合物，其用作所有薄膜晶体管-液晶显示器(TFT-LCD)制造工艺中通用的光刻胶剥离组合物。所述光刻胶剥离组合物包含：(a)1-20重量％的伯烷烃醇胺；(b)10-60重量％的醇；(c)0.1-50重量％的水；(d)5-50重量％的极性有机溶剂；以及(e)0.01-3重量％的阻蚀剂。所述剥离组合物具有在光刻工艺之后去除残留改性光刻胶的优良能力，适用于铝布线和铜布线，并用在有机膜形成工艺和正版标签(COA)工艺中。当所述剥离组合物用在由沸点为150℃或更高的醇和水组成的混合物中时，其防腐蚀能力提高并且预期寿命增加。

公开(公告)号：CN110622071A

公开(公告)日：2019-12-27

申请号：CN201980001421.7

申请日：2019-04-16

Applicant: LTC有限公司

Inventor： 崔好星 ,  金圭祥 ,  裵钟一 ,  李钟淳 ,  河相求 ,  梁允模

IPC: G03F7/42 ,  C11D11/00 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D7/50

Abstract: 本发明是形成微电路的PCB的制造用,尤其是可用于多层挠性PCB(Flexible Multi-layer Printed Circuit Board)制造工程的干膜光阻剥离液组合物相关的发明。

公开(公告)号：CN102486620A

公开(公告)日：2012-06-06

申请号：CN201110271127.3

申请日：2011-09-14

Applicant: LTC有限公司

Inventor： 崔好星 ,  全汶教 ,  裵钟一 ,  李钟淳 ,  梁惠星

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明公开了一种用于液晶显示器(LCD)制造工艺的光刻胶剥离组合物，其用作所有薄膜晶体管-液晶显示器(TFT-LCD)制造工艺中通用的光刻胶剥离组合物。所述光刻胶剥离组合物包含：(a)1-20重量％的伯烷烃醇胺；(b)10-60重量％的醇；(c)0.1-50重量％的水；(d)5-50重量％的极性有机溶剂；以及(e)0.01-3重量％的阻蚀剂。所述剥离组合物具有在光刻工艺之后去除残留改性光刻胶的优良能力，适用于铝布线和铜布线，并用在有机膜形成工艺和正版标签(COA)工艺中。当所述剥离组合物用在由沸点为150℃或更高的醇和水组成的混合物中时，其防腐蚀能力提高并且预期寿命增加。