用于贯穿离子阱结构的激光使用的基于MEMS的三维离子阱装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN107077643A

    公开(公告)日:2017-08-18

    申请号:CN201580058431.6

    申请日:2015-10-30

    Abstract: 在本发明的实施例中,提供一种离子阱装置及其制造方法,所述离子阱装置的基板的上侧或者下侧包括第一RF电极轨、第二RF电极轨、一个以上的第一DC电极及一个以上的第二DC电极,其特征在于,所述基板在以所述离子阱装置的宽度方向为基准而一侧和另一侧相隔一定距离而分离的空间内形成离子阱,所述第一RF电极轨和所述第二RF电极轨沿着所述离子阱装置的长度方向并行布置,所述第一RF电极轨位于所述一侧的上部,所述一个以上的第二DC电极位于所述一侧的下部,所述一个以上的第一DC电极位于所述另一侧的上部,所述第二RF电极轨位于所述另一侧的下部,具有从所述基板的一侧或者另一侧的外侧面连接至所述阱区域的激光贯穿路径。

    防止露出绝缘层的离子阱装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN107111788A

    公开(公告)日:2017-08-29

    申请号:CN201580058912.7

    申请日:2015-10-30

    Abstract: 本发明的实施例提供一种离子阱装置及其制造方法,所述离子阱装置包括一个以上的中央DC电极,它们在半导体基板上包括DC连接垫以及与所述DC连接垫连接的DC轨;RF电极,其包括与所述DC轨相邻的一个以上的RF轨以及与所述一个以上的RF轨连接的RF垫;一个以上的侧方电极,它们包括以所述RF电极为基准位于所述DC电极的相反侧的一个以上的侧方电极垫;以及绝缘层,在所述半导体基板的上部支撑各电极中的至少一个电极;所述绝缘层包括第一绝缘层和位于所述第一绝缘层的上部的第二绝缘层,所述第二绝缘层具有在宽度方向上比所述第一绝缘层突出的突出部(Overhang)。

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