公开(公告)号：CN102498439B

公开(公告)日：2015-03-11

申请号：CN201080041184.6

申请日：2010-09-17

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 浅野裕介 ,  佐藤光央 ,  中岛浩光 ,  笠原一树 ,  大泉芳史 ,  堀雅史 ,  川上峰规 ,  松田恭彦 ,  中原一雄

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/26 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0392 ,  C08F20/22 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]。——A——R1(x)。

公开(公告)号：CN103472674A

公开(公告)日：2013-12-25

申请号：CN201310320010.9

申请日：2010-09-17

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 浅野裕介 ,  佐藤光央 ,  中岛浩光 ,  笠原一树 ,  大泉芳史 ,  堀雅史 ,  川上峰规 ,  松田恭彦 ,  中原一雄

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F20/22

CPC classification number: G03F7/0392 ,  C08F20/22 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]

公开(公告)号：CN102077144B

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：CN200980125353.1

申请日：2009-07-14

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 若松刚史 ,  堀雅史 ,  藤原考一 ,  杉浦诚

IPC: G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/40 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2024 ,  H01L21/0273

Abstract: 本发明提供一种抗蚀图不溶化树脂组合物，其是在包含以下工序(1)～(4)的抗蚀图形成方法的工序(2)中使用的抗蚀图不溶化树脂组合物，其包含具有规定的重复单元的树脂和溶剂，所述工序为：工序(1)利用第一正型放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成第一抗蚀图；工序(2)在第一层抗蚀图上形成不溶于显影液和第二正型放射线敏感性树脂组合物的不溶化抗蚀图；工序(3)利用第二正型放射线敏感性树脂组合物形成第二抗蚀剂层，并介由掩模进行曝光；工序(4)显影而形成第二抗蚀图。

公开(公告)号：CN102498439A

公开(公告)日：2012-06-13

申请号：CN201080041184.6

申请日：2010-09-17

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 浅野裕介 ,  佐藤光央 ,  中岛浩光 ,  笠原一树 ,  大泉芳史 ,  堀雅史 ,  川上峰规 ,  松田恭彦 ,  中原一雄

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/26 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0392 ,  C08F20/22 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]——A——R1(x)。

公开(公告)号：CN103472674B

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：CN201310320010.9

申请日：2010-09-17

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 浅野裕介 ,  佐藤光央 ,  中岛浩光 ,  笠原一树 ,  大泉芳史 ,  堀雅史 ,  川上峰规 ,  松田恭彦 ,  中原一雄

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F20/22

CPC classification number: G03F7/0392 ,  C08F20/22 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、‑CO‑O‑*或者‑SO2‑O‑*(“*”表示与R1结合的结合位点)]。

公开(公告)号：CN102187282A

公开(公告)日：2011-09-14

申请号：CN200980141606.4

申请日：2009-10-21

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 矢田勇二 ,  庵野祐亮 ,  柿泽友洋 ,  堀雅史 ,  三田伦广 ,  若松刚史

IPC: G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0273 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0037 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂图案涂布剂，其在包括：使用第一放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成第一抗蚀剂图案的工序(1)、用抗蚀剂图案涂布剂对上述第一抗蚀剂图案进行处理的工序(2)和使用第二放射线敏感性树脂组合物，在用抗蚀剂图案涂布剂处理过的基板上形成第二抗蚀剂图案的工序(3)的抗蚀剂图案形成方法的工序(2)中使用，含有具有羟基的树脂、和包含30质量％以上的碳原子数3～10的支链烷基醇的溶剂。

公开(公告)号：CN102077144A

公开(公告)日：2011-05-25

申请号：CN200980125353.1

申请日：2009-07-14

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 若松刚史 ,  堀雅史 ,  藤原考一 ,  杉浦诚

IPC: G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/40 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2024 ,  H01L21/0273

Abstract: 本发明提供一种抗蚀图不溶化树脂组合物，其是在包含以下工序(1)～(4)的抗蚀图形成方法的工序(2)中使用的抗蚀图不溶化树脂组合物，其包含具有规定的重复单元的树脂和溶剂，所述工序为：工序(1)利用第一正型放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成第一抗蚀图；工序(2)在第一层抗蚀图上形成不溶于显影液和第二正型放射线敏感性树脂组合物的不溶化抗蚀图；工序(3)利用第二正型放射线敏感性树脂组合物形成第二抗蚀剂层，并介由掩模进行曝光；工序(4)显影而形成第二抗蚀图。