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公开(公告)号：CN109328321A
公开(公告)日：2019-02-12
申请号：CN201780039092.6
申请日：2017-06-21
Applicant: H.E.F.公司 , 让·莫纳圣埃蒂安大学 , 国家科学研究中心
Abstract: 本发明涉及一种用于表面处理特别是表面微观纹理化的光学掩模(35)的制造系统(2)，所述系统(2)包括：具有暴露于外部环境的外表面(21)的材料层(20)；生成和沉积装置，用于在所述材料层(20)的外表面(21)上生成和沉积液滴(30)，所述液滴形成特定的排列(31)，从而在材料层(20)的外表面(21)上形成光学掩模(35)。本发明还涉及包括所述类型的系统(2)的处理装置。本发明还涉及制备掩模的方法以及表面处理方法。
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公开(公告)号：CN109416506B
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN201780038515.2
申请日：2017-06-21
Applicant: H.E.F.公司 , 让·莫纳圣埃蒂安大学 , 国家科学研究中心
Abstract: 本发明涉及一种用于表面微观纹理化的光学掩模(35)的制造系统(2)，所述系统(2)包括：具有待纹理化的表面(11)的基板(10)；覆盖基板(10)表面(11)并具有暴露于外部环境的外表面(21)的材料层(20)；生成和沉积装置，用于在所述材料层(20)的外表面(21)上生成和沉积液滴(30)，所述液滴通过冷凝形成特定的排列(31)，从而在所述材料层(20)的外表面(21)上形成光学掩模(35)。本发明还涉及包括所述类型的系统(2)的处理装置。本发明还涉及制备掩模的方法以及表面微观纹理化方法。
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公开(公告)号：CN109416506A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780038515.2
申请日：2017-06-21
Applicant: H.E.F.公司 , 让·莫纳圣埃蒂安大学 , 国家科学研究中心
Abstract: 本发明涉及一种用于表面微观纹理化的光学掩模(35)的制造系统(2)，所述系统(2)包括：具有待纹理化的表面(11)的基板(10)；覆盖基板(10)表面(11)并具有暴露于外部环境的外表面(21)的材料层(20)；生成和沉积装置，用于在所述材料层(20)的外表面(21)上生成和沉积液滴(30)，所述液滴通过冷凝形成特定的排列(31)，从而在所述材料层(20)的外表面(21)上形成光学掩模(35)。本发明还涉及包括所述类型的系统(2)的处理装置。本发明还涉及制备掩模的方法以及表面微观纹理化方法。
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公开(公告)号：CN109328321B
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN201780039092.6
申请日：2017-06-21
Applicant: H.E.F.公司 , 让·莫纳圣埃蒂安大学 , 国家科学研究中心
Abstract: 本发明涉及一种用于表面处理特别是表面微观纹理化的光学掩模(35)的制造系统(2)，所述系统(2)包括：具有暴露于外部环境的外表面(21)的材料层(20)；生成和沉积装置，用于在所述材料层(20)的外表面(21)上生成和沉积液滴(30)，所述液滴形成特定的排列(31)，从而在材料层(20)的外表面(21)上形成光学掩模(35)。本发明还涉及包括所述类型的系统(2)的处理装置。本发明还涉及制备掩模的方法以及表面处理方法。
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