公开(公告)号：CN104736523A

公开(公告)日：2015-06-24

申请号：CN201380049311.0

申请日：2013-09-26

Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司

Inventor： 中杉茂正 ,  宫崎真治 ,  M·帕德马纳班 ,  A·D·迪奥塞斯

IPC: C07D251/38 ,  C07D251/30 ,  C09D139/04 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明提供一种能够防止浮渣从底部抗反射涂层形成的交联剂，并且还提供了一种用于形成含有所述交联剂的底部抗反射涂层的组合物。所述交联剂是具有至少一个乙烯氧基或N-甲氧基甲基酰胺基团的含氮芳香族化合物，并且所述组合物含有所述交联剂。E1～E3各自独立地选自于由碳原子和氮原子组成的组，但是它们中的至少一个是氮原子；F1～F3各自独立地选自于由氧原子和硫原子组成的组；G1～G3各自独立地选自于由乙烯氧基、N-甲氧基甲基酰胺基团和氢原子组成的组，但是它们中的至少一个是乙烯氧基或N-甲氧基甲基酰胺基团；并且p1～p3各自独立地选自于包括0的整数，但是它们中的至少任何两个至少为1或大于1。

公开(公告)号：CN105324716B

公开(公告)日：2019-09-27

申请号：CN201480024799.6

申请日：2014-05-09

Applicant: AZ电子材料卢森堡有限公司

Inventor： 金志勋 ,  完京秀 ,  宫崎真治 ,  林观阳 ,  吴恒鹏

IPC: G03F7/00

Abstract: 本文中公开和要求保护的是用于定向嵌段共聚物膜中的图案的模板和制造该图案的方法。

公开(公告)号：CN104736523B

公开(公告)日：2017-01-18

申请号：CN201380049311.0

申请日：2013-09-26

Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司

Inventor： 中杉茂正 ,  宫崎真治 ,  M·帕德马纳班 ,  A·D·迪奥塞斯

IPC: C07D251/38 ,  C07D251/30 ,  C09D139/04 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明提供一种能够防止浮渣从底部抗反射涂层形成的交联剂，并且还提供了一种用于形成含有所述交联剂的底部抗反射涂层的组合物。所述交联剂是具有至少一个乙烯氧基或N-甲氧基甲基酰胺基团的含氮芳香族化合物，并且所述组合物含有所述交联剂。E1～E3各自独立地选自于由碳原子和氮原子组成的组，但是它们中的至少一个是氮原子；F1～F3各自独立地选自于由氧原子和硫原子组成的组；G1～G3各自独立地选自于由乙烯氧基、N-甲氧基甲基酰胺基团和氢原子组成的组，但是它们中的至少一个是乙烯氧基或N-甲氧基甲基酰胺基团；并且p1～p3各自独立地

公开(公告)号：CN105324716A

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201480024799.6

申请日：2014-05-09

Applicant: AZ电子材料卢森堡有限公司

Inventor： 金志勋 ,  完京秀 ,  宫崎真治 ,  林观阳 ,  吴恒鹏

IPC: G03F7/00

Abstract: 本文中公开和要求保护的是用于定向嵌段共聚物膜中的图案的模板和制造该图案的方法。

公开(公告)号：CN107074532A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580058373.7

申请日：2015-10-28

Applicant: AZ电子材料卢森堡有限公司

Inventor： 洪圣恩 ,  松本直树 ,  秋山靖 ,  黑泽和则 ,  宫崎真治 ,  林观阳

IPC: B81C1/00

CPC classification number: C09D153/00 ,  B81C1/00031 ,  B81C1/00396 ,  B81C2201/0149 ,  H01J37/32009 ,  H01L21/3081

Abstract: 本发明涉及两种新型方法：“双涂布方法和单涂布方法”，所述方法通过在制图外延法中使用柱阵列从而形成通孔阵列，其中通过在柱的表面上形成疏水性聚(乙烯基芳基)刷从而对柱的表面进行改性。本发明还涉及组合物，所述组合物包含一个链端被反应性官能团封端的聚(乙烯基芳基)疏水性聚合物刷前体、具有抗蚀刻性疏水性嵌段和高度蚀刻性亲水性嵌段的二嵌段共聚物、热产酸剂和溶剂。