假同晶高电子迁移率晶体管功率器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1428870A

    公开(公告)日:2003-07-09

    申请号:CN02116140.2

    申请日:2002-04-19

    CPC classification number: H01L29/7785

    Abstract: 本发明提供了一种在双平面搀杂外延生长衬底上形成的、并可用单一电源电压工作的假同晶高电子迁移率晶体管(PHEMT)功率器件,及其制造方法。该PHEMT功率器件包括:一外延生长的衬底,该衬底包括依次堆叠在半绝缘GaAs衬底上的一GaAs缓冲层、一AlGaAs/GaAs超晶格层、一未搀杂的AlGaAs层、第一搀杂硅层、第一隔离衬、一InGaAs电子输运层、第二隔离衬、具有与第一搀杂硅层不同的搀杂浓度的第二搀杂硅层、一轻度搀杂的AlGaAs层、以及一无搀杂的GaAs封盖层;在该无搀杂的GaAs封盖层上形成、并与其形成欧姆接触的一源电极和一漏电极;以及在该轻度搀杂的AlGaAs层上形成的延伸穿过该无搀杂GaAs封盖层的一栅电极。

    假同晶高电子迁移率晶体管功率器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1222047C

    公开(公告)日:2005-10-05

    申请号:CN02116140.2

    申请日:2002-04-19

    CPC classification number: H01L29/7785

    Abstract: 本发明提供了一种在双平面搀杂外延生长衬底上形成的、并可用单一电源电压工作的假同晶高电子迁移率晶体管(PHEMT)功率器件,及其制造方法。该PHEMT功率器件包括:一外延生长的衬底,该衬底包括依次堆叠在半绝缘GaAs衬底上的一GaAs缓冲层、一AlGaAs/GaAs超晶格层、一未搀杂的AlGaAs层、第一搀杂硅层、第一隔离衬、一InGaAs电子输运层、第二隔离衬、具有与第一搀杂硅层不同的搀杂浓度的第二搀杂硅层、一轻度搀杂的AlGaAs层、以及一无搀杂的GaAs封盖层;在该无搀杂的GaAs封盖层上形成、并与其形成欧姆接触的一源电极和一漏电极;以及在该轻度搀杂的AlGaAs层上形成的延伸穿过该无搀杂GaAs封盖层的一栅电极。

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